常州市高分子新材料重点实验室 作品数:16 被引量:93 H指数:6 相关作者: 吴盾 更多>> 相关机构: 江苏工业学院 常州市新能源工程重点实验室 中国科学院 更多>> 发文基金: 江苏省“青蓝工程”基金 江苏省高技术研究计划项目 常州市工业科技攻关项目 更多>> 相关领域: 化学工程 一般工业技术 理学 医药卫生 更多>>
膨胀石墨的表面修饰及其对甲醛吸附性能研究 被引量:15 2009年 以氧化插层法制备的膨胀石墨(expandedgraphite,EG)为吸附剂,采用十六烷基三甲基溴化铵(cetyltrimethylammonium bromide,CTAB)对EG进行表面修饰(改性)。研究改性和吸附工艺对EG吸附甲醛气体性能的影响。结果表明:改性剂的浓度对EG吸附甲醛气体有较大影响,当CTAB的浓度为0.04mol/L时,改性EG对甲醛的吸附效果较好。随着改性温度和时间的增加,改性EG对甲醛的吸附量先增加后减少,最佳改性温度和时间分别为70℃和90min。在室温(25℃)下,改性EG对甲醛气体的吸附效果较好。最佳工艺条件下,改性EG对甲醛气体的吸附量高达840mg/g。 付猛 王荣飞 赵晓兵 丁建宁 陈志刚关键词:膨胀石墨 表面修饰 甲醛 纳米CeO_2颗粒的制备及其对硅晶片(100)和(111)的抛光性能 被引量:3 2009年 以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料,在微波辐射条件下,使用乙醇/水反应体系,通过均相沉淀法制备了纳米CeO2颗粒,利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶转换红外光谱仪(FT-IR)和比表面积测定仪(BET-N2)等手段对样品的成分、物相结构、形貌、颗粒大小以及团聚情况进行了表征.将所制备的纳米CeO2颗粒作为磨料用于硅晶片(100)和(111)的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度,并对抛光表面划痕进行了分析.结果表明,微波辐射以及乙醇/水反应体系均有利于制备出粒径更小、分散性更好的纳米CeO2颗粒,而且微波辐射能够显著加快反应速度;经纳米CeO2磨料抛光的硅晶片(100)和(111)表面非常平整,在2μm×2μm范围内的粗糙度Ra值分别为0.275 nm和0.110 nm,获得了具有亚纳米量级粗糙度的抛光表面. 陈杨 陈志刚 陈爱莲关键词:氧化铈 微波辐射 硅晶片 抛光 包覆结构CeO_2/SiO_2复合磨料的合成及其应用 被引量:5 2010年 以正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,采用均匀沉淀法制备具有草莓状包覆结构的CeO2/SiO2复合粉体。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪(XPS)、动态光散射仪和Zeta电位测定仪等手段,对所制备样品的物相结构、组成、形貌和粒径大小进行表征。将所制备的包覆结构CeO2/SiO2复合粉体用于硅晶片热氧化层的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度,并测量材料去除率。结果表明:所制备的CeO2/SiO2复合颗粒呈规则球形,平均粒径为150~200nm,CeO2纳米颗粒在SiO2内核表面包覆均匀。CeO2颗粒的包覆显著地改变复合颗粒表面的电动力学行为,CeO2/SiO2复合颗粒的等电点为6.2,且明显地偏向纯CeO2;CeO2外壳与SiO2内核之间形成Si—O—Ce键,两者产生化学键结合;抛光后的硅热氧化层表面在2μm×2μm范围内粗糙度为0.281nm,材料去除率达到454.6nm/min。 陈杨 隆仁伟 陈志刚关键词:包覆 化学机械抛光 凹凸棒石对水中亚甲基蓝的脱色研究 被引量:5 2008年 以亚甲基蓝为目标污染物,以凹凸棒石为吸附剂,研究煅烧温度、吸附温度、吸附时间和凹凸棒石用量对亚甲基蓝水溶液脱色性能的影响。结果表明,煅烧温度、吸附温度、吸附时间和凹凸棒石用量是凹凸棒石吸附亚甲基蓝的重要影响因素。在煅烧温度为350℃时,亚甲基蓝水溶液的脱色率可达69%;随吸附时间的延长,凹凸棒石对水溶液中亚甲基蓝的脱色率增大,吸附时间超过30 min后,凹凸棒石吸附即可达到平衡;随吸附温度的升高,凹凸棒石对亚甲基蓝水溶液的脱色率呈上升趋势;随凹凸棒石用量的增加,水中亚甲基蓝的脱色率随之增大,在投加量为1.0-1.5 g时,单位质量纯凹凸棒石对亚甲基蓝的吸附量较高。 付猛 严春霞 胡佳佳 陈志刚关键词:凹凸棒石 亚甲基蓝 脱色 PC/PBT共混物的结晶行为研究 被引量:9 2008年 采用差示扫描量热法(DSC)研究PC/PBT共混物结晶行为及酯交换反应对共混物结晶行为的影响。结果表明,在实验范围内,PC的引入对PBT的结晶起到促进作用,提高其结晶速率,缩短了结晶时间,但对PBT的成核机理和晶体生长方式没有发生很大的改变。共混时间延长,共混物中PBT的结晶能力增强,结晶度增大。 刘春林 陈玲红 周如东 吴盾关键词:聚碳酸酯 聚对苯二甲酸丁二醇酯 酯交换 POM/TPU共混物非等温结晶动力学研究 被引量:1 2008年 采用差示扫描量热法(DSC)研究了不同冷却速率下聚甲醛(POM)以及 POM/热塑性聚氨酯弹性体(TPU)共混物的非等温结晶过程,分别采用 Jeziorny 法、Ozawa 法和 Mo 法进行处理。结果表明:随着冷却速率的增大,POM及其共混物的结晶峰都变宽,结晶峰值温度(T_c)都降低;在相同冷却速率下,POM/TPU 共混物的 T_c 较纯 POM 有所提高;Jeziorny 法和 Mo 法处理非等温结晶过程比较理想,而由于次级结晶的存在 Ozawa 法并不适用;Jeziorny 法和Mo 法处理所得的数据表明,TPU 的加入能够提高 POM 的结晶速率,减小半结晶时间(t_(1/2)),并且导致 POM 的结晶成核和生长发生了改变。 刘春林 周如东 丁永红 吴盾关键词:聚甲醛 热塑性聚氨酯弹性体 非等温结晶动力学 相组成对TiO_2薄膜生物活性的影响(英文) 2010年 以钛酸正丁酯(Cl6H36TiO4)为原料,采用溶胶-凝胶法制备了TiO2薄膜。TiO2薄膜分别在300,400,500,600,800℃下于空气中热处理2h。将热处理前后的TiO2薄膜浸泡于模拟体液(simulated body fluids,SBF)中,考察其表面诱导类骨磷灰石形成的能力。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、能谱仪、Fourier变换红外光谱等测试手段表征TiO2薄膜和磷灰石的微观结构。结果表明:原始和经300℃热处理的TiO2薄膜为无定形结构;随着煅烧温度的升高,TiO2由无定形结构向锐钛矿相转变;温度升高至800℃后,锐钛矿相完全转化为金红石相。TiO2薄膜经SBF浸泡7d后,经400,500,600,800℃热处理的TiO2薄膜表面生成含有碳酸根的羟基磷灰石,且其Ca与P的摩尔比为1.52,接近人体骨骼的钙磷比(1.67)。而原始和经300℃热处理的TiO2薄膜无此现象发生,这说明TiO2薄膜的晶型对其生物活性具有重要影响,锐钛矿和金红石相TiO2薄膜均具有诱导磷灰石生成的能力。 赵晓兵 游静 马丽 陈志刚关键词:二氧化钛薄膜 溶胶-凝胶 相组成 生物活性 含异氰酸酯基的低聚物和聚醚增容改性POM/TPU共混物 被引量:11 2008年 利用双螺杆挤出机制备了聚甲醛(POM)/热塑性聚氨酯弹性体(TPU)、POM/TPU/含异氰酸酯基的低聚物(Z)以及POM/TPU/Z/聚醚3种共混物。采用力学性能测试、差示扫描量热分析(DSC)、偏光显微镜(PLM)、傅里叶转换红外线光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、动态力学性能分析(DMA)等,研究了3种共混物的力学性能、结晶行为及形态结构。结果表明:共混物的缺口冲击强度和断裂伸长率随TPU含量的增加而提高;异氰酸酯基低聚物(Z)和聚醚在促进分散相分散、增强两相间的相容性方面发挥重要作用,降低了聚甲醛的结晶度,能够有效地提高共混物的缺口冲击强度和断裂伸长率。 刘春林 周如东 吴盾 陈玲红关键词:聚甲醛 热塑性聚氨酯弹性体 TPU增韧改性POM的研究 被引量:13 2008年 利用双螺杆挤出机制备了聚甲醛(POM)/热塑性聚氨酯弹性体(TPU)和POM/TPU/异氰酸酯预聚物(Z)共混物。采用力学性能测试方法、偏光显微镜(PLM)、傅立叶转换红外线光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)等研究了共混物的力学性能、结晶行为及形态结构。结果表明,不同种类TPU增韧的共混物的缺口冲击强度和断裂伸长率都随TPU含量的增加而增加,TPU(95A)增韧的POM/TPU共混物的刚性较好,TPU(250)增韧的POM/TPU共混物的韧性较好;Z能促进TPU在基体树脂中的均匀分散,增强两相界面的粘结力,并能细化球晶。 刘春林 周如东 吴盾 陈玲红关键词:聚甲醛 热塑性聚氨酯弹性体 异氰酸酯预聚物 包覆型纳米CeO_2@SiO_2复合磨料的制备、表征及其抛光性能 被引量:5 2009年 以无水乙醇为溶剂,氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯(TEOS)水解,并在500℃下煅烧1h,制备了SiO2粉体.将SiO2粉体作为内核浸渍到以硝酸亚铈、乙酰丙酮和正丙醇为原料制备的铈溶胶中,得到包覆型CeO2@SiO2复合粉体.利用XRD、SEM、TEM和FT-IR等测试手段,对所制备样品的物相结构、形貌、粒径大小、团聚情况进行表征.将所制备的包覆型CeO2@SiO2复合粉体配制成抛光浆料用于砷化镓晶片的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度.结果表明,采用浸渍工艺成功制备出单分散球形,粒径在400~450nm,负载均匀的包覆型CeO2@SiO2复合粉体.复合粉体中CeO2的包覆量随着铈溶胶中铈离子浓度的升高而增大.经包覆型CeO2@SiO2复合磨料抛光后的砷化镓晶片表面的微观起伏更趋于平缓,在1μm×1μm范围内表面粗糙度Ra值为0.819nm,获得了具有亚纳米量级粗糙度的抛光表面. 隆仁伟 陈杨 赵晓兵 陈志刚关键词:浸渍 包覆 砷化镓 抛光