赵真玉
- 作品数：4 被引量：5H指数：2
- 供职机构：中国石油大学（华东）计算机与通信工程学院更多>>
- 发文基金：山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 电子束光刻三维仿真研究被引量：3
- 2010年
- 本文利用MonteCarlo方法及优化的散射模型,对电子束光刻中电子在抗蚀剂中的散射过程进行了模拟,通过分层的方法,对厚层抗蚀剂不同深度处的能量沉积密度进行了计算,建立了电子束光刻厚层抗蚀剂的三维能量沉积模型.根据建立的三维能量沉积模型,采用重复增量扫描策略对正梯锥三维微结构进行了光刻仿真.理论分析和仿真结果表明,利用分层的三维能量沉积分布模型能更精确地实现电子束光刻的三维仿真.
- 宋会英杨瑞赵真玉
- 关键词：电子束光刻
- 电子束光刻中的内部邻近效应校正技术研究被引量：1
- 2009年
- 研究了基于图形几何尺寸修正的电子束光刻的内部邻近效应校正技术,利用累积分布函数预先进行内部最大矩形和顶点矩形的快速计算,并把它们存储在矩阵中。在校正过程中,根据初始矩形的尺寸,通过访问矩阵实现内部最大矩形和顶点矩形的快速替换。矩阵的预先建立,最大限度地减小了校正过程中的计算强度。模拟结果表明,通过内部最大矩形和顶点矩形的替换,能够快速地实现内部邻近效应校正,校正时间与被校正图形数目成线性关系增加。在与同类软件精度相同的情况下,提高了运算速度。
- 宋会英杨瑞于肇贤赵真玉
- 关键词：电子束光刻邻近效应校正
- 电子束光刻中的相互邻近效应校正技术研究
- 2011年
- 本文研究了基于形状修正的电子束光刻分级邻近效应校正技术,在内部邻近效应校正的基础上,在计算图形之间产生的相互邻近效应过程中,采用了局部曝光窗口和全局曝光窗口机制。局部曝光窗口的区域小,对计算精度影响大,采用累积求和的方法进行精确计算;全局曝光窗口区域大,对计算精度影响小,采用大像点近似的方法进行计算,从而更快速地实现邻近效应校正。该技术的应用,满足了校正精度和运算速度两方面的要求。实验结果与模拟结果一致,表明通过采用局部曝光窗口和全局曝光窗口机制,能够快速地实现相互邻近效应校正,在校正精度相同的情况下,有效提高了运算速度。
- 赵真玉宋会英
- 关键词：电子束光刻邻近效应校正
- 电子束光刻邻近效应校正技术研究
- 微细加工技术是制备超大规模集成电路的关键技术,随着集成电路特征尺寸的不断减小和三维微结构制造要求的不断提高,对分辨率的要求越来越高,这就对图形加工技术提出了更高的要求。电子束光刻技术是目前最好的图形制作技术之一,但电子散...
- 赵真玉
- 关键词：电子束光刻邻近效应校正
