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国家高技术研究发展计划(2009AA03A198)

作品数:11 被引量:12H指数:2
相关作者:张荣郑有炓谢自力修向前杨国锋更多>>
相关机构:南京大学北京大学南京邮电大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程更多>>

文献类型

  • 11篇中文期刊文章

领域

  • 7篇电子电信
  • 5篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 4篇GAN
  • 3篇发光
  • 2篇氮化镓
  • 2篇深能级
  • 2篇能级
  • 2篇气相外延
  • 2篇氢化物气相外...
  • 2篇二极管
  • 2篇发光二极管
  • 2篇HVPE
  • 2篇INGAN/...
  • 1篇带隙
  • 1篇导体
  • 1篇电流-电压特...
  • 1篇电压特性
  • 1篇电致发光
  • 1篇多量子阱
  • 1篇性能研究
  • 1篇阴极
  • 1篇荧光

机构

  • 8篇南京大学
  • 1篇北京大学
  • 1篇南京邮电大学
  • 1篇南京大学扬州...

作者

  • 7篇张荣
  • 6篇郑有炓
  • 4篇谢自力
  • 4篇陈鹏
  • 4篇修向前
  • 4篇杨国锋
  • 3篇韩平
  • 3篇华雪梅
  • 3篇刘斌
  • 3篇于治国
  • 2篇孟庆芳
  • 2篇赵红
  • 2篇施毅
  • 2篇郭媛
  • 1篇陈琳
  • 1篇刘战辉
  • 1篇陶岳彬
  • 1篇张国义
  • 1篇谢自立
  • 1篇于彤军

传媒

  • 3篇半导体技术
  • 2篇功能材料
  • 2篇Chines...
  • 1篇物理学报
  • 1篇南京大学学报...
  • 1篇稀有金属
  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 3篇2012
  • 6篇2011
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Gradual variation method for thick GaN heteroepitaxy by hydride vapour phase epitaxy被引量:2
2011年
Two strain-state samples of GaN,labelled the strain-relief sample and the quality-improved sample,were grown by hydride vapour phase epitaxy (HVPE),and then characterized by high-resolution X-ray diffraction,photoluminescence and optical microscopy.Two strain states of GaN in HVPE,like 3D and 2D growth modes in metal-organic chemical vapour deposition (MOCVD),provide an effective way to solve the heteroepitaxial problems of both strain relief and quality improvement.The gradual variation method (GVM),developed based on the two strain states,is characterized by growth parameters' gradual variation alternating between the strain-relief growth conditions and the quality-improved growth conditions.In GVM,the introduction of the strain-relief amplitude,which is defined by the range from the quality-improved growth conditions to the strain-relief growth conditions,makes the strain-relief control concise and effective.The 300-μm thick bright and crack-free GaN film grown on a two-inch sapphire proves the effectiveness of GVM.
杜彦浩吴洁君罗伟科John Goldsmith韩彤陶岳彬杨志坚于彤军张国义
关键词:氢化物气相外延HVPE
Si(111)衬底上HVPE GaN厚膜生长被引量:1
2011年
在Si(111)衬底上,以MOCVD方法高温外延生长的AlN为缓冲层,使用氢化物气相外延(HVPE)方法外延生长了15μm的c面GaN厚膜。并利用X射线衍射(XRD)、光致发光谱(PL)、拉曼光谱(Raman)等技术研究了GaN厚膜的结构和光学性质。分析结果表明,GaN厚膜具有六方纤锌矿结构,外延层中存在的张应力较小,为0.17GPa,在363.7nm处具有很强的GaN带边发光峰,没有黄带出现。AlN缓冲层有效地阻止了Si衬底和反应气体发生非生长的附加反应,并减小了GaN厚膜自身残余应力,有利于Si(111)衬底上HVPE GaN厚膜的生长。
颜怀跃修向前华雪梅刘战辉周安张荣谢自力韩平施毅郑有炓
关键词:氢化物气相外延HVPESIGAN
Degradation behaviors of high power GaN-based blue light emitting diodes
2013年
The degradation mechanism of high power InGaN/GaN blue light emitting diodes(LEDs)is investigated in this paper.The LED samples were stressed at room temperature under 350-mA injection current for about 400 h.The light output power of the LEDs decreased by 35%during the first 100 h and then remained almost unchanged,and the reverse current at 5 V increased from 10 9A to 10 7A during the aging process.The power law,whose meaning was re-illustrated by the improved rate equation,was used to analyze the light output power-injection current(L–I)curves.The analysis results indicate that nonradiative recombination,Auger recombination,and the third-order term of carriers overflow increase during the aging process,all of which may be important reasons for the degradation of LEDs.Besides,simulating L–I curves with the improved rate equation reveal that higher-than-third-order terms of carriers overflow may not be the main degradation mechanism,because they change slightly when the LED is stressed.
钟灿涛于彤军颜建陈志忠张国义
关键词:蓝光发光二极管INGAN降解行为光输出功率速率方程
Fe/GaN、Fe_3N/GaN的生长及其性能研究被引量:2
2012年
应用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法,在c轴取向的GaN上生长出Fe颗粒薄膜以及Fe3N薄膜。应用XRD、AFM、XPS以及SQUID等技术对薄膜的结构、表面形貌以及磁学性能等性质进行了分析,结果表明六方结构的GaN上生长的Fe为立方结构,且以Fe(110)//GaN(0002)晶面以及Fe[001]//GaN[11■0]轴的方式存在,而生长的Fe3N为六方结构,且以Fe3N(0002)//GaN(0002)晶面以及Fe3N[11■0]//GaN[1ī00]轴的方式存在。同时,磁学分析表明,平行于薄膜方向为易磁化方向,垂直于薄膜方向为难磁化方向。
陶志阔张荣陈琳修向前谢自力郑有炓
关键词:自旋注入金属有机物化学气相沉积铁磁薄膜
深能级对白光LED的电致发光和I-V特性的影响被引量:1
2011年
为了研究一种无荧光粉的单芯片白光发光二极管(LED)的光电性质,实际测量了它的升温电致发光光谱和升温电流-电压(I-V)特性,并测量了相似结构的蓝光LED以作对比。实验发现白光LED的电致发光光谱中有一个与有源区中的深能级相关的较宽的长波长发光峰,根据这个发光峰的强度与温度之间的依赖关系,通过数据拟合,得到了深能级的平均激活能,约为199 meV。由于有源区中存在大量深能级,也对白光LED的I-V特性产生一定影响,有源区中的深能级成为额外的载流子源,使白光LED的I-V特性表现出独特的性质。
孟庆芳陈鹏郭媛于治国杨国锋张荣郑有炓
关键词:氮化镓深能级发光二极管(LED)电致发光电流-电压特性
宽带隙半导体材料光电性能的测试
2011年
主要通过光致发光的实验手段,研究分析了在自支撑GaN衬底上生长的InGaN/GaN多量子阱(InGaN/GaN MQW)有源层中的载流子复合机制,实验中发现多量子阱的光致发光光谱中有一个与有源区中的深能级相关的额外的发光峰。在任何温度大功率激发条件下,自由激子的带边复合占主导地位,并且带边复合的强度随温度或激发功率的下降而减弱;在室温以下小功率激发条件下,局域化能级引入的束缚激子复合占主导地位,其复合强度随温度的下降而单调上升,随激发功率的下降而上升。带边复合在样品温度上升或者激发功率变大时发生蓝移,而局域的束缚激子复合辐射的峰值波长,随样品温度和激发功率的变化没有明显变化。
郭媛陈鹏孟庆芳于治国杨国锋张荣郑有炓
关键词:深能级束缚激子多量子阱蓝移
利用Ni纳米岛模板制备半极性晶面GaN纳米柱被引量:1
2011年
报道了在GaN表面以Ni纳米岛结构作为模板,利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀制备GaN纳米柱的研究结果。原子力显微镜(AFM)测试结果表明,金属Ni薄膜在快速热退火(RTA)作用下形成了平均直径和高度大约分别为325 nm和70 nm的纳米岛状结构。通过电子扫描显微镜(SEM)照片看出,以GaN表面所形成的Ni纳米岛作为模板图形,通过控制ICP刻蚀时间,在一定的刻蚀时间内(2 min)获得有序的并拥有半极性晶面的GaN纳米柱阵列。这种新颖的半极性GaN纳米柱作为氮化物量子阱或者超晶格结构的生长模板,可以有效减小甚至消除极化效应,提高光电子器件的效率和性能。
杨国锋陈鹏于治国刘斌谢自力修向前韩平赵红华雪梅张荣郑有炓
关键词:氮化镓
AlGaN/GaN量子阱中子带的Rashba自旋劈裂和子带间自旋轨道耦合作用研究被引量:2
2012年
首先把本征值方程投影到导带的子空间中,进而得到AlGaN/GaN量子阱中第一、二子带的Rashba自旋劈裂系数(α_1,α_2)和子带自自旋-轨道耦合系数η_(12).然后自恰求解薛定谔方程和泊松方程计算了不同栅压的量子阱中的α_1,α_2和η_(12),并分别讨论了量子阱阱层、左右异质结界面和垒层对它们的贡献.结果表明可以通过栅压来调节自旋-轨道耦合系数,子带间自旋轨道耦合系数η_(12)比Rashba自旋劈裂系数α_1,α_2小,但基本在同一数量级.
李明张荣刘斌傅德颐赵传阵谢自力修向前郑有炓
关键词:二维电子气
图形化蓝宝石衬底上InGaN/GaN多量子阱发光二极管的光谱特性研究被引量:2
2012年
运用电致发光(EL)和光致发光(PL)实验,分析了图形化蓝宝石衬底(PSSLEDs)和常规平面蓝宝石衬底(C-LEDs)InGaN/GaN多量子阱发光二极管的光谱特性。对比EL谱,发现PSSLEDs拥有更强的光功率和更窄的半峰宽(FWHM),说明PSSLEDs具有较高的晶体质量。其次,PSSLEDs的EL谱半峰宽随电流增加出现了更快的展宽,而这两种LED样品的PL谱半峰宽随激光功率增加呈现了基本相同的展宽变化,说明在相同电流下,PSSLEDs量子阱中载流子浓度更高,能带填充效应更强。另外,随着电流的增加,PSSLEDs和C-LEDs的峰值波长都发生蓝移,且前者的蓝移程度较小,结合半峰宽的对比分析,说明PSSLEDs量子阱中的极化电场较小。最后,对比了PSSLEDs和C-LEDs的外量子效率随电流的变化,发现PSSLEDs拥有更严重的efficiency droop,说明量子阱中极化电场不是导致efficiency droop的主要原因。
颜建钟灿涛于彤军徐承龙陶岳彬张国义
关键词:峰值波长EFFICIENCY
InGaN/GaN薄膜的阴极荧光研究被引量:1
2011年
利用高性能阴极荧光(CL)联合分析系统结合场发射扫描电镜对使用MOCVD方法在蓝宝石衬底上实现的不同生长温度条件下InGaN/GaN薄膜材料进行测试分析。利用CL紫外可见光谱系统,对(0001)面蓝宝石衬底上生长的InGaN/GaN薄膜进行阴极荧光单色谱测试分析,揭示了CL的发光波长与In成分变化之间的关系,即随着薄膜中In含量的降低CL谱峰值波长随之产生蓝移。为了进一步研究InGaN薄膜材料的发光机制及薄膜中出现的V坑,对InGaN/GaN薄膜材料进行了同一位置的SEM图像和CL Mapping的对比分析,探讨了缺陷与发光的关系。认定了薄膜中出现的大尺寸V坑对InGaN薄膜材料的发光没有帮助;小尺寸V坑被认定为热腐蚀坑,也对薄膜发光没有贡献。结合SEM图像和CL Mapping初步确认了部分In富集区域。同时研究了InGaN/GaN薄膜表面形貌的平坦区域与沟壑区域造成的发光波动。
张曌陶涛刘炼谢自力刘斌张荣
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