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纳米金刚石抛光液制备及应用被引量：6: 2007年; 随着光电信息产业的迅猛发展,纳米金刚石抛光液成为了超精密抛光领域的研究热点。本文首先总结了国内外专家、学者关于纳米金刚石微粉在水性和油性介质中的分散方面的一些研究工作,对微粉在介质中的分散、稳定机理进行了初步的探讨;并对纳米金刚石抛光液的制备以及抛光液在半导体硅片、计算机硬盘基片、计算机磁头、光纤连接器以及其它材料的表面超精密抛光应用进行了综述。水基纳米金刚石抛光液可能是未来抛光液的发展方向。; 靳洪允侯书恩杨晓光

磁头抛光液用金刚石超微粉研究: 2008年; 利用原子吸收光谱（AAS）、电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）、粉晶X射线衍射（XRD）、激光拉曼光谱（RAMAN）、透射电子显微镜（TEM）等手段对磁头抛光液用金刚石超微粉进行了研究。AAS和ICPMS测试结果显示，静压触媒法合成的金刚石超微粉中主要含有硅的氧化物和铁、镍、铝等一些金属杂质；XRD图谱中除了金刚石尖锐的特征峰以外，在2θ=35．6°，39．4°，59．7°处还观察到SiO2的特征衍射峰，表明金刚石超微粉结晶程度高、硬度大，但其中含有一定量的硅氧化物物相；在RAMAN图谱中除了金刚石的特征谱外在1592cm^-1处可观察到宽化了的石墨的特征谱；从TEM照片可以观察到微粉粒度分布在0．1～O．5μm之间，但是颗粒锋利棱角的存在有利于提高抛光效率。金刚石超微粉的高硬度、强的耐磨性、高的抛光效率使其适于作为磁头抛光液磨料使用。但是，杂质的存在影响抛光效率、缩短抛光液寿命；宽的粒度分布降低了抛光的精度。因此，使用前必须对金刚石超微粉进行提纯、分级处理；使得金刚石超微粉的纯度达到99．9％以上、有害杂质SiQ2的含量不超过0．01％，并且使超微粉的平均粒径为100nm且大于200m的颗粒在总的颗粒中小于2％。; 靳洪允侯书恩潘勇肖红艳

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武汉市科技攻关计划项目(20061002079)