陈超
- 作品数：2 被引量：3H指数：1
- 供职机构：江苏科技大学更多>>
- 发文基金：江苏省普通高校研究生科研创新计划项目江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- W含量对CrSiWN薄膜微观结构、力学及摩擦性能的影响被引量：1
- 2013年
- 采用射频磁控溅射制备不同W含量的CrSiWN薄膜。利用X射线衍射、扫描电镜、能量散射谱、纳米压痕仪和摩擦磨损实验机对薄膜的相结构、形貌、成分和摩擦性能进行分析。结果表明,CrSiWN薄膜为fcc结构,具有(111)择优取向,薄膜主要为W固溶在CrSiN薄膜中的置换固溶体。随W含量的升高,薄膜晶格常数及晶粒尺寸逐渐增大,抵抗塑性变形能力(H3/E2)逐渐降低。由于固溶强化和晶粒增大的共同作用,薄膜显微硬度随W含量的增加先升高后降低。由于薄膜抵抗塑性变形能力随W含量逐渐降低,导致薄膜平均摩擦系数逐渐增高。当W含量为13.20%时,薄膜综合性能最优。
- 陈超鞠洪博喻利花许俊华
- 关键词：射频磁控溅射力学性能
- V含量对CrSiVN薄膜微观结构和摩擦性能的影响被引量：2
- 2013年
- 采用射频磁控溅射制备不同V含量的CrSiVN薄膜。利用X射线衍射、扫描电镜、X射线能量色散谱、纳米压痕仪和摩擦磨损实验对薄膜的相结构、形貌、成分和摩擦性能进行分析。结果表明,CrSiVN薄膜为fcc结构,具有(200)择优取向。薄膜晶格常数受V含量的影响不大。随V含量的增加,薄膜晶粒尺寸逐渐升高,显微硬度逐渐降低。由于在磨痕表面生成了具有润滑作用的氧化物,薄膜体现出较低的平均摩擦系数。
- 陈超鞠洪博喻利花许俊华
- 关键词：射频磁控溅射
