向文欣
- 作品数：9 被引量：24H指数：3
- 供职机构：中国核动力研究设计院更多>>
- 发文基金：核燃料及材料国家级重点实验室开放基金武器装备预研基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺冶金工程一般工业技术核科学技术更多>>
- 退火对直流磁控溅射铬膜附着性的影响被引量：4
- 2003年
- 为了利用铬膜改善锆的抗腐蚀性,研究了退火对Zr-2基体上制备的直流磁控溅射铬膜附着性的影响。使用扫描电镜(SEM)观察了界面形貌及锆、铬的界面分布,用X-射线衍射仪(XRD)分析了膜层的组成,用划痕法测定了铬膜的附着性。结果表明:锆/铬界面结合良好,边界可见;与现有文献比较,获得的铬膜附着性好——均超过20N;溅射后退火使Zr-Cr界面更像扩散界面,但X-射线衍射结果未发现有界面反应产物;退火提高铬膜与Zr-2基体的附着性约50%,扩散附着是附着性增加的主要因素。
- 范洪远向文欣李伟应诗浩彭倩沈保罗
- 关键词：退火直流磁控溅射附着性
- 用直流磁控溅射法对镍基合金微粒表面涂铬被引量：1
- 2002年
- 研究了用直流磁控溅射技术在 80～ 1 40目的镍基合金微粒表面包覆 1 0μm左右的金属铬膜的方法 ,讨论了工艺的影响和膜的性能 ,指出利用直流磁控溅射技术可在镍基合金微粒表面获得均匀、完整的厚铬膜 。
- 范洪远李伟沈保罗唐正华向文欣应诗浩
- 关键词：涂层直流磁控溅射铬
- 铌-铬复合溅射膜对锆合金基体的附着性被引量：1
- 2004年
- 研究了铬膜和铌膜的复合对锆合金基体上制备的直流磁控溅射薄膜附着性的影响。使用扫描电镜(SEM)观察了膜层界面,用原子力显微镜(AFM)观察了膜层表面,用划痕法测定了薄膜的附着性。结果表明:膜/基界面结合良好,界面成分升降区狭窄;铬膜与铌膜组成的复合薄膜结合紧密;铬膜的组织为致密、边界孔洞少的纤维状晶粒,铬膜厚度为2 靘时,晶粒仍为亚微米级,但晶粒顶面已出现拱形;膜厚同为2 靘时,外层1 靘铌膜+内层1 靘铬膜组成的复合膜的附着性分别是外层1 靘铬膜+内层1 靘铌膜组成的复合膜的2.35倍、2 靘铬膜附着性的3倍,其原因在于膜层组织及力学性能变化、铌膜韧性好和复合顺序。因此,依靠铬膜厚度的增加来提高铬膜保护性的方法具有较大局限性,通过在一定厚度的铬膜外复合铌膜的方法则有较好的可行性。
- 范洪远樊庆文向文欣李伟邱绍宇应诗浩张西鹏沈保罗
- 关键词：锆合金附着性
- 基体表面状态对直流磁控溅射铬膜附着性的影响被引量：2
- 2003年
- 在锆合金基体上制备直流磁控溅射铬膜,研究了基体宏观粗糙度、膜层沉积前的离子轰击对膜/基附着性的影响,以探讨利用铬膜改善锆合金耐蚀性的可能性。实验中,使用扫描电镜(SEM)观察了界面形貌及Zr、Cr的界面分布,用划痕法测定了铬膜的附着性,结果表明:锆/铬界面结合良好,边界清晰,成分升降区依界面形貌不同而有差异;实验获得的铬膜附着性均超过20N;在本文条件下,机械锁紧力对附着性有重要影响;基体宏观粗糙度的增加对附着性无明显影响,但表面轻微粗化有利于膜的附着性;溅射前的基体离子轰击有利于提高铬膜与基体的附着力,但轰击时间过长并无意义。
- 范洪远李伟沈保罗唐正华向文欣应诗浩
- 关键词：直流磁控溅射锆合金附着性
- Zr-2/Cr扩散反应层物相分析
- 2002年
- 研究Zr-2/Cr扩散反应层物相,可为判断Zr-2和Cr是否相容提供依据。用热压法(50MPa)获得在1073K时Zr-2/Cr扩散反应层。分别用透射电镜(TEM)和场发射扫描电镜配备的薄窗能谱仪(EDS)对反应层进行结构和成分分析,结果表明,Zr-2/Cr扩散反应生成六方结构(C14型)的Zr(Fe、Cr)2 Laves相。
- 向文欣应诗浩
- 关键词：物相分析锆合金反应堆
- 膜厚对溅射铬膜与锆合金基体附着性的影响被引量：5
- 2003年
- 研究了膜层厚度对锆合金基体上制备的直流磁控溅射铬膜附着性的影响。用扫描电镜观察了界面形貌,用原子力显微镜观察了膜层表面形貌,用能谱仪测定了界面成分,用划痕法测定了铬膜的附着性。结果表明:膜/基界面结合良好,界面上存在成分梯度,成分升降区狭窄;随着铬膜厚度从0.5μm增加到 2.0μm,晶粒迅速长大、致密的细纤维状组织的端面出现拱形,铬膜层附着性降低约50%;但铬膜厚度达1.0μm后,晶粒长大的速度和铬膜附着性下降的速度同时趋缓,表明铬膜的附着性与其晶粒大小有明显关系。膜层厚度增加引起膜层附着性下降的主要原因是由于厚度增加所带来的膜层组织及力学性能变化和膜层应力增加。
- 范洪远向文欣李伟邱绍宇李聪张西鹏应诗浩沈保罗
- 关键词：锆合金厚度附着性
- 金属陶瓷微粒表面金属涂层技术研究的现状及展望被引量：7
- 2003年
- 综述了陶瓷微粒表面金属涂层技术研究的现状,讨论了多种方法的基本原理、效果和应用,指出化学镀和流化床化学气相沉积是目前较为成熟的方法,并对其技术的发展进行了展望。
- 董志红范洪远李伟沈保罗向文欣应诗浩
- Zr-2/Cr反应扩散研究被引量：2
- 2002年
- 研究了Zr-2/Cr扩散偶在1023～1123K范围内的反应扩散.用扫描电镜观测反应层宽度,用能谱仪(EDS)测定了反应层Zr、Fe和Cr沿扩散方向的浓度分布,研究了反应层的生长动力学.结果表明,反应层生长基本符合抛物线规律,生长过程受扩散控制.用Boltzman-Matano-Heumann模型计算了Cr在反应层Zr(Fe、Cr)2中的互扩散系数D,得到了互扩散系数D与温度的Arrhenius方程.由计算的扩散数据与Cr在Zr中形成稀固溶体时Cr的扩散数据比较可知,Cr在金属间化合物Zr(Fe、Cr)2中的扩散比在稀固溶体中的扩散快5个数量级.
- 向文欣应诗浩
- 关键词：ZR-2CR
- 镍基合金微粒PVD法表面涂铬研究被引量：2
- 2003年
- 本文研究了用直流磁控溅射技术在 75～ 15 0 μm的镍基合金微粒表面包覆 10 μm左右的金属铬涂层的方法 ,讨论了工艺的影响和涂层的性能 ,指出利用直流磁控溅射技术可在镍基合金微粒表面获得均匀、完整的厚铬涂层 。
- 范洪远李伟沈保罗向文欣应诗浩
- 关键词：镍基合金微粒PVD涂层直流磁控溅射铬
