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国家自然科学基金(11175271)

作品数:8 被引量:29H指数:4
相关作者:陈伟郭红霞郭晓强闫逸华张凤祁更多>>
相关机构:西北核技术研究所清华大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 5篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 3篇质子
  • 3篇总剂量
  • 2篇局域
  • 2篇核反应
  • 2篇
  • 1篇单粒子
  • 1篇单粒子效应
  • 1篇等效性
  • 1篇电子元
  • 1篇电子元器件
  • 1篇氧化物半导体
  • 1篇元器件
  • 1篇设计方法
  • 1篇数值模拟
  • 1篇随机存储器
  • 1篇中子
  • 1篇重离子
  • 1篇重离子辐照
  • 1篇总剂量效应
  • 1篇阻止本领

机构

  • 7篇西北核技术研...
  • 2篇清华大学

作者

  • 4篇郭晓强
  • 4篇郭红霞
  • 4篇陈伟
  • 3篇范如玉
  • 3篇张凤祁
  • 3篇闫逸华
  • 2篇丁李利
  • 2篇韦源
  • 2篇黄流兴
  • 2篇朱金辉
  • 2篇王忠明
  • 2篇罗尹虹
  • 2篇张科营
  • 2篇牛胜利
  • 2篇赵雯
  • 2篇林东生
  • 2篇谢红刚
  • 1篇肖尧
  • 1篇邱孟通
  • 1篇王燕萍

传媒

  • 3篇强激光与粒子...
  • 2篇物理学报
  • 2篇核技术
  • 1篇Journa...

年份

  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 2篇2012
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
电子元器件的微剂量效应研究进展
2012年
高能重离子在其径迹周围局域空间所沉积的微剂量,足以引起器件特性的永久性退化,导致存储器状态无法改变或器件功能异常等现象。本文综述了此领域的国内外研究进展,基于局域总剂量与强库仑斥力两种失效机制,结合几种典型电子元器件的结构特征,介绍了微剂量效应的失效表征,并讨论了其主要影响因素和发展趋势。
闫逸华范如玉郭晓强林东生郭红霞张凤祁陈伟
Flash ROM的X微束辐照试验研究及失效机理分析
2013年
Flash ROM芯片的存储阵列和外围电路均具有较高的辐射易损性,辐射损伤模式多样。为对其辐射敏感电路进行定位和分析,本文采用X射线微束开展局部辐照试验研究。分别研究了存储阵列,译码电路以及电荷泵等不同电路模块所引起的失效表征,利用错误位的逻辑地址映射图,总结错误分布规律,结合相应电路结构对其失效机理进行分析。辐照存储阵列会导致规则分布的0→1翻转错误,而译码电路出错会导致1→0的错误,电荷泵电路退化则会导致器件擦除和写入功能的失效。微束辐照结果可以有效补充全芯片总剂量效应考核的不足,为器件的抗辐射加固提供有益的参考。
闫逸华陈伟郭红霞范如玉邓玉良郭晓强丁李利林东生张科营张凤祁
关键词:FLASHROM
300 eV—1GeV质子在硅中非电离能损的计算被引量:5
2014年
非电离能损(NIEL)引起的位移损伤是导致空间辐射环境中新型光电器件失效的主要因素.引起质子在硅中NIEL的作用机理有库仑相互作用和核相互作用,质子能量范围从位移损伤阈能到1 GeV.当质子能量位于低能区时,库仑相互作用占主导地位,采用解析方法和TRIM程序计算NIEL;当质子能量位于高能区时,NIEL主要来自质子与靶原子核的弹性和非弹性相互作用,使用MCNPX/HTAPE3X进行模拟仿真计算由核反应引起的NIEL.实现了能量范围为300 eV—1 GeV的质子入射硅时NIEL的计算.计算结果表明,MCNPX/HTAPE3X可用于计算高能质子在材料中产生的反冲核所引起的NIEL,结合解析方法和TRIM程序可计算得到由于库仑相互作用引起的NIEL.
朱金辉韦源谢红刚牛胜利黄流兴
关键词:质子库仑相互作用核反应
金属氧化物半导体场效应管长期辐射效应的数值模拟被引量:7
2013年
将粒子输运的蒙特卡罗方法与器件数值模拟的有限体积法相耦合来模拟典型金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的长期辐射效应。二氧化硅中的陷阱电荷及硅中的自由电子和空穴均使用漂移扩散模型来描述,入射粒子的能量沉积可作为源项耦合至漂移扩散模型方程,并根据有限体积法得到控制方程的离散格式,方程的数值解即为MOSFET的长期辐射响应结果。使用该方法模拟了MOSFET受射线粒子辐照后的阈值电压漂移与关态漏电流现象。结果表明,耦合方法适用于典型半导体器件长期辐射效应模拟,其阈值电压漂移及漏电流计算结果与文献符合较好。
韦源谢红刚贡顶朱金辉牛胜利黄流兴
关键词:总剂量效应漏电流
抗辐射能力量化设计方法被引量:3
2015年
抗辐射能力表现为系统技术性能对辐射损伤的敏感程度。抗辐射能力是设计、生产出来的。抗辐射量化设计能力是抗辐射加固技术发展水平的重要标志。根据QMU(性能阈值、裕量和不确定度)的思想,提出量化抗辐射设计,第一要优化系统总体设计,为辐射损伤敏感的技术性能合理地分配裕量;第二要量化系统工作的辐射环境及其不确定度,量化在实际工作的辐射环境中,辐射损伤引起的系统及其器件和结构的技术性能变化和不确定度,综合优化抗辐射措施,确保技术性能变化及其不确定度被有效控制在分配的裕量范围内,最后量化加固设计效果,预测系统抗辐射能力。
范如玉
Worst-case total dose radiation effect in deep-submicron SRAM circuits被引量:3
2012年
The worst-case radiation effect in deep-submicron SRAM (static random access memory) circuits is studied through theoretical analysis and experimental validation. Detailed analysis about the radiation effect in different parts of circuitry is presented. For SRAM cells and a sense amplifier which includes flip-flop structures, their failure level against ionizing radiation will have a connection with the storage state during irradiation. They are inclined to store or read the same state as the one stored during irradiation. Worst-case test scheme for an SRAM circuit is presented, which contains a write operation that changes the storage states into the opposite ones after irradiation and then a read operation with opposite storage states. An irradiation experiment is designed for one 0.25 μm SRAM circuit which has a capacity of I k×8 bits. The failure level against ionizing radiation concluded from this test scheme (150 krad(Si)) is much lower than the one from the simplest test scheme (1 Mrad(Si)). It is obvious that the failure level will be overestimated if the simplest test scheme is chosen as the test standard for SRAM circuits against ionizing radiation.
丁李利姚志斌郭红霞陈伟范如玉
质子和中子在硅中位移损伤等效性计算被引量:5
2013年
基于蒙特卡罗软件Geant4,探讨质子与硅的库仑散射和核反应及中子与硅的核反应产生反冲原子沉积非电离能量的过程,建立质子和中子在硅中的非电离能量阻止本领计算方法。在此方法中,描述了原子间库仑散射的物理过程,模拟带电粒子与晶格原子之间的屏蔽库仑散射。计算得到不同能量质子和中子在硅中因库仑散射和核反应产生反冲原子的非电离能量沉积及阻止本领的等效性,计算结果与中子ASTM标准及文献计算得到的质子数据符合很好。
王园明郭晓强罗尹虹陈伟王燕萍郭红霞张凤祁张科营王忠明丁李利闫逸华赵雯肖尧
关键词:中子质子
质子与金属布线层核反应对微纳级静态随机存储器单粒子效应的影响分析被引量:6
2015年
金属布线层对微纳级静态随机存储器(static random access memory,SRAM)质子单粒子效应敏感性的影响值得关注.利用Geant4针对不同能量(30 MeV,100 MeV,200 MeV和500 MeV)的质子与微纳级SRAM器件的核反应过程开展计算,研究了核反应次级粒子的种类、线性能量传输值(linear energy transfer,LET)及射程情况,尤其对高LET值的核反应次级粒子及其射程开展了详细分析.研究表明,金属布线层的存在和质子能量的增大为原子序数大于或等于30的重核次级粒子的产生创造了条件,器件体硅区中原子序数大于60的重核离子来源于质子与钨材料的核反应,核反应过程中的特殊作用机理会生成原子序数在30至50之间的次级粒子,且质子能量的增大有助于这种作用机理的发生,原子序数在30至50之间的次级粒子在器件体硅区的LET值最大约为37 MeV·cm^2/mg,相应射程可达到几微米,对于阱深在微米量级的微纳级SRAM器件而言,有引发单粒子闩锁的可能.研究结果为空间辐射环境中宇航器件的质子单粒子效应研究提供理论支撑.
赵雯郭晓强陈伟邱孟通罗尹虹王忠明郭红霞
关键词:质子核反应单粒子效应
共1页<1>
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