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中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心
作品数:
61
被引量:13
H指数:2
相关机构:
中国科学院微电子研究所
嘉兴科民电子设备技术有限公司
浙江大学
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发文基金:
国家自然科学基金
辽宁省自然科学基金
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相关领域:
电子电信
一般工业技术
自动化与计算机技术
文化科学
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中国科学院微电子研究所
嘉兴科民电子设备技术有限公司
浙江大学
山东大学
山东科技大学
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中国科学院嘉...
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中国科学院微...
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嘉兴科民电子...
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山东大学
2篇
浙江大学
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辽宁工业大学
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山东科技大学
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昆明理工大学
作者
8篇
夏洋
6篇
刘键
2篇
李超波
2篇
夏洋
1篇
李楠
1篇
赵斌
1篇
刘邦武
1篇
计峰
1篇
饶志鹏
1篇
张祥
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李敏
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汪明刚
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王冰
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万军
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屈芙蓉
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唐立丹
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贾毅
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汤文辉
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陈波
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压电与声光
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第十四届全国...
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2019
4篇
2018
16篇
2017
5篇
2016
6篇
2015
4篇
2014
13篇
2012
8篇
2011
1篇
2010
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一种激光偏振控制模块
本实用新型属于激光技术领域,公开了一种激光偏振控制模块,包括:偏振棱镜,接收所述激光,并将激光转换成线偏振光;半波片,通过电动旋转镜架实现半波片指定角度旋转,用于改变线偏振光的偏振方向;第一1/4波片,电动平移台控制第一...
陈鲁
刘虹遥
张朝前
杨乐
马砚忠
路鑫超
文献传递
一种应用于等离子体设备的腔室结构及等离子体设备
本发明公开了一种应用于等离子体设备的腔室结构及等离子设备,包括射频线圈、石英耦合窗、腔体、衬底、下电极、等离子聚焦结构和磁性件,所述射频线圈设置在所述石英耦合窗的上部,所述石英耦合窗设置在所述腔体的上部,所述衬底设置在所...
张庆钊
文献传递
原子层沉积ALD技术的材料表面防护应用
本文以Al2O3和TiO2为基础材料,对比了原子层沉积单一材料层和Al2O3/TiO2,叠层等不同工艺条件下镀膜对阳极氧化铝衬底的封孔效果和抗腐蚀性能影响。SEM及染色实验表明原子层沉积工艺能够有效的进行阳极氧化铝材料的...
贾毅
一种单晶立方型氮化碳薄膜的制备方法
本发明涉及氮化碳的制备技术,具体涉及一种单晶立方型氮化碳薄膜的制备方法,包括如下步骤:将硅衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;向所述原子层沉积设备反应腔中通入重氮甲烷,所述重氮甲烷在硅衬底表面进行化学吸附;所述的重氮甲烷与...
刘键
饶志鹏
夏洋
石莎莉
一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔
一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔,包括腔体,所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口,所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖,所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道,所述工...
黄成强
汪明刚
陈波
李超波
文献传递
原子层沉积的阳极氧化铝封孔抗腐蚀应用研究
本文以Al2O3和TiO2为基础材料,对比了原子层沉积单一材料层和Al2O3/TiO2叠层等不同工艺条件下镀膜对阳极氧化铝衬底的封孔效果和抗腐蚀性能影响.SEM及染色实验表明原子层沉积工艺能够有效的进行阳极氧化铝材料的孔...
贾毅
杨忙
卢维尔
计峰
李超波
方攸同
夏洋
关键词:
原子层沉积
AL2O3
TIO2
封孔
抗腐蚀
一种单晶立方型氮化碳薄膜的制备方法
本发明涉及氮化碳的制备技术,具体涉及一种单晶立方型氮化碳薄膜的制备方法,包括如下步骤:将硅衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;向所述原子层沉积设备反应腔中通入碳源气体,所述碳源气体作为第一反应前驱体在硅衬底表面进行碳化学吸...
刘键
饶志鹏
夏洋
石莎莉
一种用于氮化碳薄膜制备的化学吸附方法
本发明涉及氮化碳的制备技术,具体涉及一种用于氮化碳薄膜制备的化学吸附方法,包括如下步骤:在原子层沉积腔室中,通入气相前驱体,形成一种具有未成键电子的物质,与衬底表面原子形成共价键,实现化学吸附;通入与衬底表面发生取代反应...
刘键
饶志鹏
夏洋
石莎莉
一种运动平台及光路安装调节的装置和方法
本发明属于光学技术领域,公开了一种运动平台及光路安装调节的装置和方法,其中,装置包括:基准器件、运动平台、调节件、螺纹副、固定件、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜;方法为:固定基准器件;在基准器件的下方放置...
陈鲁
张朝前
刘虹遥
杨乐
马砚忠
路鑫超
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一种单原子层石墨烯薄膜的制备方法
本发明涉及石墨烯的制备技术,具体涉及一种单原子层石墨烯薄膜的制备方法,包括如下步骤:将碳化硅衬底放置于原子层沉积设备反应腔中;向所述原子层沉积设备反应腔中通入重氮甲烷,所述重氮甲烷在碳化硅衬底表面进行化学吸附;所述的重氮...
夏洋
饶志鹏
刘键
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