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国家高技术研究发展计划(2006AA03Z360)

作品数:6 被引量:24H指数:2
相关作者:刘波封松林宋志棠沈菊冯高明更多>>
相关机构:中国科学院硅存储技术公司中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划上海市科学技术委员会资助项目更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术自然科学总论理学更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇自然科学总论
  • 1篇理学

主题

  • 4篇相变存储
  • 4篇相变存储器
  • 4篇存储器
  • 2篇氧化物半导体
  • 2篇金属氧化物半...
  • 2篇互补金属氧化...
  • 2篇半导体
  • 1篇带隙
  • 1篇带隙基准
  • 1篇电极
  • 1篇电极性能
  • 1篇电流镜
  • 1篇电流驱动
  • 1篇电学性能
  • 1篇电压源设计
  • 1篇电源抑制
  • 1篇电源抑制比
  • 1篇亚微米
  • 1篇抑制比
  • 1篇偏置

机构

  • 5篇中国科学院
  • 1篇中国科学院研...
  • 1篇硅存储技术公...

作者

  • 5篇宋志棠
  • 5篇封松林
  • 5篇刘波
  • 2篇吴良才
  • 2篇冯高明
  • 2篇沈菊
  • 1篇徐成
  • 1篇朱加兵

传媒

  • 2篇半导体技术
  • 2篇Journa...
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 3篇2007
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于Sn掺杂Ge_2Sb_2Te_5的相变存储器器件单元存储性能
2008年
采用0.18μm标准工艺制备出基于Sn掺杂Ge2Sb2Te5相变材料的相变存储器器件单元,利用自行设计搭建的电学测试系统研究了其存储性能。结果表明:Sn的掺杂没有改变Ge2Sb2Te5的相变特性,其相变阈值电压和阈值电流分别为1.6V和25μA;实现了器件单元的非晶态(高阻)与晶态(低阻)之间的可逆相变过程;器件单元中相变材料结晶所需电流最低为1.78mA(电流宽度固定为100ns)、结晶时间大于80ns(电流高度固定为3mA);相变材料非晶化脉冲电流宽度为30ns时,所需电流大于3.3mA;与Ge2Sb2Te5相比,Sn的掺杂降低了SET操作的脉冲电流宽度,提高了结晶速度,有利于提高相变存储器的存储速度。
徐成刘波冯高明吴良才宋志棠封松林Bomy Chen
关键词:相变存储器
相变存储器驱动电路的设计与实现被引量:2
2008年
介绍了一种新型的相变存储器驱动电路的基本原理,设计了一种依靠电流驱动的驱动电路,整体电路由带隙基准电压源电路、偏置电流产生电路、电流镜电路及控制电路组成。该结构用于16Kb以及1Mb容量的相变存储器芯片的设计,并采用中芯国际集成电路制造(上海)有限公司的0·18μm标准CMOS工艺实现。该驱动电路通过Hspice仿真,表明带隙基准电压、偏置电流均具有较高的精度,取得了良好的仿真结果,在16Kb相变存储器芯片测试中,进一步验证了以上仿真结果。
沈菊宋志棠刘波封松林
关键词:相变存储器电流驱动基准电压偏置电流电流镜互补金属氧化物半导体
Si_2Sb_2Te_5 phase change material studied by an atomic force microscope nano-tip
2009年
The Si2Sb2Te5 phase change material has been studied by applying a nano-tip(30 nm in diameter) on an atomic force microscopy system.Memory switching from a high resistance state to a low resistance state has been achieved,with a resistance change of about 1000 times.In a typical I-V curve,the current increases significantly after the voltage exceeds~4.3 V.The phase transformation of a Si2Sb2Te5 film was studied in situ by means of in situ X-ray diffraction and temperature dependent resistance measurements.The thermal stability of Si2Sb2Te5 and Ge2Sb2Te5 was characterized and compared as well.
刘彦伯张挺钮晓鸣宋志棠闵国全张静周伟民万永中张剑平李小丽封松林
用于相变存储器的W亚微米管加热电极性能
2007年
为了降低C-RAM器件的操作电流,利用0.18μm标准CMOS工艺线制备出外径为260nm的W亚微米管加热电极,并对其进行了电学性能的表征.使用W亚微米管加热电极制备出C-RAM器件,并通过疲劳特性测试分析了器件失效的原因.结果表明,W亚微米管具有良好的电学稳定性和疲劳特性,为降低C-RAM器件的操作电流提供了一种非常有效的途径.
冯高明刘波吴良才宋志棠封松林陈宝明
关键词:相变存储器电学性能
一种高精度CMOS带隙基准电压源设计被引量:5
2007年
介绍了带隙基准电压源的基本原理,设计了一种高精度带隙基准电压源电路。该电路采用中芯国际半导体制造公司0.18μm CMOS工艺。Hspice仿真表明,基准输出电压在温度为-10~120℃时,温度系数为6.3×10-6/℃,在电源电压为3.0~3.6 V内,电源抑制比为69 dB。该电压基准在相变存储器芯片电路中,用于运放偏置和读出/写驱动电路中所需的高精度电流源电路。
沈菊宋志棠刘波封松林朱加兵
关键词:带隙温度系数电源抑制比互补金属氧化物半导体
我国相变存储器的研究现状与发展前景被引量:17
2007年
介绍了我国相变存储器的研究现状及面临的关键问题。提出了我国相变存储器的发展思路和目标:加强新型材料和器件结构等方面的基础研究,形成创新性的成果,同时加强专利战略布局;加强与国内半导体公司的合作,共同推进相变存储器的产业化进程;探索相变存储器的新应用领域,寻求在通信、金融、交通、医疗、身份证等领域的应用。
刘波宋志棠封松林
关键词:相变存储器
共1页<1>
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