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汪力

作品数：3 被引量：15H指数：2
供职机构：合肥工业大学机械与汽车工程学院更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇刻蚀
  • 1篇石英
  • 1篇微结构
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压印
  • 1篇刻蚀速率
  • 1篇干法刻蚀
  • 1篇高宽比
  • 1篇CF
  • 1篇CHF

机构

  • 3篇合肥工业大学
  • 1篇合肥电力规划...

作者

  • 3篇汪力
  • 3篇王旭迪
  • 2篇胡焕林
  • 1篇王艳
  • 1篇张永胜
  • 1篇陈长琦
  • 1篇黄长杰

传媒

  • 3篇真空

年份

  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
软刻蚀技术及其应用被引量：7
2003年
软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术,作为非光刻微米和纳米量级微加工方法,加工的分辨率可以达到5nm100μm,它克服了传统光刻技术的缺陷,为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低成本途径。本文将主要介绍微接触印刷、近场光刻蚀、纳米压印等软刻蚀方法的原理、方法以及面临的问题,并简介了它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面应用。
陈长琦王艳王旭迪汪力
关键词：纳米压印
深高宽比微结构的干法刻蚀被引量：8
2004年
介绍了深高宽比微结构在干法刻蚀过程中遇到的刻蚀滞后、刻蚀中止、侧壁弯曲和开槽效应等与传统器件刻蚀不同的现象,讨论了制作高深宽比结构所需的关键技术和检测手段。
王旭迪张永胜胡焕林汪力
关键词：微结构干法刻蚀
CF_4/CHF_3反应刻蚀石英和BK7玻璃
2005年
用CF4/CHF3作为工作气体对石英和BK 7玻璃进行了研究,分析了气体组分、气体流量和射频偏压等几种因素对刻蚀速率的影响,结果表明刻蚀速率与射频偏压的均方根成正比。在1 CF4∶1CHF3的等离子体中由于与光刻胶良好的刻蚀选择比,在石英基片上获得了侧壁陡直的槽形。用光学表面轮廓仪观测的结果表明偏压的增加和过高的气体流量易使基片表面质量下降。
黄长杰王旭迪汪力胡焕林
关键词：石英刻蚀速率
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共1页<1>
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