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冯钊永

作品数:6 被引量:42H指数:2
供职机构:天津大学化工学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术化学工程理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 5篇多层膜
  • 5篇纳米
  • 4篇电沉积
  • 4篇纳米金属
  • 4篇纳米金属多层...
  • 4篇金属
  • 4篇金属多层膜
  • 3篇电化学
  • 3篇电化学制备
  • 3篇多层纳米线
  • 3篇纳米线
  • 3篇化学制备
  • 2篇单槽
  • 2篇纳米多层膜
  • 1篇电沉积制备
  • 1篇氧化硅
  • 1篇在制品
  • 1篇添加剂
  • 1篇纤维
  • 1篇纤维制品

机构

  • 6篇天津大学

作者

  • 6篇冯钊永
  • 5篇姚素薇
  • 4篇迟广俊
  • 3篇赵瑾
  • 2篇张卫国
  • 1篇任光勋
  • 1篇窦升鹏
  • 1篇范君
  • 1篇桂枫

传媒

  • 1篇天津大学学报...
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇第七届全国电...

年份

  • 1篇2003
  • 2篇2002
  • 3篇2001
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
电化学制备纳米金属多层膜与多层纳米线
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜。研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件, 并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征。通过对比,分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点。在此工作基础上,以多孔铝阳极氧...
迟广俊冯钊永赵瑾姚素薇
关键词:电沉积纳米金属多层膜
文献传递
Cu/Co、Ni-Co/Ni-Co-P纳米多层膜的电化学制备、表征及性能研究
该论文采用双槽法制备了Cu/Co纳米多层膜,考察了工艺条件对电沉积过程的影响.论文还采用单槽法制备了Cu/Co纳米多层膜,考察了电沉积条件对电镀过程的影响,确定了最佳工艺条件.多层膜断面扫描电镜测试结果表明镀层为清晰的层...
冯钊永
关键词:电沉积
文献传递
电沉积纳米金属多层膜研究被引量:19
2001年
分别采用单槽法和双槽法电沉积制备 Cu/ Ni多层膜 .研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件 ,并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜 (SEM)确定镀层结构 .通过对比 。
姚素薇桂枫张卫国冯钊永窦升鹏
关键词:电沉积金属多层膜
一种无机广谱抗菌添加剂的制备方法
本发明公开了一种无机广谱抗菌添加剂的制备方法。该制备方法是,采用比表面积为60-600m<Sup>2</Sup>/g的沉淀二氧化硅,或者粒径为80-200nm的二氧化硅与Ag<Sup>+</Sup>,Cu<Sup>2+<...
张卫国迟广俊范君任光勋姚素薇冯钊永
文献传递
纳米金属多层膜与多层纳米线的电化学制备及其表征被引量:25
2003年
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征,并对Cu/Co多层膜的巨磁阻性能进行了测试.采用电沉积多层膜的方法,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,采用TEM对多层纳米线进行了表征.
迟广俊冯钊永赵瑾姚素薇
关键词:纳米多层膜多层纳米线巨磁电阻GMR
电沉积制备Cu/Co纳米金属多层膜与多层纳米线
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.在此工作基础上,以多孔铝阳极氧化膜...
迟广俊冯钊永赵瑾姚素薇
关键词:电沉积纳米金属多层膜
文献传递
共1页<1>
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