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印刷电路板激光投影成像照明系统均匀性分析被引量：4: 2009年; 针对351 nm波长的XeF准分子激光器,自行设计了用于高精度、高产率、大面积且常规抗蚀剂曝光的印刷电路板(PCB)激光投影成像照明系统。根据准分子激光的部分相干平顶高斯光束(PCFGB)理论模型,对微透镜阵列器(MLA)均束的衍射特性进行了理论分析。由PCFGB分布函数、稳定光强输出的衍射角和菲涅耳-基尔霍夫衍射积分公式,定量分析衍射效应对MLA均束的影响。理论计算表明,微透镜边缘发生菲涅耳衍射和微透镜产生的多光束干涉都能引起光振幅调制,只不过衍射产生的尖峰更明显地出现在光束边缘。同时,由数值积分得到的PCFGB曲线,发现9×9 MLA均束器既能保证多个微透镜产生光束叠加的均匀性,又最大程度地减少了衍射和多光束干涉效应。通过采取加正六边形光阑的方法,不仅能满足大面积无缝扫描光刻的需要,而且能剪裁由衍射引起的光束边缘尖峰。由ZEMAX光学设计软件模拟其效果,显示其加工窗不大于士2%。; 裴文彦周金运梁国均林清华; 关键词：激光技术印刷电路板

投影光刻系统中的掩模硅片相关识别对准技术被引量：2: 2012年; 分析图像相关识别中的纯相位匹配滤波器的模式识别方法,利用该滤波器的相关识别位图计算算法,及其所具有的相干峰尖锐特性与高度旋转敏感特性,分别求取得光刻套刻过程中,掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的精密量化驱动值。将此算法的实施单元建立在一套成型的大面积投影光刻系统中,使得该系统的对位精度与对位效率显著地提高。; 雷亮李浪林周金运王衢; 关键词：激光技术光刻模式识别

应用于光刻领域中的固态紫外激光源的制作被引量：1: 2012年; 以半导体侧泵钇铝石榴石激光器为泵浦源,采用腔内泵浦两块三硼酸铯晶体,产生满足高功率与高光束质量要求的三倍频355nm紫外激光.通过使用法拉第旋转器谐振腔优化设计与热效应补偿提高输出光的光束质量,并且使用体光栅作为输出镜,在实现线宽窄化同时保持准相位匹配的高效性能.该光刻用紫外激光源成功地替代准分子激光器,使用在一套大面积亚纳米级投影式光刻系统上,工作时紫外光输出功率为4.37W,光束质量因子为2.27.; 雷亮李凡林清华周金运冉坐; 关键词：半导体工业光刻技术紫外激光

基于波导管的无缝扫描光刻激光均束设计被引量：1: 2009年; 351nm波长的准分子激光器由光波导管作为激光均束器,直接输出正六角形均匀分布的照明光束,能在大面积激光投影光刻中实现无缝扫描。同目前常用的微透镜阵列器相比制作简单,无须光阑就能直接获取所需要的六角形光束,减少了能量损失。通过合理的假设和理论推算,依据管内最大反射次数就能适当地选取光波导管的长度,既保证了足够的反射次数以维持良好的均匀性,同时又避免了不必要的管长所带来的更多反射损耗。利用ZEMAX光学设计软件模拟和分析了由光波导管输出的照明光。结果表明,输出的六角形光束的相对光通量为96%,近似于平顶的能量分布,呈现出了极好的均匀性。; 裴文彦周金运梁国均林清华; 关键词：准分子激光器光刻光学设计

大面积激光投影成像曝光技术: 2009年; 介绍了大面积激光投影成像曝光系统的构成和工作过程,阐述了其中的关键核心技术如激光照明光学技术、折叠投影光学技术、大面积扫描技术和光学自动对准技术,分析了光学系统的参数、配置以及光路设计等存在的问题,对大面积扫描中的无接缝误差和自动对准中的高精度检测定位等技术上的解决办法作了有益的探讨。; 裴文彦周金运林清华; 关键词：准分子激光器

大面积循环扫描投影光刻对准系统设计和分析: 2009年; 设计了大面积循环扫描投影光刻的高精度对准系统,由CCD传感器、图像识别软件和共焦显微镜组成的光学测量系统和对掩模和基片的相对位置作二维和角度及时修正的精密定位系统两部分组成。标记图像的二维方向扫描分别借助光刻平台的移动和振镜的高频振动来完成。理论分析了标记位矢对准、共焦成像和CCD信号相关双采样关键技术。根据掩模和基片对应位矢的夹角余弦值大小控制基片的旋转和平动,对准更方便快捷;由共焦成像系统二维响应函数的推算,针孔滤波对提高成像分辨率很重要;对CCD像元电荷包实时准确地采样,是排除噪声干扰的关键。; 裴文彦周金运林清华; 关键词：投影光刻激光共焦扫描显微镜

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广东省科技计划工业攻关项目(2007B010400071)