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国家自然科学基金(60778026)

作品数:5 被引量:13H指数:2
相关作者:范正修邵建达肖秀娣贺洪波董国平更多>>
相关机构:中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院上海大恒光学精密机械有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市青年科技启明星计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学

主题

  • 2篇双折射
  • 1篇电子束蒸发
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇退火算法
  • 1篇相位延迟
  • 1篇模拟退火
  • 1篇模拟退火算法
  • 1篇结构参数
  • 1篇各向异性
  • 1篇光学
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇OPTICA...
  • 1篇PREPAR...
  • 1篇TA
  • 1篇TIO
  • 1篇IN_FIL...
  • 1篇MICROS...

机构

  • 4篇中国科学院上...
  • 2篇中国科学院研...
  • 2篇上海大恒光学...

作者

  • 4篇范正修
  • 3篇邵建达
  • 3篇贺洪波
  • 3篇肖秀娣
  • 2篇齐红基
  • 2篇王晴云
  • 2篇董国平
  • 1篇易葵
  • 1篇邓淞文
  • 1篇余华

传媒

  • 2篇光学学报
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇中国激光
  • 1篇Chines...

年份

  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
倾斜沉积制备雕塑薄膜的研究进展被引量:2
2008年
倾斜沉积是一种新型的薄膜沉积技术。通过制备过程中基片的旋转和倾斜,可以制备出斜柱状、之字形、螺旋状、S形以及C形等各种形状的雕塑薄膜。雕塑薄膜可以实现许多传统薄膜无法实现的光学性质,为光学薄膜的设计与制备开辟了新的途径。本文综述了雕塑薄膜的制备方法,分析了雕塑薄膜的结构特征及影响因素,并阐述了其在光学领域的广泛应用前景。
肖秀娣董国平余华范正修贺洪波邵建达
关键词:各向异性
倾斜沉积“雕塑”薄膜结构参数优化分析被引量:2
2010年
基于双轴双折射薄膜模型,利用在不同入射角度下薄膜对两种偏振态光波透射光谱,同时获得"雕塑"薄膜主轴折射率N1,N2,N3和薄膜厚度d及柱状角β等参数。基于倾斜沉积技术,利用电子束反应蒸发方法制备了氧化钽"雕塑"薄膜。借助于模拟退火算法,对入射角度为0,20°,30°,45°和60°时两种偏振态光波的透射光谱进行拟合,确定了氧化钽"雕塑"薄膜的结构参数,并与场发射扫描电镜测量的薄膜结构进行了比较。结果表明,利用透射光谱曲线可以较为准确地获得"雕塑"薄膜的结构参数。
齐红基王晴云肖秀娣易葵贺洪波范正修
关键词:模拟退火算法
双折射消偏振膜的设计和制备被引量:4
2010年
基于倾斜沉积薄膜材料的双折射特性,采用单一TiO2设计和制备了中心波长为632 nm的双折射消偏振膜。首先以60°和70°的沉积角度镀制了TiO2单层膜,通过单层膜的透射光谱分别拟合出两种沉积角度下薄膜对s和p偏振光的等效折射率nPH,nSH和nPL,nSL。通过对折射率的组合,实现正入射时s偏振光透射率大于p偏振光,而入射角度增大会使两者透射率差值减小,基于这一思想设计并制备了消偏振膜。分别测量了消偏振薄膜在400~800 nm波段范围内正入射及倾斜入射条件下s和p偏振光的透射光谱。入射角为60°时,s偏振光反射带宽基本与p偏振光反射带宽重合,在波长632 nm左右基本实现消偏振。结果表明,利用材料的双折射特性,可以设计和制备出倾斜入射条件下消偏振薄膜。
王晴云齐红基贺洪波邵建达范正修
关键词:薄膜光学双折射
热处理对电子束蒸发TiO_2雕塑薄膜双折射性能的影响被引量:5
2009年
使用倾角电子束蒸发技术制备了TiO_2雕塑薄膜,通过对雕塑薄膜在不同退火温度和退火时间下进行热处理,发现热处理工艺可以优化薄膜的双折射特性和相位延迟性能。实验结果表明,TiO_2雕塑薄膜的最佳退火条件为500℃下处理4 h,其双折射值达0.115左右,远高于未处理时的最大双折射值(0.06)。椭偏仪测试结果表明,最优条件下热处理后的薄膜,在550 nm处相位延迟量达90°,可以作为该波长处的λ/4波片使用。因此,热退火是改善雕塑薄膜双折射性能的一种简单实用的方法。
肖秀娣董国平邓淞文邵建达范正修
关键词:双折射相位延迟
Optical properties and microstructure of Ta_2O_5 thin films prepared by oblique angle deposition
2009年
Tantalum pentoxide thin films are prepared by oblique angle electron beam evaporation.The influence offlux angle on the surface morphology and microstructure is investigated by scanning electron microscopy(SEM).The Ta_2O_5 thin films are anisotropic with highly orientated nanostructure of slanted columns.The porous microstructure of the as-deposited films results in the decrease of effective refractive index andpacking density with increasing deposition angle.The anisotropic structure results in optical birefringence.The in-plane birefringence increases with the increase of deposition angle and reaches the maximum of0.055 at the deposition angle of 70°.Anisotropic microstructure and critical packing density are the twokey factors to influence the in-plane birefringence.
肖秀娣董国平贺洪波齐红基范正修邵建达
关键词:扫描电子显微镜
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