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国家教育部博士点基金(2011000110011)

作品数:6 被引量:10H指数:2
相关作者:黑立富刘金龙李成明陈良贤魏俊俊更多>>
相关机构:北京科技大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇化学工程

主题

  • 2篇形核
  • 2篇射频磁控
  • 2篇金刚石
  • 2篇刚石
  • 2篇衬底
  • 2篇磁控
  • 2篇Y
  • 1篇等离子体
  • 1篇电弧
  • 1篇对等离子体
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇石墨
  • 1篇石墨化
  • 1篇退火
  • 1篇力学性能
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇机械研磨
  • 1篇溅射
  • 1篇光学
  • 1篇光学性

机构

  • 6篇北京科技大学

作者

  • 6篇陈良贤
  • 6篇李成明
  • 6篇刘金龙
  • 6篇黑立富
  • 5篇魏俊俊
  • 3篇郭建超
  • 3篇朱瑞华
  • 2篇吕反修
  • 2篇王猛
  • 1篇冯寅楠
  • 1篇赵晓静

传媒

  • 2篇金刚石与磨料...
  • 2篇人工晶体学报
  • 2篇材料热处理学...

年份

  • 4篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
电弧分区特征对金刚石形核的影响被引量:1
2014年
在直流电弧等离子体喷射CVD法制备金刚石膜中,电弧可分为弧心、弧干、弧边三个区域。本文主要阐述了电弧的分区特征,讨论电弧区域特征对金刚石形核的影响。同时,以电弧分区特征为基础,探讨了预处理方式和温度对金刚石形核的关联影响。结果表明:形核初期对应于TiC粉的Raman谱,衬底的钛过渡层表面形成了TiC的过渡层,弧心区域金刚石形核迅速,形核密度较高,而在弧边区域金刚石形核缓慢,形核密度相对较低。
左振博郭建超刘金龙陈良贤朱瑞华闫雄伯魏俊俊黑立富李成明
关键词:形核金刚石
立方Y_2O_3薄膜结构、力学及光学性能的研究被引量:3
2014年
采用射频磁控溅射法在本征(100)Si片上和CVD金刚石膜上制备了立方(222)择优取向的Y2O3薄膜,应用AFM观察薄膜的三维形貌表明薄膜表面晶粒致密,缺陷较少,表面粗糙度为8.7nm;TEM表征薄膜微观结构,表明薄膜为柱状晶结构,柱状晶宽度10~20nm,而且晶界明显,部分较大晶粒中存在些许位错缺陷;纳米力学探针和划痕仪表征薄膜的力学性能,表明薄膜硬度为20.73GPa,弹性模量为227.5GPa,可作为金刚石膜的抗氧化保护膜,并且与金刚石膜的结合较好,结合力约为5N;FTIR对薄膜的光学性能进行分析,表明双面立方Y20,薄膜对金刚石膜的最大增透为23%,基本符合Y2O3的理论增透效果。
王猛李成明朱瑞华刘金龙陈良贤魏俊俊黑立富
关键词:射频磁控
ZnS衬底表面制备HfO_2增透保护膜的性能被引量:2
2012年
用射频磁控溅射法在CVD ZnS衬底上制备了HfO2薄膜,利用X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶红外光谱(FTIR)和纳米力学探针对HfO2薄膜的结构和性能进行了分析和测试。结果表明,制备的HfO2为单斜相,膜层致密、表面平整、粗糙度仅为3.0 nm,硬度(7.3 GPa)显著高于衬底ZnS的硬度(2.6 GPa)。采用ZnO薄膜作过渡层,可有效提高HfO2与ZnS衬底的结合强度。单面镀制HfO2薄膜后,ZnS衬底在8-12μm长波红外波段的透过率最高可达81.5%,较之ZnS基体提高了5.8%,双面镀制HfO2薄膜后透过率最高可达90.5%,较之ZnS基体提高了14.8%,与理论计算结果吻合较好,适合作为ZnS窗口的增透保护膜。
赵晓静李成明陈良贤刘金龙冯寅楠黑立富吕反修
关键词:ZNSHFO2薄膜射频磁控溅射
氩气流量对等离子体喷射法制备的金刚石膜形核的影响被引量:1
2014年
采用100kW级直流电弧等离子喷射法进行金刚石膜沉积,阐述了氩气对维持电弧稳定的重要作用,讨论了氩气流量对衬底表面轰击的影响,氩气流量和不同电弧分区对形核期金刚石表面形貌和晶粒尺寸的影响,以及时间和不同预处理方式对金刚石形核密度的影响。结果表明:随着氩气流量的增加,氩气对衬底表面的轰击作用增强,金刚石膜表面形貌呈现从(111)到(100)的变化规律,金刚石晶粒尺寸减小,晶形变得不完整;弧边位置(100)取向更明显;使用金刚石微粒对衬底进行研磨预处理能显著提高金刚石的形核密度。
左振博郭建超刘金龙陈良贤朱瑞华闫雄伯魏俊俊黑立富李成明
关键词:形核金刚石膜
大面积自支撑金刚石膜的机械研磨研究被引量:1
2013年
用100 kW级直流等离子体喷射系统制备金刚石自支撑膜,采用机械研磨方法对其进行平坦化加工。实验研究了不同研磨盘转速和不同压力对研磨的影响,分别用扫描电镜、数显千分表和X射线光电子能谱仪对金刚石膜研磨前后的表面形貌、厚度和金刚石去除机理进行了表征和分析。结果表明:研磨的转速和压力对膜的表面形貌和磨削速率影响非常明显,研磨盘转速为40 r/min,压力为0.50 MPa时,研磨效果较佳,磨削速率达到了80.5μm/h;研磨后的金刚石表面未发现有铁元素存在,金刚石的去除机理主要为微切削和应力诱导的金刚石膜局部石墨化。
文星凯魏俊俊刘金龙陈良贤黑立富李成明
关键词:机械研磨
金刚石自支撑膜衬底生长立方Y_2O_3薄膜的性能被引量:2
2014年
采用射频磁控溅射法在抛光的CVD金刚石膜上制备了立方(222)择优取向的Y2O3薄膜,利用XRD,纳米力学探针,划痕仪,FTIR和TEM等手段研究了退火对Y2O3薄膜的结构、力学性能和红外透过率的影响及Y2O3的微观结构。结果表明:通过退火Y2O3薄膜的结晶程度增加,退火后的择优取向仍为立方相(222)晶面结构;薄膜的硬度降低而弹性模量升高,薄膜与金刚石的结合力增加;薄膜的红外透过率略有降低;薄膜为柱状晶结构并存在大量非晶态。
王猛李成明陈良贤刘金龙郭建超魏俊俊黑立富吕反修
关键词:CVD金刚石Y2O3退火力学性能
共1页<1>
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