上海市博士后科研资助计划资助(09R21413000)
- 作品数：2 被引量：14H指数：2
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- Cd_(0.8)Mn_(0.2)Te晶体的磁化强度和法拉第效应研究被引量：5
- 2011年
- 采用垂直Bridgman法制备出了x=0.2的Cd1-xMnxTe晶体(Cd0.8Mn0.2Te)。利用MPMS-7(magnetic property measurement system)型超导量子磁强计测量了Cd0.8Mn0.2Te晶体的磁化强度(M)与磁场强度(H)和温度(T)的关系,磁场强度范围为-1592～1592kA/m,温度范围为2～200K。Cd0.8Mn0.2Te晶体的法拉第效应测试在300K温度下进行,磁场强度<0.2T。2K温度下的M-H曲线表明,晶体的Mn2+离子之间存在反铁磁相互作用。796A/m恒磁场下的磁化率χ与温度T的关系研究表明,晶体在2～200K之间是顺磁态,当T>40K时,χ与T满足居里-外斯定律;T<40K,χ与T的关系偏离居里-外斯定律,表现出顺磁增强现象。法拉第效应研究表明,晶体的Verdet常数的绝对值达到2×103deg/cm.T,采用单振子模型能够很好地拟合实验数据,得出晶体的激子能量E0=1.831eV,说明sp-d交换相互作用引起的激子跃迁对晶体的巨法拉第效应起到主要作用。
- 张继军王林军施凌云
- 关键词：磁化强度
- 碲锌镉晶片机械研磨和机械抛光工艺研究被引量：9
- 2011年
- 研究了碲锌镉(CZT)晶片表面的机械研磨和机械抛光工艺。采用不同粒度的Al2O3磨料对CZT晶体表面进行机械研磨和机械抛光,并研究了工艺参数变化对CZT晶体表面质量、粗糙度、研磨速度和抛光速度的影响。结果表明,机械研磨采用粒度2.5μm的Al2O3磨料,最佳的研磨压力和研磨盘转速分别为120g/cm2和75r/min,研磨速度为1μm/min;机械抛光采用粒度0.5μm的Al2O3抛光液,最佳的抛光液浓度为6.5%(质量分数),抛光速度为0.28μm/min。AFM测试得到机械研磨后晶片表面粗糙度Ra值为13.83nm,机械抛光4h后,Ra降低到4.22nm。
- 彭兰王林军闵嘉华张继军陈军梁小燕严晓林夏义本
- 关键词：碲锌镉机械研磨机械抛光粗糙度
