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中南民族大学电子信息工程学院等离子体研究所

作品数:49 被引量:164H指数:8
相关作者:孔中华左雄樊英熊黎张龙更多>>
相关机构:中国科学院地质与地球物理研究所武汉工程大学理学院更多>>
发文基金:国家民委科研基金湖北省自然科学基金武汉市重点科技攻关计划项目更多>>
相关领域:金属学及工艺理学电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 46篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 14篇金属学及工艺
  • 9篇理学
  • 7篇电子电信
  • 5篇自动化与计算...
  • 4篇天文地球
  • 4篇电气工程
  • 3篇化学工程
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇轻工技术与工...
  • 2篇环境科学与工...

主题

  • 9篇等离子体
  • 6篇微弧氧化
  • 5篇电源
  • 5篇溅射
  • 4篇渗氮
  • 4篇陶瓷膜
  • 4篇离子渗
  • 4篇光催化
  • 4篇改性
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 4篇催化
  • 3篇电离层
  • 3篇性能研究
  • 3篇乙烯
  • 3篇四氟乙烯
  • 3篇陶瓷
  • 3篇离子渗氮
  • 3篇聚四氟乙烯
  • 3篇合金

机构

  • 48篇中南民族大学
  • 2篇中国科学院
  • 2篇广西科技师范...
  • 1篇中国运载火箭...
  • 1篇武汉工程大学
  • 1篇成都双流国际...

作者

  • 22篇孙奉娄
  • 18篇何翔
  • 8篇陈首部
  • 5篇危立辉
  • 4篇朱正平
  • 4篇陈艳
  • 4篇钟志有
  • 4篇韦世良
  • 4篇孙南海
  • 3篇田晓梅
  • 3篇周武庆
  • 2篇潘红梅
  • 2篇王喜眉
  • 2篇曾令宏
  • 2篇陈锟
  • 2篇孔中华
  • 2篇惠述伟
  • 1篇徐志立
  • 1篇侯金
  • 1篇周金

传媒

  • 14篇中南民族大学...
  • 4篇现代电子技术
  • 3篇表面技术
  • 2篇金属热处理
  • 2篇材料保护
  • 2篇电子技术(上...
  • 2篇兵器材料科学...
  • 2篇武汉工程大学...
  • 1篇化工新型材料
  • 1篇腐蚀与防护
  • 1篇化学工程师
  • 1篇电脑开发与应...
  • 1篇空间科学学报
  • 1篇产业用纺织品
  • 1篇热加工工艺
  • 1篇核聚变与等离...
  • 1篇材料导报
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇化学工业与工...
  • 1篇武汉科技学院...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 3篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2012
  • 3篇2011
  • 3篇2010
  • 6篇2009
  • 2篇2008
  • 7篇2007
  • 7篇2006
  • 3篇2005
  • 5篇2004
  • 1篇2003
49 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
TiO_2磁控溅射工艺参数对薄膜沉积速率的影响被引量:4
2014年
为了经济、有效、准确地在线测量光学薄膜厚度,采用射频磁控反应溅射法在玻璃衬底上制备TiO2薄膜。用自制的简易监测系统对TiO2薄膜在生长过程中的沉积速率进行了即时测量,研究了射频功率、气体流量、工作气压等工艺参数对TiO2薄膜沉积速率的影响规律。结果表明:沉积速率监测系统对膜厚变化反应灵敏,能够实时监测薄膜生长速率;溅射过程中,射频功率、氧氩流量比和工作气压对薄膜沉积速率有较大的影响,射频功率从120 W增加到240 W,薄膜沉积速率增加;氧气流量从1 mL/min增加到5 mL/min,薄膜沉积速率先逐渐增大后减小,存在一个临界点;工作气压从0.3 Pa增加到0.8 Pa,薄膜沉积速率缓慢增加,但临界点后迅速下降。
孙奉娄张龙
关键词:磁控溅射TIO2薄膜沉积速率工艺参数
等离子体渗氮工艺自动控制系统方案与设计
2005年
针对等离子体渗氮工艺过程特殊, 控制量变化复杂, 人为因素影响较大等情况。利用自行研制的大功率直流脉冲电源进行等离子体渗氮, 在很大程度上解决了物理参数与工艺参数的耦合问题, 同时改善了灭弧性能, 为渗氮工艺自动控制提供了可能。因此,提出了一种利用智能仪表、上位机进行主从式控制等离子体渗氮工艺的自动控制方案, 实验结果表明: 该渗氮工艺控制系统可以较好地实现渗氮工艺过程控制, 提高了自动化水平, 增强了工件渗氮效果。
金文孙奉娄何翔
关键词:自动控制系统金属热处理
双辉光放电极间解耦的电源控制方法
2018年
论述了双辉光离子渗金属两电极之间互相作用的机理,针对极间耦合的情况提出了两台电源一个时序下交替工作的控制方案。以工件温度控制为主,自适应分配两电源的交替工作时间,既解决了二源的相互影响问题,又保证了高的运行效率。实际应用证明该方案满足工艺要求,合理可行。
孙奉娄舒帅
关键词:离子渗金属稳定性
纯铝材电解液微弧氮化工艺探讨被引量:2
2011年
电解液微弧氮化工艺简单,过去未见用其制备AlN膜的报道。采用电解液微弧氮化工艺在纯铝基片上制备了AlN陶瓷膜,利用正交试验优化工艺,研究了最优工艺制备的膜层的物相、形貌,并探讨了占空比、放电频率对膜层硬度、绝缘电阻、耐压值的影响。结果表明:正交试验优化的工艺为100 mL超纯水中CO(NH2)2 35.0 g,EDTA-2Na 3.0 g,放电频率1.0 kHz,占空比20%;各因素的影响由主到次依次为CO(NH2)2浓度、占空比、放电频率、EDTA-2Na浓度;最优工艺制备的陶瓷膜由多晶AlN组成,膜层致密;选择适当的占空比和放电频率有利于改善AlN陶瓷膜的性能。
孙奉娄戴茂飞
关键词:放电参数
等离子体在PTFE表面改性方面的研究被引量:10
2006年
阐述了等离子体表面改性技术的作用原理,介绍了等离子体在聚四氟乙烯(PTFE)表面改性方面的研究进展。提出了新的设想与展望。
周武庆孙奉娄
关键词:等离子体表面改性聚四氟乙烯
渗氮温度对奥氏体不锈钢性能的影响被引量:3
2010年
利用自行研制的直流脉冲离子渗氮设备对奥氏体不锈钢进行离子渗氮,采用显微硬度计、倒置金相显微镜等手段研究了渗氮温度对奥氏体不锈钢显微硬度、金相组织、耐磨性能和耐腐蚀性能的影响。结果表明,通过离子渗氮处理得到的渗层表面硬度均在1150 HV0.05以上,耐磨性能提高4~5倍,低温离子渗氮在提高耐磨性能的同时保持其耐腐蚀性能基本不变。
韦世良陈首部曾令宏
关键词:渗氮温度奥氏体不锈钢离子渗氮
离子渗氮计算机控制系统被引量:1
2003年
介绍了一种离子渗氮的计算机自动控制系统。该系统由上位PC机和下位单片机组成。通过对电压、占空比、气体流量等参量的调节 ,自动控制冷壁炉辉光放电过程中工件温度和炉内气压。
何翔孙奉娄陈首部
关键词:表面处理离子渗氮自动控制
电离层无源探测及数字测高仪研制
本研究以现代先进的ARM7, DDS和FPAG应用技术以及微计算机USB接口技术自主研制成功了一套新的电离层数字测高仪样机,命名为NIDI-I (Newly-developed Ionospheric Digital I...
朱正平孙奉娄陈锟蓝加平宁百齐万卫星
关键词:电离层无源探测USB接口
文献传递
交流和直流脉冲等离子体改性聚四氟乙烯对比研究被引量:3
2007年
利用自行研制的直流脉冲电源和交流脉冲电源产生等离子体,分别对聚四氟乙烯进行了表面改性研究。在放电电压、占空比、工作气压、工作气氛、处理时间相同的情况下,探讨了直流脉冲和交流脉冲等离子体对样品改性效果的不同影响;通过接触角测量、扫描电镜(SEM)等手段对未处理的、直流脉冲和交流脉冲作用后的亲水性、表面形貌进行了检测和分析。结果表明:交流脉冲等离子体对PTFE的改性效果优于直流脉冲等离子体。
周武庆孙奉娄何翔
关键词:聚四氟乙烯表面改性亲水性
交流脉冲制备TiO_2薄膜的性能研究被引量:2
2006年
利用150kH z交流脉冲放电进行等离子体化学气相沉积(PCVD),使用T i(OC3H7)4为源物质,在普通钠钙载玻片上制备了T iO2膜.主要考查了交流脉冲电压、反应室工作气压、气体流量、薄膜沉积温度等工艺参数对薄膜光学特性的影响.通过薄膜透过率和吸光度分析,探讨了各工艺参数对成膜品质的影响.结果表明:在载玻片上,根据不同沉积条件可制成性能不同的T iO2薄膜,均有光催化特性且附着力好.
陈艳何翔孙奉娄
关键词:等离子体化学气相沉积TIO2薄膜
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