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薛安俊

作品数:4 被引量:26H指数:3
供职机构:江苏科技大学材料科学与工程学院江苏省先进焊接技术重点实验室更多>>
发文基金:江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇微结构
  • 2篇显微硬度
  • 2篇溅射
  • 2篇SI含量
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇异结构
  • 1篇摩擦磨损性能
  • 1篇抗氧化性能
  • 1篇共格
  • 1篇硅含量
  • 1篇复合膜
  • 1篇薄膜微结构
  • 1篇TIALN
  • 1篇
  • 1篇磁控溅射技术
  • 1篇N
  • 1篇CRALN

机构

  • 4篇江苏科技大学

作者

  • 4篇薛安俊
  • 4篇许俊华
  • 4篇喻利花
  • 3篇董松涛

传媒

  • 2篇材料热处理学...
  • 1篇物理学报
  • 1篇第十七届华东...

年份

  • 4篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
Si含量对Ti-Al-Si-N薄膜微结构与力学性能的影响被引量:18
2010年
采用多靶反应磁控溅射技术制备了一系列不同Si含量的Ti-Al-Si-N复合膜。采用能谱仪、X射线衍射仪、三维轮廓仪、原子力显微镜和显微硬度仪对薄膜进行表征,研究了Si含量对Ti-Al-Si-N复合膜微结构和力学性能的影响。结果表明:用Ti0.33 Al0.67合金靶制备的Ti-Al-N复合膜呈双相共存结构(fcc+hcp),Si的加入,促进了六方相的生长,细化了晶粒,降低了表面粗糙度。随着Si含量的增加,Ti-Al-Si-N复合膜的硬度逐渐增大,在Si含量为16.69 at%时,达到最大硬度32.3 GPa,继续增加Si含量,薄膜硬度降低。
喻利花薛安俊董松涛许俊华
关键词:磁控溅射微结构显微硬度
TiAlN/CrAlN纳米结构多层膜的结构与性能被引量:7
2010年
采用射频磁控溅射方法制备了单层TiAlN、CrAlN复合薄膜以及不同调制周期和不同层厚比(lTiAlN/lCrAlN)的TiAlN/CrAlN纳米结构多层膜。薄膜采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度仪进行表征。结果表明:TiAlN、CrAlN复合薄膜和TiAlN/CrAlN多层膜均为面心立方结构,呈(111)面择优取向。TiAlN/CrAlN多层膜的择优取向与调制周期和层厚比无关。层厚比为1的TiAlN/CrAlN多层膜的硬度依赖于调制周期,在调制周期为8nm时,达到最大;固定TiAlN的厚度为4nm,改变CrAlN层的厚度,在研究范围内,多层膜的硬度随着CrAlN层厚度的增加而增加。探讨了多层膜的致硬机制。TiAlN/CrAlN多层膜抗氧化温度比其组成单层膜高了近200℃,并讨论了其抗氧化机制。
董松涛喻利花薛安俊许俊华
关键词:显微硬度微结构抗氧化性能
Si含量对Ti-Al-Si-N复合膜抗氧化及摩擦磨损性能的影响
采用多靶反应磁控溅射技术制备了一系列不同Si含量的Ti-Al-Si-N复合膜.采用高温摩擦磨损仪测试其摩擦磨损性能性能,通过能谱仪、X射线衍射仪、扫描电镜、超景深光学显微镜和三维轮廓仪对薄膜进行表征,研究了Si含量对Ti...
喻利花薛安俊许俊华
关键词:硅含量摩擦磨损性能
文献传递
AlN/NbN纳米结构多层膜的共格异结构外延生长研究被引量:4
2010年
采用射频磁控溅射法制备了NbN,AlN单层膜及不同调制周期的AlN/NbN纳米结构多层膜,采用X射线衍射仪、小角度X射线反射仪和高分辨透射电子显微镜等对薄膜进行了表征.结果表明:单层膜AlN为六方结构,NbN为面心立方结构;AlN/NbN多层膜中AlN为六方结构,NbN为面心立方结构,界面处呈共格状态,其共格关系为c-NbN(111)面平行于h-AlN(0002)面,晶格错配度为0.13%.热力学计算表明:AlN/NbN多层膜中不论AlN层与NbN层的厚度如何,AlN层均不会形成亚稳的立方AlN,而是形成自身的平衡六方结构,与NbN形成异结构外延生长.
喻利花薛安俊董松涛许俊华
关键词:异结构
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