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朱银莲

作品数:28 被引量:26H指数:4
供职机构:中国科学院金属研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划中国科学院“百人计划”更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 18篇期刊文章
  • 7篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 15篇一般工业技术
  • 13篇理学
  • 11篇金属学及工艺
  • 4篇电子电信
  • 2篇电气工程
  • 1篇医药卫生

主题

  • 9篇铁电
  • 6篇透射电子显微...
  • 5篇铁电薄膜
  • 4篇电子显微学
  • 4篇PBTIO3
  • 4篇畴壁
  • 3篇电畴
  • 3篇电子显微术
  • 3篇铁电畴
  • 3篇铁电畴壁
  • 3篇透射电子显微...
  • 3篇像差
  • 3篇像差校正
  • 2篇氧化物薄膜
  • 2篇拓扑
  • 2篇拓扑结构
  • 2篇微观结构
  • 2篇微结构
  • 2篇位错
  • 2篇荷电

机构

  • 27篇中国科学院金...
  • 7篇兰州理工大学
  • 7篇中国科学技术...
  • 6篇中国科学院大...
  • 4篇松山湖材料实...
  • 2篇中国科学院
  • 1篇浙江理工大学
  • 1篇中国科学院上...
  • 1篇沈阳材料科学...

作者

  • 28篇朱银莲
  • 26篇马秀良
  • 3篇李斗星
  • 3篇王宇佳
  • 2篇曹毅
  • 2篇张明
  • 2篇汪雪
  • 2篇刘楠
  • 2篇胡肖兵
  • 1篇唐为华
  • 1篇谢光
  • 1篇吕惠宾
  • 1篇王君伟
  • 1篇叶恒强
  • 1篇濮晟
  • 1篇陈东
  • 1篇王文渊
  • 1篇邓蕾
  • 1篇吴元元
  • 1篇唐兆俊

传媒

  • 17篇电子显微学报
  • 5篇2014年全...
  • 1篇物理学报

年份

  • 2篇2023
  • 2篇2022
  • 4篇2020
  • 2篇2019
  • 4篇2018
  • 7篇2014
  • 2篇2010
  • 1篇2007
  • 2篇2005
  • 2篇2004
28 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
多铁材料BiFeO3薄膜中失配压应变导致的界面重构被引量:9
2019年
本文利用透射电子显微术研究了外延生长的多铁BiFeO3/NdGaO3(110)O薄膜中的界面重构现象。高分辨HAADF-STEM像表明:衬底的截止层为GaO2原子层;在BiFeO3/NdGaO3界面处,Nd元素部分取代了BiFeO3的Bi元素,从而在平行于界面的第一原子层形成了BiO-NdO交替排列的界面重构形态。利用寻峰拟合方法对高分辨HAADF-STEM像的分析表明,这种界面重构的发生可以部分释放衬底施加的压应变。本研究提出了多铁材料BiFeO3薄膜中一种新的应变释放途径。
耿皖荣朱银莲唐云龙马秀良
铁电薄膜中180°荷电畴壁的亚埃尺度结构特性被引量:4
2018年
本文利用透射电子显微术研究了铁电PbTiO_3薄膜中形成的锯齿状头对头180°荷电畴壁。衬度分析表明薄膜中存在高密度的180°畴。像差校正电镜研究发现180°畴壁处晶格转角呈现顺时针和逆时针交替排布,其极化呈头对头分布,且在180°畴壁处面外晶格受到压缩而面内晶格参数保持不变,进而导致了畴壁处四方度的减小,认为这种畴壁的形成是由表面或界面电荷分布不均匀导致反向c畴在该处形核长大造成。
邹敏杰唐云龙冯燕朋朱银莲马秀良
关键词:铁电薄膜
多铁性BiFeO_3/SrTiO_3多层膜的透射电镜研究被引量:1
2010年
本文利用透射电子显微镜(TEM)研究了由磁控溅射法生长的多铁性BiFeO3/SrTiO3多层膜的微观结构。衍衬分析及高分辨电子显微(HRTEM)像显示出界面清晰的各个单层。BiFeO3外延生长在SrTiO3(001)衬底上,生长方向沿基体c轴。随着薄膜厚度的增加,即多层膜周期的加长,层与层之间界面不再平直。原子序数Z衬度成像,EDS线扫以及各种元素的能量过滤综合分析确定了多层膜的成分变化特征。
唐兆俊王君伟朱银莲唐为华马秀良
关键词:多铁性多层膜透射电子显微术
新型铁电拓扑结构的构筑及其亚埃尺度结构特性被引量:2
2020年
铁电拓扑结构因其尺寸小而且具有优良的物理特性,有望应用于未来高性能电子器件中.本文从应变、屏蔽和外场等对于铁电材料至关重要的几个外部要素出发,结合薄膜厚度等材料内部参数,针对PbTiO3和BiFeO3这两种典型的铁电材料,简要总结新型铁电拓扑结构的形成及其在外场作用下的演变规律.利用具有亚埃尺度分辨能力的像差校正透射电子显微术呈现了相关拓扑结构的原子结构图谱,构建了针对PbTiO3体系的厚度-应变-屏蔽相图,系统归纳了两种材料中各种拓扑结构的形成条件.最后指出这两类铁电材料中易于调控出拓扑结构的几何维度体系,并指出像差校正透射电子显微术在表征铁电拓扑结构方面的重要作用,展望了未来可能的关注重点.
王宇佳耿皖荣唐云龙朱银莲马秀良
关键词:PBTIO3BIFEO3
透明导电氧化物薄膜Ba1-xLaxSnO3中层错的TEM研究
透明导电氧化物(transparent conducting oxides,TCOs)具有高的透光性和高的导电性,广泛应用于光电器件,液晶显示器,能源转化等领域.最常用的TCOs材料包括In2 O3,ZnO,SnO2等二...
王文渊朱银莲马秀良
铁电PbTiO3薄膜9O°荷电铁电畴壁HAADF-STEM研究
唐云龙朱银莲马秀良
PbTiO_3/SrTiO_3(001)复杂畴组态和缺陷的研究被引量:6
2018年
用透射电子显微镜对PbTiO_3/SrTiO_3(001)薄膜内部所形成的复杂畴组态以及畴壁处的位错进行了系统的研究。透射电镜结果和几何相位分析(GPA)表明,薄膜内部两个交叉的a畴内部出现了180°畴壁,导致在局部区域形成了全闭合畴结构,在铁电畴壁处观察到高密度位错。高分辨HAADF-STEM像分析显示,在90°畴壁处容易形成a<011>型位错,在180°畴壁处容易形成a<100>型位错,表明位错的形成与铁电畴壁类型存在强耦合关系。
冯燕朋朱银莲唐云龙马秀良
关键词:铁电薄膜铁电畴壁
La1-xSrxMnO3(x=0.1,0.2,0.3)薄膜的微观结构
具有钙钛矿结构的混价锰氧化物LaSrMnO是一种庞磁电阻材料。由于其在磁电阻存储器、读写磁头及各类磁传感器方面潜在的应用前景以及其丰富的物理内涵,一直引起人们的普遍关注。在过
朱银莲张明马秀良李斗星
文献传递
钙钛矿结构氧化物薄膜的电子显微学研究
纳米功能薄膜是一类具有广泛应用前景的材料构态,研究其在原子尺度的制备、特性表征及稳定性问题是现代电子薄膜科学和技术领域的发展前沿.现代高分辨电子显微术和高空间分辨分析电子显微术的发展,使我们可以在纳米和原子尺度研究物质的...
朱银莲
关键词:钙钛矿型结构透射电子显微术显微结构氧化物薄膜
文献传递
铁性氧化物界面应变耦合诱导极化拓扑结构被引量:2
2022年
结合像差校正透射电子显微术和精密脉冲激光沉积,本文探索研究了生长在GdScO_(3)衬底上的多层铁电PbTiO_(3)/SrTiO_(3)薄膜中应变调控诱导的90°铁弹畴组态。衍衬分析表明薄膜中存在“鱼骨”状90°畴组态。像差校正HAADF⁃STEM成像研究发现这些特殊90°畴通过中间超薄全共格SrTiO_(3)层传递弹性应变耦合,在中间SrTiO_(3)层和邻近PbTiO_(3)层中形成巨大的长程非均匀周期性弹性应变分布,从而在相邻PbTiO_(3)层中诱导形成了极化涡旋畴和极化涡旋-反涡旋对极化拓扑结构。
唐云龙王宇佳朱银莲马秀良
共3页<123>
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