国家自然科学基金(NSF60806030)
- 作品数：1 被引量：4H指数：1
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- 氧化钒薄膜的制备及电致开关特性的研究被引量：4
- 2011年
- 采用反应溅射法,室温下,在Cu/Ti/SiO2/Si衬底上制备了氧化钒（VOx）薄膜,并对薄膜进行450℃、30min的真空退火处理。采用X-射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）对薄膜的结晶取向和表面形貌进行了表征,通过半导体参数分析仪对薄膜的电开关特性进行测试,并利用导电原子力显微镜（CAFM）对VOx薄膜的导电机制进行了探索。测试结果表明,VOx薄膜在Cu/Ti/SiO2/Si衬底取向生长,并且是以V2O5为主的V6O13和V2O5的混合物,薄膜表面颗粒大小均匀（30~40 nm）,粗糙度为2.4 nm。电学测试结果表明薄膜具有较低（Vset=0.72 V,Vreset=0.39 V）的开关电压,开关电阻的转变倍率约3个数量级,经CAFM测试发现,VOx薄膜导电态中有导电细丝,结合VOx/Cu界面态及Cu离子快扩散特性,认为VOx薄膜导电态主要是Cu离子在薄膜中扩散形成的导电细丝所致。
- 张楷亮韦晓莹王芳武长强赵金石
