安徽省教育厅科学研究项目(2004kj030)
- 作品数：8 被引量：31H指数：3
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- 相关领域：理学化学工程电子电信一般工业技术更多>>
- Ag-MgF_2复合纳米金属陶瓷薄膜的渗透阈研究被引量：8
- 2006年
- 介绍了几种计算纳米金属颗粒镶嵌于陶瓷基体中而形成的复合纳米金属陶瓷薄膜渗透阈的理论方法,分析了理论方法中所运用模型的特点及其精度.并将Landauer有效介质理论和Priou渗透阈理论应用于Ag-MgF2复合纳米金属陶瓷薄膜的渗透阈计算,所得值分别为0·08和0·14(Ag的体积分数),按Priou渗透阈理论计算的结果与实验结果相符.最后讨论了影响复合金属陶瓷薄膜体系渗透阈的主要因素.
- 曹春斌蔡琪江锡顺宋学萍孙兆奇
- 厚度对ZnS薄膜结构和应力的影响被引量：7
- 2007年
- 用射频磁控溅射法在单晶Si基片上制备了4种不同厚度的ZnS膜,采用XRD和光学干涉相移法对薄膜的微结构和应力进行研究。结构分析表明,不同厚度的ZnS膜均呈多晶状态,并有明显的(220)晶面择优取向,晶体结构为立方晶型(闪锌矿)结构;随着薄膜厚度的增加,平均晶粒尺寸随之增大;薄膜的晶格常数在不同厚度下均比标准值稍大。应力分析表明,随着膜厚的增加,ZnS膜的应力差减小,在厚度为768 nm时的选区范围内应力差最小,应力分布较均匀。
- 马锦马云芳宋学萍孙兆奇
- 关键词：ZNS薄膜射频磁控溅射膜厚微结构
- Au-MgF_2复合纳米颗粒薄膜有效介质理论的颗粒尺寸效应修正被引量：2
- 2006年
- 在研究Au-MgF2复合纳米颗粒薄膜体系的光学行为时,Maxwell-Garnett理论及Bruggeman理论结果与实验结果之间存在一些差异,这些差异主要是由于Maxwell-Garnett理论及Bruggeman理论未考虑复合体系中金属纳米颗粒的尺寸效应。文章在考虑尺寸效应修正的基础上,得出了Maxwell-Garnett及Brugge-man理论结果;这些结果与实验值符合较好。
- 江锡顺曹春斌蔡琪宋学萍孙兆奇
- 关键词：有效介质理论
- 射频溅射Si膜的微结构与光学性质研究被引量：1
- 2009年
- 采用射频磁控溅射法，在300℃衬底温度下制备了不同厚度的Si薄膜，用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计和原子力显微镜（AFM）分别对薄膜的微结构、光学性质及表面形貌进行了测试分析．结果表明：不同时间下制备的两膜均呈多晶状态；在中红外波段内出现了很强的Si—Si吸收峰；在紫外可见光范围，随着膜厚的增加，Si膜的透过率减弱；AFM测出Si膜的颗粒平均直径在5．65～8．41nm之间．
- 宋学萍王佩红孙兆奇
- 关键词：射频磁控溅射微结构光学性质原子力显微镜
- 射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和应力特性被引量：3
- 2007年
- 用JGP560I型超高真空多功能磁控溅射仪在Si(111)衬底上制备了ZnO薄膜。采用X-Ray衍射仪和电子薄膜应力分布测试仪等对其微结构和应力进行了测试分析。研究结果表明,ZnO薄膜具有良好的c轴择优取向;随着薄膜厚度的增加,薄膜中的平均应力减少;膜厚为744 nm时平均应力、应力差均最小,分别为5.973×108Pa、6.159×108Pa,应力分布较均匀。
- 宋学萍周旭孙兆奇
- 关键词：ZNO薄膜射频磁控溅射膜厚微结构
- 溅射超薄Ag膜中的晶格畸变被引量：1
- 2006年
- 用直流溅射法制备了厚度从11.9到189.0 nm的超薄Ag膜。X射线衍射(XRD)分析表明:样品中的Ag均为面心立方多晶结构,粒径从6.3到14.5 nm。通过晶格常数的计算发现:晶格畸变为收缩,且随着粒径的减小收缩率增加,最大值为1.1%。结合不同方法制备纳米Ag材料的研究结果,讨论了影响晶格畸变的主要因素。
- 孙兆奇曹春斌宋学萍
- 关键词：晶格畸变
- 退火温度对溅射Al膜微结构及光学常数的影响被引量：3
- 2005年
- 用直流溅射镀膜工艺在室温Si基片上制备了250nm厚的Al膜,并用X射线衍射及反射式椭偏光谱技术,对薄膜的微结构和光学常数在不同退火温度下的变化进行了测试分析。结构分析表明:退火后的Al膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;随着退火温度由室温20℃左右升高到400℃,薄膜的平均晶粒尺寸由22.8nm增加到25.1nm;平均晶格常数(4.047)略比标准值4.04960小。椭偏光谱测量结果表明:2600～8300光频范围内,退火温度对折射率n影响较小,对吸收系数k的影响较为明显。
- 宋学萍王佩红孙兆奇
- 关键词：退火温度光学常数微结构平均晶粒尺寸镀膜工艺面心立方
- 基底温度对磁控溅射制备ZnO薄膜性能的影响被引量：6
- 2007年
- 利用射频磁控溅射,在Si基底上制备了ZnO薄膜.采用电子薄膜应力分布测试仪、X射线衍射和傅立叶变换红外光谱仪等检测手段研究了基底温度对其应力、微结构及光学性能的影响.ZnO薄膜在(002)晶面具有良好的c轴取向.在基底温度为200～300 ℃范围内,ZnO薄膜具有良好的结晶性能和较均匀的应力分布.红外光谱在430cm-1附近出现了Zn-O键的振动吸收峰.
- 周明飞宋学萍孙兆奇
- 关键词：ZNO薄膜基底温度微结构应力红外光谱
