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国家自然科学基金(51074080)

作品数:25 被引量:57H指数:5
相关作者:许俊华喻利花曹峻马冰洋鞠洪博更多>>
相关机构:江苏科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金江苏省自然科学基金江苏省普通高校研究生科研创新计划项目更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 25篇中文期刊文章

领域

  • 22篇金属学及工艺
  • 4篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 17篇力学性能
  • 17篇力学性
  • 15篇复合膜
  • 13篇微结构
  • 13篇溅射
  • 13篇磁控
  • 12篇磁控溅射
  • 8篇V
  • 6篇摩擦磨损性能
  • 6篇W
  • 6篇N
  • 5篇微观结构
  • 4篇多层膜
  • 3篇射频磁控
  • 3篇射频磁控溅射
  • 3篇相结构
  • 2篇碳含量
  • 2篇显微结构
  • 2篇薄膜微结构
  • 2篇VCN

机构

  • 25篇江苏科技大学

作者

  • 25篇许俊华
  • 24篇喻利花
  • 7篇曹峻
  • 6篇马冰洋
  • 5篇鞠洪博
  • 3篇赵强
  • 3篇薛雅平
  • 2篇胡红霞
  • 2篇王杰
  • 2篇王蕊
  • 1篇陈超
  • 1篇苑彩云
  • 1篇赵淑芳
  • 1篇黄婷
  • 1篇董鸿志

传媒

  • 9篇粉末冶金材料...
  • 6篇真空科学与技...
  • 2篇无机材料学报
  • 2篇材料工程
  • 2篇材料热处理学...
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇物理学报
  • 1篇机械工程材料
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 10篇2014
  • 13篇2013
25 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Al含量对(V,W,Al)N复合膜微观组织和抗氧化性能的影响
2014年
采用多靶磁控溅射仪,制备不同Al含量的(V,W,Al)N复合膜。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪和热处理炉及热失重分析仪对(V,W,Al)N复合膜的微观组织、力学性能及高温抗氧化性能进行表征。结果表明:当Al含量低于14.86 at%时,(V,W,Al)N复合膜存在面心立方结构(V,W)N、WN相及六方结构V2N相,当Al含量高于14.86 at%时,薄膜存在面心立方结构(V,W)N、WN相及六方结构V2N和AlN相;随Al原子百分含量的增加,复合膜的硬度呈先增大后减小的趋势,当Al原子百分含量达到14.86 at%时,其硬度最大值为35.5 GPa;随Al含量的增加,(V,W,Al)N复合膜抗氧化性能提高了至少200℃。讨论Al含量对(V,W,Al)N复合膜性能的影响。
喻利花王杰许俊华
不同Ti含量的W-Ti-N复合膜的微结构及性能研究
2014年
采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ti含量的W-Ti—N复合膜。采用x射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征。采用UMT-2功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对w—Ti—N复合膜的摩擦性能进行评价,同时,探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制。结果表明:Ti含量(原子分数,下同)为5%~23.48%时,薄膜硬度处于峰值区,硬度值最高可达39GPa,摩擦因数在0.4左右。当Ti含量高于23.48%时,硬度随着Ti含量增加而下降,摩擦因数随Ti含量的增加而升高。
赵淑芳喻利花马冰洋许俊华
关键词:微结构
碳含量对NbVCN薄膜的微观结构、力学及摩擦磨损性能的影响被引量:1
2016年
采用磁控溅射法制备了不同C含量的NbVCN薄膜,研究了C含量对NbVCN薄膜微观结构、力学及摩擦磨损性能的影响。结果表明:四元NbVCN薄膜微观结构受C含量影响显著,当C含量小于6.3%,薄膜为fcc-NbN+hcp-NbN两相共存;随含量的进一步升高,薄膜中出现非晶石墨相,此时薄膜三相共存,为fcc-NbN+hcp-NbN+amorphous-graphite。NbVCN薄膜硬度随C含量的升高先上升后下降,当C含量为6.3%时,薄膜硬度最高,其最高值为29 GPa。室温下,NbVCN薄膜平均摩擦系数随C含量的升高逐渐降低,当C含量为15.3%时,薄膜平均摩擦系数最低,其最低值为0.34;随C含量的升高,NbVCN薄膜磨损率先降低后升高,当C含量为6.3%时,薄膜磨损率达到最小值,其最小值为1.86×10^(-8)mm^3·N^(-1)mm^(-1)。环境温度在200~700℃时,C含量为6.3%的薄膜的平均摩擦系数随着温度的升高逐渐降低,在700C时,薄膜获得最低摩擦系数,其最低值为0.53;薄膜的磨损率随温度的升高逐渐升高。
胡红霞鞠洪博许俊华
关键词:微观结构力学性能摩擦磨损性能
负偏压对磁控溅射TaN薄膜微观结构和性能的影响被引量:1
2013年
采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩擦性能的影响。结果表明:TaN薄膜主要为面心δ-TaN和斜方Ta 4 N晶体结构,择优取向随着负偏压的不同而不同;当负偏压为80 V时,TaN薄膜的硬度和弹性模量均达到最大值,分别为30.103和317.048 GPa,并且此时薄膜的膜?基结合最强;常温下单层TaN薄膜的摩擦因数与负偏压关系不大,基本保持在0.64~0.68之间;高温下,随着温度的升高,摩擦因数逐渐降低。
薛雅平曹峻喻利花许俊华
关键词:微观结构
W含量对Ti_(1-x)W_xN复合膜的微结构、力学性能和摩擦性能的影响被引量:1
2014年
采用射频反应磁控溅射技术制备一系列不同W含量的TiWN复合膜。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、摩擦磨损仪等对TiWN复合膜微结构、力学性能和摩擦性能进行表征。结果表明:当W含量为10.19%时,TiWN复合膜呈fcc结构的TiWN相和Ti相双相结构;当W含量为25.42%时,复合膜中除TiWN相和Ti相,还出现了Ti2N新相;而当W含量为35.29%时,Ti相消失,W2N和β-W新相生成;当W含量增加到46.91%时,薄膜由TiWN,Ti2N,W2N和β-W相组成。随W含量的增加,薄膜硬度先升高后降低,室温摩擦因数和磨损率先减小后增大。W含量为35.29%时,硬度达到最大值,为30.67 GPa,室温摩擦因数和磨损率达到最小值,分别为0.531和3.662×10-8 mm2N-1。随温度升高,薄膜的摩擦因数先增大后减小,当温度升至800℃时,摩擦因数降至最低,为0.397。
喻利花董鸿志许俊华
关键词:磁控溅射微结构力学性能
B靶功率对ZrBN复合膜的微结构、力学性能及摩擦性能的影响被引量:5
2013年
采用磁控溅射法,以不同的B靶功率(分别为24,30,60,90和120 W),在单晶硅(100)和不锈钢基底上制备一系列不同B含量的ZrBN复合膜,利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪(CSM)和摩擦磨损试验机研究B靶功率对ZrBN复合膜的微结构、力学性能、以及室温和高温摩擦性能的影响。结果表明:当B靶功率低于30 W时,复合膜呈fcc ZrBN结构;当B靶功率高于30 W时,复合膜为fcc ZrBN和hcp ZrB2双相结构。当B靶功率为24 W时,复合膜的硬度和室温摩擦因数分别为29.3 GPa和0.75,随B靶功率增大,硬度和室温摩擦因数都逐渐减小。B靶功率为24 W时制备的ZrBN复合膜的摩擦因数随温度升高先减小后增大。同时,对ZrBN复合膜的摩擦机理进行探讨。
喻利花赵强马冰洋许俊华
关键词:微结构力学性能
TiN/VCN多层膜的力学性能及摩擦磨损性能研究被引量:4
2013年
采用多靶磁控溅射技术,制备了TiN、VCN单层膜及调制比为1:1的系列调制周期的TiN/VCN多层膜。利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损测试仪和扫描电子显微镜研究了各种薄膜的微结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能。研究表明:TiN/VCN多层膜以δ-NaCl面心立方结构为主;TiN/VCN多层膜的最大硬度值为28.71 GPa,约为按混合法则计算所得理论硬度值的1.23倍,并据此分析了TiN/VCN多层膜的致硬机理;TiN/VCN多层膜在室温下摩擦系数与TiN单层膜摩擦系数相近,但当环境温度为700℃时,摩擦系数约0.4,较TiN单层膜(0.52)低。TiN/VCN多层膜室温和高温下的磨损率相比TiN单层膜减小了约3×10-14m3/(N.m)。从晶体化学和热测量方法角度讨论了TiN/VCN多层膜的Magnéli相V2O5的润滑机制。
曹峻许俊华喻利花
关键词:TINVCN力学性能摩擦磨损性能
不同调制周期TiAlSiN/Mo_2N多层膜的微观结构、力学和摩擦性能研究被引量:6
2014年
采用射频磁控溅射制备不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜。利用X射线衍射,扫描电镜,能量弥散X射线谱,纳米压痕仪及摩擦试验机对薄膜的成分,相结构,力学及室温摩擦性能进行分析。结果表明,不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜为fcc与hcp混合结构,不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜硬度均大于单层TiAlSiN和Mo2N薄膜,且TiAlSiN/Mo2N多层膜的硬度与弹性模量随调制周期的影响不大,硬度稳定在29 GPa左右,室温条件下,以Al2O3为摩擦副的TiAlSiN/Mo2N多层膜平均摩擦系数平均摩擦系数均低于单层TiAlSiN、Mo2N薄膜,且随调制周期的增大逐渐降低,其最低平均摩擦系数为0.42,对应调制周期为12 nm。
鞠洪博喻利花许俊华
关键词:射频磁控溅射相结构
W含量对ZrWN复合膜的微结构与摩擦性能的影响被引量:4
2013年
采用反应磁控溅射法分别在单晶硅(100)和不锈钢基底上沉积不同W含量的Zr1-xWxN(x=0.17,0.28,0.36,0.44,0.49)复合膜,利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机研究该复合薄膜的微结构、力学性能及摩擦性能,并探讨ZrWN复合膜的摩擦机理。结果表明:当x≤0.28时,复合膜呈fcc(Zr,W)N结构;当x为0.36~0.44时,复合膜呈fcc(Zr,W)N和fcc W2N结构;当x=0.49时复合膜为fcc(Zr,W)N、fcc W2N结构和β-W单质。Zr1-xWxN复合膜的硬度随x增加先增大后减小,当x=0.44时达到最大值,为36.0 GPa。随x增加, Zr1-xWxN复合膜的室温摩擦因数先减小后增大,摩擦表面生成的氧化物WO3对于降低摩擦因数起重要作用。
喻利花赵强马冰洋许俊华
关键词:微结构力学性能
(Zr,V)N复合膜的结构、力学性能及摩擦性能研究被引量:3
2013年
通过非平衡磁控溅射的方法制备了不同V含量的(Zr,V)N复合薄膜,采用EDS,XRD,XPS,纳米压痕仪和摩擦磨损仪等对薄膜的化学成分、微结构、力学性能及摩擦性能进行了研究.结果表明,V的加入虽未改变ZrN的fcc晶体结构,但使薄膜的择优取向由ZrN的(200)面转变为(Zr,V)N的(111)面.随着V含量增加,(Zr,V)N复合膜的硬度略有升高后缓慢降低,并在含25.8at.%V后迅速降低.与此同时,薄膜的常温摩擦系数亦有小幅降低.高温摩擦研究表明,(Zr,V)N薄膜在300℃时出现V2O3,V2O5在500℃后形成,其含量也随温度的提高而增加.薄膜的摩擦系数因V2O5的形成而得到显著降低.
喻利花马冰洋曹峻许俊华
关键词:微结构力学性能
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