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利用溶胶-凝胶自蔓延合成法制备纳米NiO/Ce<,0.7>Sm<,0.2>Gd<,0.1>O<,1.85>复合粉末: 采用溶胶-凝胶自蔓延合成法制成了NiO/Ce<,0.7>Sm<,0.2>Gd<,0.1>O<,1.85>(CSGO)双相复合纳米粉.通过X射线衍射的方法分析了粉末的物相成分,并根据此结果对反应过程和反应机理进行了初步的分...; 张会平江中浩连建设刘先黎; 关键词：自蔓延纳米粉末; 文献传递

ZnO纳米棒/薄膜结构的电沉积制备及性能被引量：4: 2007年; 以阳离子表面活性剂——十六烷三甲基氯化铵(CTAC)作为添加剂,采用电沉积法在氧化铟锡玻璃基板上制备了ZnO薄膜。并研究了CTAC含量对阴极电流密度、结构、表面形貌、化学态和光学性能的影响。实验发现阴极电流密度和(002)择优取向随CTAC含量的增加而增加。电沉积氧化锌薄膜的表面形貌随CTAC含量的增加由小晶粒变为纳米棒,这表明CTAC在控制表面形貌方面有很重要的作用。X-射线光电子能谱表明Zn2p3/2,Zn2p1/2,O1s的峰位分别为1020.78eV、1046.88eV和530.8eV。CTAC对电沉积的影响可能是由于CTAC的吸附作用改变了不同晶面的表面能和生长动力学。此外,研究了ZnO薄膜的光学性能,结果表明当CTAC含量为3.0mmol/L时,薄膜具有较好的透光性和紫外发射性能。添加不同含量CTAC的ZnO薄膜禁带宽度介于3.27～3.52eV。; 侯旭峰荆海张会平; 关键词：ZNO 电沉积光致发光

高阻ITO基板上电化学沉积ZnO薄膜的研究被引量：6: 2007年; 利用电化学沉积法,以65±1℃的0.1mol/LZn(NO3)2水溶液作为电解质溶液,在方块电阻为118Ω/□的氧化铟锡(ITO)玻璃基板上制备了ZnO薄膜。利用扫描电镜观察了ZnO薄膜表面形貌,结果表明随着电极电势的降低或沉积时间的增加,ZnO薄膜表面颗粒的六方形结构逐渐明显。利用X射线衍射技术分析了阴极电势和沉积时间对ZnO薄膜择优取向的影响,结果表明ZnO薄膜的(002)择优取向是随电极电势的下降而逐渐减弱的,而且随沉积时间的增加(002)择优取向也逐渐减弱。透射光谱测量表明,实验所获得的ZnO薄膜在可见光范围内是透光的,平均透过率高达80%～90%,不同阴极电势下的禁带宽度均为3.5eV左右,且在阴极电势为-2.5V时,禁带宽度随沉积时间的增加而逐渐减小。; 侯旭峰荆海谷长栋张会平; 关键词：ZNO薄膜电化学沉积禁带宽度

玻璃表面化学镀纳米铜膜被引量：4: 2007年; 利用化学镀铜工艺，以十二烷基苯磺酸钠（SDBS）作为镀液添加剂，在未经刻蚀的玻璃表面制备了纳米铜膜。采用FESEM、SEM和XRD等技术对铜膜表面、断面形貌及晶体结构进行了表征。结果表明，铜膜内团簇尺寸非常细小，晶粒尺寸约为15．5～28．3nm，且存在较强的〈111〉织构。采用四探针法测量铜膜的电阻率，并讨论了电阻率随沉积时间增加而逐渐下降的原因。; 张会平江中浩刘先黎连建设侯旭峰李光玉; 关键词：材料表面与界面化学镀电阻率

利用溶胶-凝胶自蔓延合成法制备纳米NiO/Ce_(0.7)Sm_(0.2)Gd_(0.1)O_(1.85)复合粉末被引量：2: 2004年; 采用溶胶-凝胶自蔓延合成法制成了NiO/Ce0.7Sm0.2Gd0.1O1.85(CSGO)双相复合纳米粉。通过X射线衍射的方法分析了粉末的物相成分,并根据此结果对反应过程和反应机理进行了初步的分析,粉末的形态和晶粒尺寸分布则是通过扫描电子显微图片(SEM)和透射电子显微图片(TEM)获得的。试验过程中发现,不同的柠檬酸与金属离子的摩尔比(RC∶M=nC∶nM)对试验现象、自蔓延过程和最终纳米粉的晶粒尺寸和晶粒形态都有很强烈的影响。将柠檬酸与金属离子的摩尔比控制在1.5左右时,会获得形态均一、晶粒尺寸细小的纳米粉,此法是合成纳米粉的一种有效方法。; 张会平江中浩连建设刘先黎; 关键词：自蔓延

化学镀纳米铜膜的显微结构及电阻率: 本文采用化学镀铜法,在玻璃表面制备了纳米铜膜，利用原子力显微镜(AFM)研究了铜膜表面形貌的变化。结果表明，在玻璃表面形成完整致密的化学镀铜膜需要约3min左右的时间,根据晶粒尺寸和电阻率数据,利用电阻率组合模型计算了晶...; 张会平江中浩连建设; 关键词：化学镀工艺; 文献传递

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张会平