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福建省自然科学基金(A0210006)

作品数:5 被引量:19H指数:3
相关作者:刘宝林潘群峰康凌蔡加法黄生荣更多>>
相关机构:厦门大学更多>>
发文基金:福建省自然科学基金国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 5篇GAN
  • 2篇激光
  • 1篇带隙
  • 1篇欧姆接触
  • 1篇温度分布
  • 1篇脉冲
  • 1篇脉冲宽度
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体质量
  • 1篇宽带隙
  • 1篇蓝移
  • 1篇激光剥离
  • 1篇激光器
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇合金
  • 1篇合金化
  • 1篇合金化处理
  • 1篇红移
  • 1篇反射率

机构

  • 4篇厦门大学

作者

  • 4篇刘宝林
  • 2篇潘群峰
  • 1篇洪灵愿
  • 1篇蔡加法
  • 1篇黄生荣
  • 1篇康凌

传媒

  • 1篇光电子.激光
  • 1篇半导体技术
  • 1篇集美大学学报...
  • 1篇液晶与显示
  • 1篇Optoel...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2005
  • 3篇2004
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
掺硅InGaN和掺硅GaN的光学性质的研究被引量:5
2004年
采用光致发光方法研究了采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)在蓝宝石衬底上生长的掺硅InGaN和掺硅GaN材料的光学性质。在室温下,InGaN材料带边峰位置为437.0nm,半高宽为14.3nm;GaN材料带边峰位置为363.4nm,半高宽为9.5nm。进行变温测量发现,随温度的升高,两种材料的发光强度降低,半高宽增大;GaN材料的带边峰值能量位置出现红移现象,与Varshini公式符合较好;InGaN材料的带边峰值能量位置则出现红移 蓝移 红移现象,这与InGaN材料的局域态、热效应以及由于电子 空穴对的形成而造成的无序程度增加有关,对大于140K的峰值能量位置的红移用Varshini公式拟合,符合较好。
康凌刘宝林蔡加法潘群峰
关键词:INGANGAN红移蓝移
p型GaN欧姆接触的研究进展被引量:6
2004年
宽带隙的GaN作为半导体领域研究的热点之一,近年来发展得很快。p型GaN的欧姆接触问题一直阻碍高温大功率GaN基器件的研制。本文讨论了金属化方案的选择、表面预处理和合金化处理等几个问题,回顾了近年来p型GaN欧姆接触的研究进展。
潘群峰刘宝林
关键词:宽带隙GAN欧姆接触合金化处理
AlN /GaN分布布拉格反射器反射率的研究被引量:3
2005年
从理论上推导出分布布拉格反射器(DBR)反射率的计算公式,分析了GaN基材料DBR反射率与单层膜折射率、多层膜的对数、单层膜的厚度等的关系,发现20对AlN/GaN构成的1/4波长DBR的反射率在中心波长410nm下达到了0.9995,分析了DBR反射率随单层厚度波动的影响,并发现随着正偏差的增大,最大反射率对应的波长增大.相同对数AlN/GaN多层膜的反射率比AlGaN/GaN多层膜的反射率大,因此,AlN/GaN比AlGaN/GaN更适合做反射器.
洪灵愿刘宝林
关键词:反射率GANALN
Laser lift-off technique and the re-utilization of GaN-based LED films grown on sapphire substrate被引量:2
2008年
A thin GaN LED film, grown on 2-inch-diameter sapphire substrates, is separated by laser lift-off. Atom force microscopy (AFM) and the double-crystal X-ray diffraction (XRD) have been employed to characterize the performance of Gan before and after the lift-off process. It is demonstrated that the separation and transfer processes do not alter the crystal quality of the GaN films obviously. InGaN/GaN multi-quantum-wells (MQW's) structure is grown on the separated sapphire substrate later and is compared with that grown on the conventional substmte under the same condition by using PL and XRD spectrum.
HUANG Jin ZHENG Qing-hong LIU Bao-lin
关键词:激光器GAN晶体质量
激光剥离GaN/Al_2O_3材料温度分布的解析分析被引量:3
2004年
分析了脉冲激光作用下GaN的衬底剥离过程。利用简化的一维模型,给出一种比较直观的脉冲激光辐照下GaN/Al2O3材料温度分布的解析形式,得到了分界面温度和脉冲宽度的关系。表明,单脉冲作用下分界面的温度与加热时间的平方根成正比,并得出脉冲过后随着深度变化温度梯度的分布。在连续脉冲作用时,分界面的温度呈锯齿状不断升高。
黄生荣刘宝林
关键词:激光剥离温度分布脉冲宽度
共1页<1>
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