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国家自然科学基金(60878032)

作品数：5 被引量：31H指数：2
相关作者：杭凌侠潘永强郭晓川田刚梁海锋更多>>
相关机构：西安工业大学西安电子科技大学西北工业大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金陕西省教育厅科研计划项目更多>>
相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇面粗糙度
  • 2篇非平衡磁控溅...
  • 2篇DLC薄膜
  • 2篇表面粗糙度
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇粗糙度
  • 1篇等离子体
  • 1篇氧化钛
  • 1篇阴极
  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇偏方
  • 1篇椭偏法
  • 1篇椭偏仪
  • 1篇硒化锌
  • 1篇吸收损耗
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇离子束辅助沉...

机构

  • 5篇西安工业大学
  • 1篇西北工业大学
  • 1篇西安电子科技...
  • 1篇中国空间技术...

作者

  • 4篇杭凌侠
  • 2篇潘永强
  • 2篇郭晓川
  • 1篇吴振森
  • 1篇梁海锋
  • 1篇惠迎雪
  • 1篇弥谦
  • 1篇樊慧庆
  • 1篇王稳奇
  • 1篇孙国斌
  • 1篇夏方园
  • 1篇田刚
  • 1篇王浩浩

传媒

  • 2篇西安工业大学...
  • 1篇中国激光
  • 1篇光学学报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2012
  • 3篇2010
  • 1篇2009
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
离子束后处理对TiO_2薄膜表面粗糙度的影响被引量：12
2010年
利用电子束热蒸发技术在两种不同粗糙度的K9玻璃和一批单晶硅基底上沉积了单层二氧化钛(TiO_2)薄膜,并对这些样片进行了氧离子后处理。采用泰勒-霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪(Talysurf CCI)分别对基底以及样片处理前后的表面粗糙度进行了研究,并用椭偏仪对离子处理前后的TiO_2薄膜的折射率进行了测量。实验结果表明,TiO_2薄膜对于基底具有一定的平滑作用;当基底粗糙度较大时,随着轰击离子能量的增加样片的表面粗糙度先减小后增加;当氧离子的轰击时间增加时,薄膜表面粗糙度会明显降低,随着轰击离子束流密度的增加,薄膜表面的粗糙度减小的幅度会增加。
潘永强杭凌侠吴振森王浩浩
关键词：二氧化钛表面粗糙度椭偏仪
UBMS和PVAD法制备DLC薄膜表面微观形貌分析
2010年
光学薄膜的表面粗糙度是影响薄膜光学特性的重要因素，薄膜表面产生的散射损耗将影响薄膜的光学质量．采用非平衡磁控溅射（Unbalance Magnetron Sputtering，UBMS）和脉冲真空电弧沉积（Pulsed Vacuum Arc Deposition，PVAD）制备类金刚石薄膜（Diamond Like Carbon，DLC），利用泰勒霍普森表面轮廓仪，研究了不同工艺参数、不同薄膜厚度下所沉积的DLC薄膜表面粗糙度变化规律．结果表明：两种沉积技术下，随着薄膜厚度的增加，其表面均方根粗糙度先减小后增大．真空度和脉冲频率对表面粗糙度有显著影响．真空度在0．4～0．8Pa范围变化时，表面均方根粗糙度变化范围为0．8886～1．6104nm，脉冲频率在1～5Hz范围变化时，表面均方根粗糙度变化范围为1．0407～1．5458nm．
杭凌侠郭晓川
关键词：DLC薄膜表面粗糙度非平衡磁控溅射
椭偏方法分析无氢DLC薄膜光学吸收特性
2012年
类金刚石(Diamond Like Coobon,DLC)薄膜在光学领域主要用做红外区高强度减反射光学薄膜,准确测定薄膜的消光系数k,是评价薄膜吸收特性的关键环节.考虑到DLC薄膜材料结构的复杂性,研究了椭偏技术在分析无氢DLC薄膜时物理模型的建立方法,并且验证了该模型分析结果的准确性.利用Maxwell-Gamett等效介质理论建立了一种单层椭偏分析物理模型Si/EMA(n1+n2混合材料),利用该模型探索了采用双层模型的高低折射率比值代替薄膜中不同结构材料组分比值的有效性,从整体上用单层模型表征了DLC薄膜的消光系数,获得了单层薄膜的消光系数和折射率.测试了样片的透射率光谱.分别采用TFC(TFCalc)拟合的透射率光谱和Raman光谱验证了椭偏分析模型测试结果的准确性为椭偏分析技术研究DLC薄膜吸收损耗特性提供了有效路径.
杭凌侠夏方园郭晓川
关键词：DLC薄膜吸收损耗椭偏法
电磁阴极磁场分布对磁控溅射系统伏安特性的影响被引量：1
2009年
本文设计了一种新型圆形平面阴极磁控溅射源。该源具有独特的三极线圈结构,改变各线圈励磁电流可调节靶面磁场强度的大小和分布。通过对系统气体放电伏安特性随各线圈励磁电流大小变化规律的分析,以及对距靶面60mm基片台处等离子体束流密度大小和分布的测试,探讨了阴极磁场分布对磁控溅射系统伏安特性的影响。实验结果表明阴极磁场分布模式对气体放电稳定性和等离子体分布影响显著,当阴极磁场呈现收敛型分布时,二次电子被紧密束缚在靶面附近,降低了基片台附近等离子体束流密度,却增大等离子体束流径向分布均匀性。调节非平衡线圈励磁电流,在附加磁场的作用下,阴极磁场呈现发散型分布,二次电子被引向基片台附近,使得基片台附近等离子体束流密度显著增加但径向均匀性变差。
惠迎雪樊慧庆弥谦孙国斌王稳奇
关键词：磁控溅射磁场分布等离子体非平衡磁控溅射
硒化锌基底2～16μm超宽带硬质红外增透膜的研制被引量：18
2010年
硒化锌材料具有较宽的透光区,使其在红外区有着广泛的应用,然而其作为基底,镀制超宽带增透膜却有相当大的难度,尤其是膜层强度问题。设计出了硒化锌基底上2～16μm的多层超宽带增透膜,并采用离子束辅助沉积工艺在硒化锌基底上进行了多次实验,并对所使用的氟化钇(YF_3)和硒化锌膜料进行了分析,发现YF_3在3400和1640 cm^(-1)两个波数处的吸收峰。通过将低折射率层改为氟化钡和氟化钇的组合层后,在硒化锌基底上成功镀制出了多层宽带增透膜并采用脉冲电弧离子镀技术在多层薄膜的表面镀制了一定厚度的类金刚石(DLC)薄膜,增强了膜层的强度。最终使硒化锌基底上镀制的超宽带增透膜在2～16μm范围内的平均透射比大于93%,峰值透射比大于97%,并且膜层的强度较好。
潘永强杭凌侠梁海锋田刚
关键词：光学薄膜离子束辅助沉积硒化锌类金刚石薄膜
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