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麻冰欣

作品数：2 被引量：4H指数：2
供职机构：大连理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇非平衡磁控溅...
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇射频
  • 1篇溅射
  • 1篇辅助磁场
  • 1篇薄膜沉积技术
  • 1篇CU膜

机构

  • 2篇大连理工大学

作者

  • 2篇麻冰欣
  • 1篇马腾才
  • 1篇任春生
  • 1篇齐雪莲
  • 1篇张健

传媒

  • 1篇核聚变与等离...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
辅助磁场约束非平衡磁控溅射等离子体放电特性研究
本文首先对磁控溅射薄膜沉积技术的发展和应用做了详细阐述。介绍了几种典型的溅射沉积方法及它们的特点，陈述了磁控溅射技术在薄膜沉积领域的应用前景，并结合实验中的溅射靶材料介绍了铜膜在微电子领域已经太阳能开发领用的应用。 ...
麻冰欣
关键词：辅助磁场薄膜沉积技术磁控溅射
文献传递
射频对非平衡磁控溅射沉积Cu膜的影响被引量：2
2007年
用射频等离子体增强非平衡磁控溅射在Si100基底上沉积了金属Cu膜。研究了偏压,射频功率和磁场等沉积参数对膜性能的影响。用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和电子能谱(EM)检测了膜的表面形貌,结构和成分。结果表明,射频放电有利于表面均匀光滑、电导率高的Cu沉积膜的形成;沉积参数对沉积膜的性能有重要的影响。
齐雪莲任春生张健麻冰欣马腾才
关键词：射频非平衡磁控溅射CU膜
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