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西北工业大学基础研究基金(NPU-FFR-JC20110213)

作品数：1 被引量：3H指数：1
相关作者：黄智斌康文博朱冬梅周万城罗发更多>>
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相关领域：金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇显微结构
  • 1篇溅射
  • 1篇ZRO2薄膜
  • 1篇沉积温度
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇西北工业大学

作者

  • 1篇罗发
  • 1篇周万城
  • 1篇朱冬梅
  • 1篇康文博
  • 1篇黄智斌

传媒

  • 1篇热加工工艺

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
沉积温度对氧化锆薄膜显微结构的影响被引量：3
2012年
采用直流反应磁控溅射工艺在25、300℃沉积温度下分别制备了ZrO2薄膜和YSZ薄膜。结果表明,沉积温度对ZrO2薄膜沉积速率的影响不大,而对YSZ薄膜沉积速率的影响则很大。与YSZ薄膜相比,ZrO2薄膜容易形成结晶态。25℃时所制备的ZrO2薄膜为非晶态,300℃时则为单斜晶体结构,薄膜的结晶程度随沉积温度的升高而提高。而两种温度下制备的YSZ薄膜均为非晶态薄膜。随沉积温度的升高,ZrO2薄膜表面变得致密光滑,而YSZ薄膜表面则变得粗糙不平。
康文博罗发周万城朱冬梅黄智斌
关键词：沉积温度磁控溅射ZRO2薄膜
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