三宅正司
- 作品数：3 被引量：14H指数：2
- 供职机构：近畿大学更多>>
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- 相关领域：一般工业技术化学工程更多>>
- 反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO2薄膜的结构与光学性能被引量：5
- 2010年
- 采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO_2薄膜,通过X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征。结果表明,叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性,在金属溅射模式和低于200℃的沉积条件下,制备了高质量的锐钛矿相TiO_2薄膜;该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51和7.8×10^(-4)。
- 李铸国三宅正司
- 关键词：TIO2薄膜磁控溅射折射率
- 低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响
- 2005年
- 用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值J-i/J_(Ti)≥4.7时,沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长,薄膜微观结构致密,硬度达到25GPa,残余压应力小.
- 李铸国华学明吴毅雄三宅正司
- 关键词：TIN薄膜
- 低能量离子束辐照磁控溅射沉积超硬质nc-TiN/nc-Cu纳米复合膜被引量：9
- 2006年
- 利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0—10．0%的Ti-Cu-N膜,研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响．结果表明,添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度．Cu含量为2．0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性,硬度HV达到42,约为纯TiN薄膜硬度的2倍．超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜,具有柱状晶结构．薄膜的超硬特性源于薄膜的纳米复合结构．
- 李铸国俞海良吴毅雄三宅正司
- 关键词：磁控溅射纳米复合膜
