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细美事有限公司

作品数：2,104 被引量：0H指数：0
相关机构：三星电子株式会社首尔大学韩国科学技术研究院更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信文化科学金属学及工艺更多>>

合作机构

文献类型

  • 2,104篇中文专利

领域

  • 280篇自动化与计算...
  • 277篇电子电信
  • 201篇文化科学
  • 67篇金属学及工艺
  • 47篇经济管理
  • 24篇建筑科学
  • 21篇机械工程
  • 19篇电气工程
  • 19篇医药卫生
  • 15篇化学工程
  • 13篇轻工技术与工...
  • 10篇政治法律
  • 9篇理学
  • 7篇石油与天然气...
  • 7篇动力工程及工...
  • 7篇交通运输工程
  • 7篇一般工业技术
  • 6篇矿业工程
  • 4篇环境科学与工...
  • 1篇水利工程

主题

  • 1,338篇基板
  • 243篇喷嘴
  • 236篇支承
  • 181篇传送
  • 162篇等离子体
  • 141篇流体
  • 121篇半导体
  • 110篇气体
  • 107篇控制器
  • 105篇装载
  • 102篇卡盘
  • 102篇衬底
  • 98篇壳体
  • 87篇喷墨
  • 78篇管线
  • 74篇喷墨头
  • 74篇墨头
  • 69篇加热器
  • 66篇等离子
  • 63篇基底

机构

  • 2,104篇细美事有限公...
  • 28篇三星电子株式...
  • 4篇首尔大学
  • 2篇韩国科学技术...
  • 2篇成均馆大学校...
  • 2篇三星显示有限...
  • 2篇釜山大学校产...
  • 1篇延世大学
  • 1篇世宗大学
  • 1篇信一化学工业...

年份

  • 414篇2024
  • 500篇2023
  • 254篇2022
  • 147篇2021
  • 137篇2020
  • 87篇2019
  • 89篇2018
  • 60篇2017
  • 71篇2016
  • 29篇2015
  • 41篇2014
  • 51篇2013
  • 35篇2012
  • 36篇2011
  • 47篇2010
  • 62篇2009
  • 25篇2008
  • 10篇2007
  • 9篇2006
共 2,104 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
控制搬送车辆的方法、车辆控制装置以及物品搬送系统
本发明提供控制搬送车辆的方法、车辆控制装置以及物品搬送系统。制造工厂的物品搬送系统中控制搬送车辆的方法包括：确认用于搬送物品的作业的步骤；针对多个搬送车辆的各个搜索按作业路径的步骤；计算各所述搬送车辆的按作业估耗电量的步...
曹在亨
基板清洁组合物、基板清洁方法和基板处理装置
提供了一种用于清洁基板的组合物。根据一个实施方式，用于清洁基板的组合物包含有机溶剂，该有机溶剂针对聚苯乙烯胶乳的汉森溶解度参数为5以上至12以下。
崔海园崔基勋李在晟许瓒宁A·科里阿金金度宪郑址洙
文献传递
旋转头
本发明提供一种支撑和旋转基材的旋转头。该旋转头包括主体、设置在该主体上并可在支撑位置和非支撑位置之间移动的夹持销以及被配置成用于直线移动该夹持销的夹持销移动单元。该夹持销在支撑位置处支撑基材，并在非支撑位置处提供基材装载...
李泽烨
文献传递
用于供给处理流体的装置和具有该装置的处理衬底用装置
在一种用于将处理流体供给至衬底上的装置和一种具有该装置的用于处理衬底的装置中，处理流体刀在平行于该衬底的表面的方向延伸，并具有缝喷嘴以供给该处理流体。杆在该刀的延伸方向延伸穿过该刀，并且在该刀的延伸方向将张紧力施加刀该杆...
李正洙朴奇洪
文献传递
一种基板处理装置及基板处理方法
本发明提供一种基板处理装置。根据本发明的优选实施例的基板处理装置，可包括：第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第...
金镇浩
文献传递
基板处理设备及基板传送方法
本发明提供一种基板处理设备及基板传送方法，该基板处理设备包括：装载/卸载单元；处理单元，在该处理单元中执行基板处理工艺；加载锁定单元，其布置在装载/卸载单元与处理单元之间；以及搬运构件，其在处理单元与加载锁定单元之间传送...
河宗义
文献传递
基片显影方法及实施该方法的装置
在实施基片显影处理的装置中，包括相对地设置在用于支承所述基片的基片支承部两侧的第一洗槽和第二洗槽，以清洗显影喷嘴。显影喷嘴以水平方向从第一洗槽朝第二洗槽移动，并同时将显影液施加到基片上。在施加显影液后，显影喷嘴收纳到第二...
吴斗荣柳寅喆
文献传递
能够更换消耗品的基板处理装置
本发明公开一种能够更换消耗品的基板处理装置，是一种维持基板处理装置的腔室工艺环境的同时，能够更换喷头、聚焦环等消耗品的支持方案。根据本发明的能够更换消耗品的基板处理装置包括：工艺腔室，设有执行基板处理工艺的处理空间；升降...
梁映轘卢收练姜廷锡
基板支承装置及其制造方法
本发明的一实施例提供一种基板支承装置及其制造方法，基板支承装置包括：底座，至少形成一个以上第一气体供给孔，以便供给温度调节气体；以及静电卡盘，设置于所述底座上并支承基板，并且至少形成一个以上第二气体供给孔，以便与所述第一...
李相起李在京
使用磁场的等离子体处理设备和等离子体控制方法
一种使用磁场的等离子体处理设备，所述等离子体处理设备包括：反应室；等离子体产生装置，所述等离子体产生装置连接到所述反应室以在所述反应室中产生等离子体；衬底支撑件，所述衬底支撑件设置在所述反应室的下部以支撑待由所述等离子体...
孙德铉李东穆金炯俊
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