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中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司

作品数:46 被引量:7H指数:1
相关机构:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司中交第二航务工程局有限公司湖南科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信文化科学自动化与计算机技术电气工程更多>>

文献类型

  • 42篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 13篇电子电信
  • 3篇文化科学
  • 2篇矿业工程
  • 2篇电气工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 20篇半导体
  • 11篇导体
  • 11篇半导体结构
  • 8篇半导体器件
  • 7篇栅极
  • 6篇介质层
  • 6篇互连
  • 6篇插塞
  • 5篇栅极结构
  • 5篇基底
  • 5篇侧墙
  • 5篇衬底
  • 4篇掩模
  • 4篇阻挡层
  • 4篇刻蚀
  • 4篇互连结构
  • 4篇沟槽
  • 3篇电迁移
  • 3篇掩膜
  • 3篇势垒

机构

  • 45篇中芯国际集成...
  • 42篇中芯国际集成...
  • 1篇湖南科技大学
  • 1篇中交第二航务...

作者

  • 1篇王广斌
  • 1篇李学军
  • 1篇罗军
  • 1篇李龙

传媒

  • 1篇振动与冲击
  • 1篇军民两用技术...
  • 1篇资源节约与环...

年份

  • 4篇2024
  • 19篇2023
  • 7篇2022
  • 11篇2021
  • 1篇2020
  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2015
46 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
探针固定模组及测试装置
一种探针固定模组及测试装置,探针固定模组包括:固定座,包括沿水平方向延伸的第一连接主体部;探针固定组件,包括用于固定探针的固定件,固定件包括沿水平方向延伸且与第一连接主体部的底面相对设置的第二连接主体部;直线伸缩机构,位...
刘涛杨凤娟杨莉娟
半导体器件及其形成方法
本发明提供一种半导体器件及其形成方法,其中方法包括:形成初始化结构,并在伪栅极、初始栅氧化层和半导体衬底的夹角处形成拐角;移除鳍部的侧壁上的拐角在鳍部的投影区域以外的初始栅氧化层,以及移除鳍部的侧壁上的拐角在鳍部的投影区...
纪世良刘盼盼张海洋
文献传递
半导体器件及其形成方法
本发明提供一种半导体器件及其形成方法,包括:提供衬底,所述衬底包括存储区和逻辑区;在所述存储区上形成若干相互分立的存储栅结构、以及在所述逻辑区上形成栅极膜层,所述存储栅结构包括浮栅层以及位于所述浮栅层上的控制栅层;在所述...
施平罗登贵张连谦
关于半导体行业含氟废水的处理策略探讨被引量:1
2015年
随着科技的发展,中国也逐渐开始转向电子整机产品生产,半导体行业的加入更是加快了中国转向的步伐,让中国获得了大量的需求和机遇,半导体行业的企业也开始大量在中国建立生产基地。半导体行业在中国迅速发展的同时也给中国带来了新的环境问题,其中半导体行业生产的含氟废水对于环境的危害最为严重。本文首先分析半导体行业含氟废水的产生,然后概述含氟废水的处理方法,最后探讨处理半导体行业含氟废水的有效策略。寄希望对我国半导体行业含氟废水的有效处理提供帮助。
汪轶杰
关键词:半导体含氟废水
一种互连结构的形成方法
一种互连结构的形成方法,包括:通过在第一沟槽的底部和部分侧壁表面、以及第二沟槽的底部和部分侧壁表面形成第一黏附阻挡层,以第一黏附阻挡层为掩模,对第一沟槽侧部和第二沟槽侧部的介质层进行刻蚀处理。在进行刻蚀处理时,通过横向刻...
纪登峰金懿
文献传递
一种显影液喷吐量称量装置
本申请提供一种显影液喷吐量称量装置,所述称量装置包括:显影液喷嘴,被配置为喷吐显影液;称量工具,设置于所述显影液喷嘴正下方;升降装置,与所述显影液喷嘴相连,被配置为控制所述显影液喷嘴升降;距离传感器,设置于所述称量工具面...
陈家柱叶勋蒋文昌姚宏忠高涛
文献传递
半导体结构及其形成方法
一种半导体结构及其形成方法,所述形成方法包括:提供基底,所述基底内形成有源漏掺杂区,所述基底上形成有层间介质层,所述层间介质层中形成有露出源漏掺杂区的接触孔;在所述接触孔露出的源漏掺杂区上形成金属层;在所述金属层上形成填...
张田田
集成电路制造工艺质量管理
2016年
伴随社会的全面发展,市场经济体制改革深化落实,企业若想在纷繁复杂的市场竞争中始终立于不败之地,必须构建现代化、科学化的管理体系,确保综合竞争实力的提升.集成电路产业历经半个世纪的发展,如今已经成为我国制造业中发展比较完整,贡献率比较大的产业,但是与发达国家相比,我国集成电路产业依然处于初级发展阶段,导致这一问题的主要原因是集成电路制造工艺质量管理能力不足,导致我国集成电路产业依然处于粗放式的发展现状.本文以集成电路制造工艺质量管理为研究视角,从质量管理以及集成电路生产制造的特点出发,透视集成电路制造工艺质量管理实践中常见的问题,进而提出具有时效性的能够切实提升管理水平的对策,期待为我国集成电路产业的发展贡献绵薄之力.
胡媛
关键词:集成电路质量管理
静电放电保护电路、半导体结构及其形成方法
一种静电放电保护电路、半导体结构及其形成方法,其中,静电放电保护电路包括:第一三极管结构,所述第一三极管结构的发射极与外部电路相连接;第二三极管结构,所述第二三极管结构的基极与第一三极管结构的集电极相连接,所述第二三极管...
刘涛杨凤娟杨莉娟
MRAM器件及其形成方法
一种MRAM器件及其形成方法,所述方法包括:提供基底;在所述基底上形成底部材料层和位于所述底部材料层上的磁隧道结材料层;图形化所述磁隧道结材料层并停止于所述底部材料层,使磁隧道结材料层形成磁隧道结结构;在所述磁隧道结结构...
杨成成王百钱何其暘黄敬勇
文献传递
共5页<12345>
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