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郑素真

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：河南科技学院更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文专利

主题

  • 1篇单晶
  • 1篇单晶片
  • 1篇水基
  • 1篇抛光
  • 1篇稳定剂
  • 1篇晶片
  • 1篇机械抛光
  • 1篇光学
  • 1篇光学材料
  • 1篇分散稳定剂
  • 1篇6H-SIC

机构

  • 1篇河南科技学院

作者

  • 1篇陈锡渠
  • 1篇郑素真
  • 1篇杜家熙
  • 1篇高虹
  • 1篇洪源
  • 1篇付素芳
  • 1篇王占合
  • 1篇苏建修

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
水基6H-SiC单晶衬底化学机械抛光液及其制备方法
本发明公开了一种6H-SiC单晶片全局平面化的化学机械抛光液。它以球形微纳米颗粒为磨料，按重量百分比计，其成分包括0.2～10％的1～3种10～250纳米球形颗粒为磨料，0.05～15％分散稳定剂，0.05～25％具有化...
苏建修高虹郑素真洪源陈锡渠杜家熙付素芳王占合
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