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东京磁气印刷株式会社

作品数:18 被引量:0H指数:0
相关机构:TDK株式会社恩益禧电子股份有限公司更多>>

文献类型

  • 18篇中文专利

主题

  • 6篇抛光
  • 5篇三唑
  • 5篇介质
  • 5篇记录介质
  • 5篇磁记录
  • 5篇磁记录介质
  • 4篇研磨
  • 4篇氧化剂
  • 4篇组合物
  • 4篇化合物
  • 4篇化学机械抛光
  • 4篇机械抛光
  • 3篇可逆
  • 3篇记录层
  • 3篇饱和磁化强度
  • 3篇磁化
  • 3篇磁化强度
  • 2篇研磨剂
  • 2篇氧化硅
  • 2篇淤浆

机构

  • 18篇东京磁气印刷...
  • 9篇TDK株式会...
  • 6篇恩益禧电子股...

年份

  • 3篇2006
  • 3篇2005
  • 3篇2004
  • 1篇2002
  • 3篇2001
  • 1篇2000
  • 3篇1999
  • 1篇1996
18 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
磁记录介质及其制造方法
借助一种包括有非磁性支承物和在所述支承物上至少形成两磁性层的磁记录介质,来获得一固定的永久性图案,用以识别磁记录介质,且防伪和防更改而又高度保密,其特点是,所述至少两磁性层中的至少一层含有在粘结剂内弥散、矫顽力为4,00...
一色贞一波多野真之桥本润一狩野智章神田悦史
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用于抛光磁头浮动块的方法
本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法,包括:一杆沿抛光板径向往返运动,并使有抛光面的抛光板旋转,对磁头浮动块的空气轴承面抛光,该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤,使抛...
樱田俊道藤田恭敏山口正雄折井一也斋藤军夫
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磁记录介质和磁记录/重放方法
一种能够有效地防止通过更改记录信息进行伪造的磁记录介质,和对该磁记录介质记录和读出的方法。该磁记录介质包括由含有Fe和Al的结晶合金制成的记录材料。Fe和Al的总量至少是90wt%,Al/(Fe+Al)的原子比是0.30...
长勤重田政雄唐津真弘藤井真理石板力齐藤胜美若山胜彦三村升平伊藤正宏
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磁记录介质及其使用方法
本发明的目的在于防止磁记录介质中记录数据的非法更改,该磁记录介质含有加热时饱和磁化强度发生不可逆变化的不可逆记录层。所述磁记录介质包括在基片的至少一部分上的不可逆记录层,所述不可逆记录层含有在加热时产生饱和磁化强度的不可...
伊藤正宏三村升平重田政雄长勤
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抛光研磨用的研磨油组合物
本发明涉及一种研磨油组合物,该组合物有利于在抛光研磨中的使用,提供高质量的研磨表面,不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物,较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。
折井一也齐藤军夫藤田恭敏樱田俊道山口正雄
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抛光研磨用的研磨油组合物
本发明涉及一种研磨油组合物,该组合物有利于在抛光研磨中的使用,提供高质量的研磨表面,不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物,较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。
折井一也齐藤军夫藤田恭敏樱田俊道山口正雄
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用于抛光铜基金属的浆
本发明涉及一种用于抛光铜基金属的浆,包括二氧化硅抛光材料,氧化剂,氨基酸,三唑类化合物和水,其中,所述氨基酸与所述三唑类化合物的含量比(氨基酸/三唑类化合物(重量比))为5-8。
土屋泰章青柳健一井上智子板仓哲之樱井伸
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游离磨料的浆料组合物及使用该组合物的研磨方法
本发明涉及一种游离磨料浆料组合物,该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨,不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂,所述防摩擦剂是...
铃木康之贺来智弘齐藤军夫折井一也藤田恭敏山口正雄佐佐木正博
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用于抛光铜基金属的浆
本发明涉及一种用于抛光铜基金属的浆,包括二氧化硅抛光材料,氧化剂,氨基酸,三唑类化合物和水,其中,所述氨基酸与所述三唑类化合物的含量比(氨基酸/三唑类化合物(重量比))为5-8。
土屋泰章井上智子樱井伸青柳健一板仓哲之
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磁记录介质及其制造方法
借助一种包括有非磁性支承物和在所述支承物上至少形成两磁性层的磁记录介质,来获得一固定的永久性图案,用以识别磁记录介质,且防伪和防更改而又高度保密,其特点是,所述至少两磁性层中的至少一层含有在粘结剂内弥散、矫顽力为4,00...
一色贞一波多野真之桥本润一狩野智章神田悦史
文献传递
共2页<12>
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