您的位置: 专家智库 > >

汝琼娜

作品数:27 被引量:15H指数:3
供职机构:中国电子科技集团公司更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 13篇期刊文章
  • 10篇会议论文
  • 3篇科技成果
  • 1篇专利

领域

  • 20篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 13篇砷化镓
  • 9篇半导体
  • 7篇半导体材料
  • 6篇光谱
  • 6篇半绝缘
  • 5篇自动测量
  • 4篇砷化镓材料
  • 4篇碳含量
  • 4篇自动测量系统
  • 4篇红外
  • 4篇测量系统
  • 3篇电路
  • 3篇发光
  • 3篇半绝缘砷化镓
  • 3篇SI-GAA...
  • 3篇
  • 2篇单晶
  • 2篇荧光谱
  • 2篇均匀性
  • 2篇化合物半导体

机构

  • 5篇中国电子科技...
  • 5篇中国电子科技...
  • 5篇中华人民共和...
  • 4篇电子部
  • 4篇天津电子材料...
  • 2篇中华人民共和...
  • 1篇河北工学院
  • 1篇西安电子科技...
  • 1篇信息产业部电...
  • 1篇安格盛光电科...

作者

  • 27篇汝琼娜
  • 9篇李光平
  • 7篇何秀坤
  • 4篇李光平
  • 4篇李光平
  • 4篇李静
  • 4篇李静
  • 4篇何秀坤
  • 4篇李静
  • 3篇李静
  • 3篇何秀坤
  • 2篇杨瑞霞
  • 2篇王琴
  • 2篇李静
  • 2篇何秀坤
  • 1篇董颜辉
  • 1篇罗晋生
  • 1篇任殿胜
  • 1篇冯倩
  • 1篇严如岳

传媒

  • 2篇半导体情报
  • 2篇Journa...
  • 2篇现代仪器
  • 2篇固体电子学研...
  • 2篇中国电子学会...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇现代仪器使用...
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇洗净技术
  • 1篇2003年清...
  • 1篇中国电子学会...
  • 1篇第五届华北、...
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇第一届电子工...

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 3篇2003
  • 3篇2002
  • 3篇2001
  • 1篇2000
  • 4篇1999
  • 1篇1998
  • 3篇1996
  • 3篇1994
  • 2篇1993
  • 2篇1992
27 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
SI-GaAs材料微区均匀性对门电路器件性能影响
随着大规摸集成电路集成度的迅速提高,器件工艺对材料的性能提出了更高的要求,过去的常规参数测量不足以表征GaAs材料质量,材料的微区均匀性已成为限制集成电路发展的重要因素。本文采用了不同的测量手段结合门电路器件工艺,研究了...
汝琼娜李光平李静何秀坤
关键词:门电路SI-GAAS
半绝缘砷化镓中EL2浓度的自动测量技术
本文介绍了使用通用计算机外部控制PE Lambda—9分光光度计,形成了数据处理工作站,利用此工作站与样品架微动装置组成了一套自动测量半绝缘砷化镓中EL浓度微区分布的测试系统。
李光平李静汝琼娜
关键词:半绝缘砷化镓自动测量系统
Si-GaAs中EL2浓度微区分布自动测量系统研究
李光平汝琼娜
关键词:砷化镓半导体材料半绝缘体微区分析
高微区均匀性砷化镓材料研制
李光平苑进良孙毅之齐德格汝琼娜赖占平施亚申杜庚娜刘杏昌郭小兵刘晏凤赵权等
该成果在单晶制备工艺方面,采用了两步充气、二次拉晶工艺,确立了整锭二步高砷气氛下热处理技术,使材料的均匀性、热稳定性有明显提高,保证提供高质量的Si-GaAs材料。此外该成果利用研制的优质材料,进行了超高速模拟开关和高速...
关键词:
关键词:砷化镓材料
砷化镓材料的质量优化和相关参数的直接测量
何秀坤汝琼娜李光平李静苑进良
砷化镓单晶是高速集成电路微波器件和光电器件的重要衬底材料。其中绝缘特性主要取决于C和EL2的补偿特性。该成果从改进材料的C和EL2含量及其分布的红外吸收光谱入手,结合热处理工艺和轻掺CR两项工艺措施,达到质量优化的目的;...
关键词:
关键词:砷化镓
硅中氧、碳微区测量技术的研究
硅半导体超大规模集成电路的高速发展对硅材料质量也提出了更高的要求。硅单晶中间隙氧为电中性非金属杂质,主要显非电活性,氧的"钉扎"作用可使硅晶体机械强度提高,但是经热处理后,氧从电中性变为浅施主,对器件产生有害的影响。硅中...
汝琼娜李光平何秀坤李静
关键词:碳含量
GaN薄膜发光特性的研究被引量:1
2005年
通过扫描电子显微镜和室温光荧光谱仪研究了生长气氛、缓冲层厚度、掺杂浓度不同对GaN薄膜发光特性的影响。实验证明,缓冲层可以较好地改善外延膜的结构和表面形貌。n型GaN薄膜的光荧光谱图显示,主峰的积分强度随着掺硅浓度的增高而增高,黄带峰的发光强度反而下降。
李静冯倩何秀坤汝琼娜周智慧
关键词:扫描电子显微镜缓冲层掺杂
半导体材料测量技术的新进展
半导体材料科学的发展对于半导体物理学和信息科学起着积极的推动作用,它是微电子技术、光电子技术、超导电子技术及真空电子技术的基础,只有在完美和新颖的材料基础上才会产生新的器件。半导体材料的生长正向着膜层的超薄化;结构区域选...
华庆恒汝琼娜
关键词:半导体材料
付里叶变换红外光谱技术在电子元器件失效分析中的应用
付里叶变换红外光谱在有机材料中已广泛应用,但在电子元器件失效分析中使用不多。本文将介绍作者在这方面开展的工作。1.线圈漆包线绝缘漆的质量鉴定该样品为—在生产过程中出现质量问题的线圈,线圈绕成以后部分产品出现绝缘漆脱落,从...
何秀坤汝琼娜张建辉
关键词:电子元器件
半绝缘砷化镓中EL2浓度的自动测量系统被引量:1
1999年
本文介绍了使用通用计算机外部控制 PE Lambda-9分光光度计,设计完成了数据处理工作站,利用此工作站形成了一套半绝缘砷化镓中EL2浓度微区分布的自动测量系统。
李光平李静汝琼娜何秀坤
关键词:半绝缘砷化镓自动测量系统分光光度计
共3页<123>
聚类工具0