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吉雅图

作品数:5 被引量:11H指数:2
供职机构:内蒙古大学物理科学与技术学院物理学系更多>>
发文基金:内蒙古自治区自然科学基金内蒙古自治区高等学校科学研究项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 4篇纳米
  • 4篇掺杂
  • 3篇SNO
  • 3篇SNO2薄膜
  • 2篇ND掺杂
  • 1篇电池
  • 1篇氧化锡
  • 1篇太阳电池
  • 1篇气敏
  • 1篇气敏特性
  • 1篇稀土
  • 1篇稀土掺杂
  • 1篇纳米ZNO
  • 1篇纳米材料
  • 1篇光学
  • 1篇光学特性
  • 1篇二氧化锡
  • 1篇薄膜太阳电池
  • 1篇SEM分析
  • 1篇XRD

机构

  • 5篇内蒙古大学

作者

  • 5篇吉雅图
  • 4篇李健
  • 2篇韩菲
  • 2篇高燕
  • 1篇白海平

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇传感器技术
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2006
  • 3篇2005
  • 1篇2004
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
纳米二氧化锡薄膜的稀土钕掺杂效应
采用真空气相沉积法在硅单晶、玻璃衬底上分别制备Sn、SnO_2薄膜,然后对薄膜进行氧化、热处理。采用同样方法制备稀土金属钕掺杂纳米SnO_2薄膜。对薄膜进行物相结构、表面形貌、光学、电学特性及痕量分析等测试,研究分析薄膜...
吉雅图
关键词:二氧化锡纳米材料稀土掺杂
文献传递
稀土Nd掺杂纳米SnO_2薄膜气敏特性被引量:3
2005年
用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备纯SnO2和掺稀土Nd的SnO2薄膜,在500℃氧气气氛条件下进行45min热处理,获得良好的纳米SnO2薄膜和掺稀土Nd的SnO2薄膜。结果显示掺Nd和热处理使纳米SnO2薄膜的结构、导电性能得到一定的改善。掺Nd5%的SnO2薄膜对气体的选择性和灵敏性均得到明显的改善,其中,对丁烷的选择性、灵敏度最好,在体积分数为7.2×10-3时,灵敏度可达到340,但对乙醇、丙酮气体的敏感性较差。
高燕李健吉雅图韩菲
关键词:纳米气敏特性SNO2薄膜ND掺杂
掺In纳米ZnO、CdS薄膜结构、光学特性分析被引量:2
2004年
采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备纳米级ZnO和CdS薄膜。研究掺In和热处理对ZnO、CdS薄膜结构、光学特性的影响。实验给出 ,适当掺杂能够明显改善纳米ZnO、CdS薄膜的物相结构 ,ZnO薄膜的晶粒尺寸随掺杂含量的增加而减小 ,CdS薄膜晶粒尺寸随掺杂含量的增加而变大 ,但薄膜的光透射性有所降低。在短波范围内 ,ZnO薄膜的光透率好于CdS薄膜 ;在 5 0 0nm~ 1 0 0 0nm范围内 ,CdS薄膜的光透率好。掺In后ZnO薄膜的光学带宽从 3 2eV减小至 2 85eV ;掺In后CdS薄膜光学带宽从 2 4 2eV减小至 2 35eV。
吉雅图李健
关键词:薄膜太阳电池光学特性ZNOCDS
稀土Nd掺杂纳米SnO_2薄膜特性被引量:4
2005年
对采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备的稀土Nd掺杂的SnO2薄膜,进行结构、电学及光学特性的测试分析。实验表明:氧化、热处理条件为500℃、45 min时样品性能好。采用一步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度较小,随掺Nd浓度的增大,从31.516 nm减小到25.927 nm;两步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度随掺Nd浓度的增大,从45.692 nm增至66.256 nm。XRD分析,掺Nd(5 at%)薄膜沿[110][、101]晶向的衍射峰加强,薄膜呈多晶结构。掺Nd可使薄膜透光率下降,而薄膜的薄层电阻随热处理温度升高和掺Nd浓度的增大,呈先降后升趋势。
韩菲李健吉雅图高燕
关键词:ND掺杂纳米SNO2薄膜
不同衬底制备稀土Nd^(+3)掺杂SnO_2薄膜的XRD、SEM分析被引量:2
2006年
采用真空气相沉积法在玻璃和单晶硅衬底[111]上制备纳米SnO2及稀土金属钕掺杂薄膜,并对薄膜进行热处理。对薄膜进行XRD、SEM测试。实验显示,不同衬底制备SnO2薄膜在未掺钕时结构有明显区别,采用同样工艺条件在玻璃衬底上制备的SnO2薄膜没有显示择优生长;在硅衬底上制备未掺钕SnO2薄膜显示出沿[101]晶向择优生长趋势。掺钕(5 at%)玻璃衬底制备的薄膜沿[110]衍射峰较强,但薄膜基本呈现自由生长;掺钕后硅衬底制备的薄膜则强烈沿[110]晶向择优生长,随掺钕含量增加择优生长趋势消失,当掺钕含量为(5 at%)时薄膜呈自由生长结构较完善。SEM给出在玻璃基片生长的薄膜表面形貌呈均匀小颗粒状,平均晶粒尺寸在30 nm左右。硅基片制备的薄膜表面则呈紧密均匀带孔颗粒状;颗粒尺寸约1000 nm与计算值相差较大。两种衬底制备的SnO2薄膜经稀土钕掺杂可抑制晶粒生长。本实验中钕掺杂量为5 at%(热处理T=500℃,t=45 m in)时薄膜结构特性最佳。
白海平李健吉雅图
关键词:SNO2薄膜XRDSEM分析
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