中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
- 作品数：100 被引量：217H指数：8
- 相关作者：薛丽君李金儒汤跃科易里成荣胡勇更多>>
- 相关机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心安徽大学电子信息工程学院兰州大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学机械工程更多>>
- CIF到PG3600格式转换的算法研究被引量：2
- 2007年
- 提出了微光刻图形CIF数据格式到PG3600数据格式转换软件新的图形切割算法,该算法将L-EDIT输出的CIF格式中的四种图形当作任意多边形处理,然后把多边形切割成矩形。与其他算法相比较,该算法简单、切割理想、切割后的矩形数据量比其他算法少很多。并以此算法为基础,编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT上的数据格式转换软件。
- 李金儒陈宝钦赵珉汤跃科
- 关键词：CIF格式数据格式转换
- X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究被引量：1
- 2004年
- 针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证。采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的数据,然后再进行数据分析,得出LAPLAC算子在识别精度和对准精度两个方面比较好,而改进后的SOBELII算子的对准时间最短,对准精度也很高。
- 王德强谢常青叶甜春刘业异胡松
- 关键词：X射线光刻拉普拉斯算子
- 电子束光刻制备5000line/mm光栅掩模关键技术研究被引量：4
- 2008年
- 为了制备高线密度X射线透射光栅掩模,分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响;利用几何校正技术和低灵敏度的950 k的PMMA电子束抗蚀剂,克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响。采用电子束光刻和微电镀的方法制备了5000 line/mm X射线透射光栅的掩模,并将栅线宽度精确控制在100 nm^110 nm,为X射线光刻复制高线密度X射线透射光栅创造了有利条件。
- 朱效立谢常青赵珉陈宝钦叶甜春牛洁斌张庆钊刘明
- 关键词：电子束光刻邻近效应校正X射线光刻
- HSQ用于电子束曝光的性能分析被引量：2
- 2008年
- 作为一种非化学放大的无机负性电子束光刻抗蚀剂,HSQ(hydrogen silsesquioxane)具有极高的分辨率(约5 nm),由于灵敏度较低,限制了其在微纳米加工方面的应用。从化学结构变化的角度分析了HSQ在电子束曝光中的性能,通过实验验证了其灵敏度及对比度受前烘温度及显影液浓度的影响较大,并且其在电子束曝光中的邻近效应也可以通过改变这两个条件而得到一定的抑制。根据所得优化工艺条件,在450 nm胶层上,制作出100 nm等间距光栅结构胶层图形,且其侧壁陡直性良好。
- 赵珉陈宝钦刘明谢常青朱效立
- 关键词：电子束曝光技术
- 悬臂梁微尖端器件的制备与应用研究进展被引量：1
- 2005年
- 焦斌斌陈大鹏叶甜春欧毅董立军杨清华
- 关键词：扫描隧道显微镜MEMS悬臂梁
- 应用于流动控制的MEMS传感器和执行器被引量：2
- 2006年
- 出现于20世纪80年代后期的微机械技术可以制作出微米尺度的传感器和执行器。这些微器件与信号调节和处理电路集成后,组成了可执行分布式实时控制的微电子机械系统(MEMS)。这种性能为流动控制研究开辟了一个崭新的研究领域。利用MEMS技术设计和制作了一种传感器和一种执行器。实验证明,采用体硅腐蚀的工艺制作微流体器件是可行的,同时可以避免牺牲层腐蚀和释放的复杂工艺。
- 欧毅白宏磊石莎莉焦斌斌李超波黄钦文董立军景玉鹏陈大鹏叶甜春申功
- 关键词：流体
- 日本近年RF MEMS开关研究的进展被引量：5
- 2006年
- RFMEMS是射频表面微机械系统简称。射频表面微机械系统现在包括滤波器和微型电器元件,如开关,微可变电容和微可变电感。射频开关按驱动原理分有静电,压电,电磁以及热驱动。由于这一研究的高频化和高精度的特点,目前开关的研究集中在静电驱动的方式的研究上,从上市的产品来看,静电驱动是最有希望的RFMEMS的执行机构。静电执行器驱动的RFMEMS开关成为下一代高频通讯中的关键部件。
- 景玉鹏黄钦文石莎莉焦斌斌李超波董立军杨清华欧毅陈大鹏叶甜春
- 关键词：高频开关高频继电器
- SAW化学战剂传感器的研究进展被引量：1
- 2008年
- 简要叙述了声表面波(SAW)化学战剂传感器的传感原理和研究进展。详细阐述了高Q低插损SAW振荡电路的设计、敏感膜材料和成膜技术的研究进展,指出了SAW化学战剂传感器发展的趋势。
- 赵以贵刘明牛洁斌
- 关键词：声表面波化学传感器敏感膜
- X射线光刻和剥离技术制作声表面波叉指换能器
- 2008年
- 提供了采用电子束光刻、X射线光刻和金属剥离技术制作亚微米尺寸的声表面波叉指换能器的方法。首先利用电子束光刻和微电镀技术制作X射线光刻的掩模,然后利用X射线光刻和剥离技术高效地制作大面积、纳米尺电、电极陡直均匀的叉指换能器。制备出的叉指电极特征尺寸为600 nm,面积为4 mm×6 mm,断指率小于3‰,可应用于高频声表面波器件中。研究结果表明,X射线光刻结合剥离技术是一种制备高频SAW器件的优良方法。
- 李晶晶赵以贵贾锐李冬梅牛洁斌柯导明陈军宁
- 关键词：声表面波器件叉指换能器X射线光刻电子束光刻
- 高高宽比硬X射线聚焦波带片的制作被引量：2
- 2008年
- 相对于软X射线显微成像,硬X射线显微成像对菲涅尔波带片的吸收体厚度提出了更高的要求。采用电子束光刻和X射线光刻复制的方法,在聚酰亚胺薄膜上成功制作了高高宽比的菲涅尔波带片。首先利用电子束光刻和微电镀技术制作了X射线光刻的掩模,然后利用X射线光刻和微电镀制作了高高宽比、线条侧壁陡直的菲涅尔波带片。复制后的波带片最外环宽度500 nm,直径1 mm,吸收体金厚度为3.6μm,高宽比达到7.2,可用于10 keV^25 keV的硬X射线成像。
- 吴璇陈军宁朱效立牛洁斌李亚文胡松胡松
- 关键词：硬X射线X射线光刻电子束直写
