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朱存宝

作品数：4 被引量：11H指数：2
供职机构：中国科学技术大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 2篇镀TI
  • 2篇溅射
  • 2篇钢管道
  • 2篇TIN膜
  • 2篇不锈
  • 2篇不锈钢
  • 2篇不锈钢管道
  • 2篇常用材料
  • 2篇N
  • 1篇电子发射
  • 1篇电子枪
  • 1篇优化设计
  • 1篇加速器
  • 1篇二次电子
  • 1篇二次电子发射
  • 1篇表面处理

机构

  • 4篇中国科学技术...

作者

  • 4篇朱存宝
  • 3篇王建平
  • 3篇尉伟
  • 3篇王勇
  • 3篇范乐
  • 2篇刘祖平
  • 2篇蒋道满
  • 2篇张耀锋
  • 1篇张波
  • 1篇张耀峰

传媒

  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇真空

年份

  • 2篇2008
  • 2篇2007
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
不锈钢管道溅射镀TiN薄膜实验研究被引量：4
2007年
在不锈钢管道溅射镀膜装置上，通过对不锈钢管道真空室进行溅射镀TiN膜的反复多次实验及对镀膜实验结果的分析，得到了一整套适用于加速器管道真空室内壁溅射镀TiN膜的表面处理参数．实验结果表明，在压强为80～90Pa、基体温度为160～180℃的镀膜参数下，不锈钢管道内壁能获得符合加速器物理要求的TiN薄膜．
王勇张耀锋尉伟王建平范乐蒋道满朱存宝刘祖平
关键词：TIN膜表面处理
不锈钢管道低温溅射镀TiN薄膜技术被引量：4
2007年
设计了一套适用于加速器细长管道真空室的低温溅射镀TiN薄膜装置。利用该装置，对Ф86mm×2000mm的不锈钢管道真空室进行溅射镀TiN膜实验，并对镀膜实验结果进行分析，得到了适用于加速器管道真空室内壁溅射镀TiN膜的表面处理参数。样品测试结果表明：在压强为80～90Pa、基体温度为160～180℃的镀膜参数下，不锈钢管道内壁获得的TiN薄膜最佳，薄膜沉积速率为0．145nm／s。镀膜后真空室的二次电子产额明显降低。
张耀锋王勇尉伟王建平范乐蒋道满朱存宝刘祖平
关键词：TIN膜加速器
加速器真空室常用材料二次电子发射系数的研究与测量
纵观科学发展的漫长历史，人类对于物质结构的认识真可谓是永无止境。从原子到原子核，再到更小的基本粒子，人类对物质的更深层次的探索不断深入，而在整个探索过程中，粒子加速器作为探索工具起着不可替代的作用。随着加速器能量越来越高...
朱存宝
关键词：二次电子发射
文献传递
加速器真空室常用材料二次电子产额的测量被引量：2
2008年
通过电子枪的优化设计、测量电路的设计以及测量方法的选择,成功设计了一种加速器真空室常用材料二次电子产额的测量装置。用此系统测量了原电子能量在0～3 keV时不锈钢、无氧铜、TiN膜等材料的二次电子产额,某些相同材料的测量结果与国内外资料相近似。实验结果可为新一代加速器真空室的设计以参考,对于国内在此领域的深入研究有一定的借鉴意义。
朱存宝张耀峰尉伟王建平范乐张波王勇
关键词：电子枪优化设计
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