国家高技术研究发展计划(2003AA311040)
- 作品数：4 被引量：44H指数：4
- 相关作者：邵建达范正修谭天亚张东平占美琼更多>>
- 相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的设计及误差分析被引量：22
- 2006年
- 采用矢量合成法设计了LiB3O5(LBO)晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜,在1064 nm处的反射率为0.0014%,532 nm处的反射率为0.0004%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+6.5%时,1064 nm处的反射率增加至0.22%,532 nm处增加至0.87%。材料折射率的变化控制在+3%时,1064 nm处的反射率达0.24%,532 nm处达0.22%。沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率。与膜层折射率相比,薄膜物理厚度对剩余反射率的影响小。低折射率膜层的厚度变化对特定波长处的剩余反射率影响最明显,即为该膜系的敏感层。为改善膜基之间的附着力,选择Y2O3或SiO2作为过渡层,从过渡层的厚度匹配和膜层的折射率匹配两方面进行了相应的膜系匹配设计。
- 谭天亚黄建兵占美琼邵建达范正修
- 关键词：增透膜LBO晶体误差分析过渡层
- 离子束溅射法薄膜生长中结瘤微缺陷的生长机理被引量：7
- 2005年
- 用离子束溅射法制备了锆单层薄膜 .用设计新型夹具和预置种子方法 ,对薄膜中结瘤微缺陷的生长过程进行了研究 .在高分辨率光学显微镜和扫描电子显微镜下观察发现 ,结瘤在其生长初期呈现出分形的特征 .用分子动力学和薄膜生长的扩散限制聚集模型 ,薄膜中结瘤微缺陷成核时的分形现象得到了很好的解释 .
- 张东平齐红基邵建达范瑞瑛范正修
- 关键词：薄膜生长离子束溅射微缺陷分子动力学成核
- LBO晶体上ZrO2薄膜的光学性质
- 用电子束蒸发方法在三种不同取向的三硼酸锂（LiB3O5,简称LBO）晶体上沉积了ZrO2薄膜。分光光度计分析表明薄膜呈现光学各向异性,X射线衍射分析表明这是由于LBO晶体上ZrO2薄膜择优生长导致的结果。并且LBO晶体基...
- 谭天亚晋云霞邵建达范正修
- 关键词：ZRO2LBO晶体电子束蒸发各向异性
- 文献传递
- 利用分光光度计测量光学晶体的折射率被引量：10
- 2005年
- 晶体折射率的准确测定是晶体上薄膜器件设计的基础。介绍了利用分光光度计测量晶体折射率的方法,通过背面影响系数法、背面镀增透膜和将两者结合起来的方法消除晶体反射率测量时背面反射带来的影响,给出了具体的步骤并对测量误差进行了分析。由于晶体的光学各向异性,采用起偏器扫描的方法测量晶体光学性质随方向的变化。通过对LiB3O5晶体的折射率的测量,证实了该方法的可行性并可用于其他光学晶体折射率的测量。
- 谭天亚易葵邵建达范正修
- 关键词：折射率分光光度计偏振方向
- 1064nm倍频波长分离膜的制备与性能研究被引量：7
- 2005年
- 通过对主膜系添加匹配层并借助计算机对膜系进行优化,设计出结构规整、性能优良的1064nm倍频波长分离膜。用电子束蒸发及光电极值监控技术在K9玻璃基底上沉积薄膜,将样品置于空气中在260℃温度下进行3h热退火处理。然后用Lambda900分光光度计测量了样品的光谱性能;用表面热透镜(STL)技术测量了样品的弱吸收值;用调Q脉冲激光装置测试了样品的抗激光损伤阈值(LIDT)。实验结果发现,样品的实验光谱性能与理论光谱性能有很好的一致性,退火前后其光谱性能几乎没有发生温漂,说明薄膜的温度稳定性好;同时退火使样品的弱吸收减小,从而其激光损伤阈值提高。理论和实验结果均表明,对主膜系添加匹配层的方法是1064nm倍频波长分离膜设计的较好方法。
- 马小凤张东平王英剑范书海高卫东范正修邵建达
- 关键词：弱吸收激光损伤阈值
