高宏刚
- 作品数：20 被引量：205H指数：9
- 供职机构：中国科学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：机械工程理学金属学及工艺电子电信更多>>
- 用光学全息方法研制软X射线Bragg-Fresnel光学元件
- 1999年
- 介绍了软X射线Bragg Fresnel光学元件的特点 ,并以磁控溅射法制备多层膜 ,再采用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成波带片图形 ,通过显影。
- 王占山马月英吕俊霞高宏刚刘毅楠裴舒曹健林徐向东洪义麟付绍军
- 关键词：软X射线光学元件多层膜
- 用磁控溅射法制备软X射线多层膜被引量：4
- 1995年
- 本文介绍用直流－射频平面磁控溅射法制备软ｘ射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，严格按照设计周期制备了多层膜样品，并给出了Ｘ射线衍射仪小角衍射的检测结果。
- 张俊平马月英高宏刚陈斌裴舒吕俊霞曹健林
- 关键词：磁控溅射软X射线多层膜
- 软X光激光用多层膜反射镜的设计与性能模拟计算被引量：15
- 1995年
- 介绍在研制软Ｘ光激光用多层膜反射镜中发展起来的一套设计方法。给出了这类反射镜在现阶段所研究的部分Ｘ光激光波长下的设计结果。利用波动光学迭代方法模拟计算了反射镜的性能，并讨论了膜厚控制误差、表（界）面粗糙度等对性能的影响。
- 张俊平曹健林马月英高宏刚陈斌吕俊霞裴舒陈星旦
- 关键词：软X射线多层膜激光反射镜膜系设计
- 超光滑光学表面加工技术被引量：48
- 1995年
- 现代科学技术的发展，在许多领域中提出了加工超光滑表面的要求。这种表面不仅要具备较高的面形精度和极低的表面粗糙度，同时要具有完整的表面晶格排布，消除加工损伤层。近年来国际出现了不少成功的超光滑表面加工技术，可以实现表面粗糙度小于１ｎｍ，面形精度优于３０ｎｍ。本文介绍了超光滑表面的主要应用领域；从去除机理的角度讨论了ＢＦＰ抛光、Ｔｅｆｌｏｎ抛光、离子束加工、ＰＡＣＥ加工、浮法抛光、延展性磨削等六种有代表性的超光滑表面加工技术；并对国内情况作了简单分析。
- 高宏刚陈斌曹健林
- 关键词：超光滑表面超精密加工抛光
- 硬脆材料的超光滑高平面度抛光工艺
- 介绍一种新型的定偏心式锡磨盘的超精密平面抛光工艺。在建立平面成形的数学模型基础上，进行工艺实验，研究人员能够获得λ/10～λ/15／Φ30、λ／8／Φ100平面度、白宝石0．23nmrms、微晶玻璃0．37～0．52nm...
- 张红霞高宏刚
- 关键词：超精密加工平面度粗糙度
- 锡磨盘定偏心平面研抛中材料去除模拟被引量：9
- 2000年
- 本文使用超精密平面研磨机及锡磨盘进行超光滑表面的抛光研究。平面抛光中 ,锡磨盘表面的形貌和加工状况直接影响被加工工件的表面平面度。本文基于 Preston方程 ,建立了在定偏心抛光条件下 ,被加工材料的去除模型。针对锡盘开有同心圆等沟槽的表面加工状况 ,提出了一种计算材料有效去除的算法 ,计算了工件的表面去除误差 。
- 高宏刚曹建林张红霞殷伯华
- 关键词：抛光光学表面
- 应用纳米级金刚石抛光亚纳米级光滑表面被引量：26
- 1999年
- 用爆炸法合成的纳米级金刚石是一种新型纳米材料，其物理机械特性与普通亚微米级金刚石微粉有很大差别。我们使用这种材料配制的抛光液对ＹＶＯ４ 晶体进行了超精密抛光的初步实验，获得了具有较低表面粗糙度（＜ １ ｎｍ ）的表面，发现了纳米金刚石作为抛光材料的独特之处。本文描述了实验结果，分析了抛光表面，并总结了纳米金刚石粉的抛光特性。
- 高宏刚王建明
- 关键词：抛光金刚石纳米材料
- FP500型超精密锡磨盘平面研抛机的研制被引量：4
- 2000年
- 为减小在超光滑表面制造中对经验的依赖 ,为提高加工精度及重复精度 ,研制了采用锡磨盘的超精密平面研抛机。该机床集超精密车削与超精密研抛于一体 ,可以进行基于多种基本原理的超光滑研抛实验研究。介绍了超精密平面研抛机总体设计方案 ,主要包括机床的结构及精度设计的指导思想、关键部件的结构与驱动系统的方案选择以及机床的外部环境设计。
- 高宏刚陈斌陈琦
- 关键词：超精密机床研磨抛光
- GaN 用衬底材料 LiGaO_2 晶体超精密抛光的初步实验被引量：7
- 1997年
- 主要介绍了作为发光半导体ＧａＮ衬底材料的ＬｉＧａＯ２单晶超精密抛光方法及初步结果。利用聚氨酯抛光盘配合ＳｉＯ２悬浮液，采用机械化学抛光方法，已加工出表面粗糙度优于０．１ｍｍ，的超光滑表面。
- 谢伦高宏刚陈斌曹健林王建明刘琳
- 关键词：表面粗糙度晶体氮化镓
- 用锡盘抛光 α-Al_2O_3 单晶的初步实验研究被引量：3
- 1997年
- 概述了抛光α－Ａｌ２Ｏ３单晶的意义、介绍了用锡盘抛光α－Ａｌ２Ｏ３单晶的实验装置、描述了抛光实验过程、研究了抛光时间和抛光液酸碱度对工件表面粗糙度的影响。通过改变抛光时间及抛光液ｐＨ值，可使α－Ａｌ２Ｏ３单晶工件表面粗糙度优于０．４ｎｍｒｍｓ。
- 陈俊盼蔡立高宏刚陈斌曹健林
- 关键词：Α-AL2O3单晶抛光抛光液表面粗糙度
