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机构

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作者

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  • 5篇黄保麟
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传媒

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  • 1篇第八届全国光...
  • 1篇中国太阳能学...
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  • 1篇第五届全国光...
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年份

  • 1篇2007
  • 1篇2005
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  • 3篇2003
  • 6篇2001
  • 1篇2000
  • 3篇1999
  • 1篇1997
  • 1篇1993
  • 1篇1992
  • 1篇1991
  • 1篇1990
  • 4篇1989
  • 1篇1988
28 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
电子束焊接与铜质文物的修复
1991年
电子束焊是一种较为先进的焊接方法。利用电子束焊接可以用来修复古代金属文物。介绍了对两种铜质文物进行分修复的情况并分析了成份。结果表明;不仅修复了文物的断裂裂纹,保证丁焊缝的强度,而且保证了不发生外貌的形变。
沈伯礼唐敦乙龚彬
关键词:电子束焊青铜文物
用于薄膜工艺的多功能宽束离子源
饶雨生唐敦乙刘效增
关键词:离子源放电结构形式生产工艺
扁平显像管中荧光面杂乱发光现象探讨
1999年
扁平显像管是世界上研制多年的显示器件,其研制难点之一是消除荧光屏上出现的失控的杂散发光对画面的影响。本文分析了扁平管的结构与工作状态和荧光面杂散发光的关系,讨论了可能引起杂散发光的因素,提出了消除荧光屏杂散发光的一些办法。
林书铨唐敦乙
关键词:显示器件扁平显像管发光二次电子发射
用于扁平后盖显像管的共面扁平偏转系统
用于扁平后盖显像管的共面扁平偏转系统主要包括一个铁氧体磁芯、一对帧偏转线圈和一对行偏转线圈,在铁氧体磁芯的小口处特地增加了一组磁极靴,它与铁氧体磁芯形成一个整体,一对帧偏转线圈以环形方式绕制在铁氧体磁芯上,而另一对行偏转...
龙沪强唐敦乙林书铨
文献传递
超大偏转扁平显像管偏转线圈
超大偏转扁平显像管偏转线圈主要包括铁氧体磁芯、帧偏转线圈和行偏转线圈,在一块平板的圆环形或长方形铁氧体磁芯上,以相互垂直方式分别安置一对平面长方形帧偏转线圈及一对平面长方形行偏转线圈,以组成基本的平面偏转线圈的模式。
张可南梁国恩林书铨王妙康唐敦乙黄保麟
文献传递
直流弧放电等离子体喷流CVD法高速合成金刚石薄膜的研究
1993年
描述了用直流弧放电等离子体喷流CVD法来合成金刚石薄膜的过程.通过实验确定了金刚石生长的最佳条件.实验结果表明.金刚石薄膜的生长速率约为64μm/h.借助拉曼光谱证实了膜为金刚石膜,扫描电镜拍摄的照片清楚的显示了晶体的形状.
林书铨沈伯礼唐敦乙刘海军陈培基
关键词:CVD法金刚石薄膜
扁平后盖125°大偏转角显像管
一种扁平后盖125°大偏转角显像管,在与荧光屏形状相似的扁平后盖上面开有大孔,连接一个张角为130°的小锥体,小锥体尾端与管颈玻管相连。这样的结构使电子束扫描时的最大角度可大于125°,使显像管的长度大大缩短,减小了显像...
张可南林书铨王妙康唐敦乙梁国恩黄保麟
文献传递
低温等离子体处理对纤维表面的影响被引量:3
1989年
本文介绍了用低温等离子体处理纤维的情况,用低温等离子体处理羊毛纤维引起了 羊毛表面成份和表面结构的某些变化,但不会使基体性质改变。因此增加了处理后的羊 毛纤维的可湿性。改善了染色性能。结果表明,等离子体处理将成为印染工艺的一个新 方法。
唐敦乙沈伯礼林书铨饶雨生陈维国
关键词:等离子体纤维性能纤维
多功能宽离子束形成的研究被引量:1
1992年
本文讨论了多功能宽离子束形成的物理过程,给出了均匀束、会聚束及球状发散束的设计原则和方法,并列举了实例和测试方法.其中球状发散束则为首次提出的.这些宽离子束均已应用于离子束直接淀积、离子束溅射淀积及离子束辅助镀膜技术等薄膜工艺,效果良好.
饶雨生唐敦乙刘效增沈伯礼
关键词:离子束离子光学离子源
轴向场宽束离子源研究被引量:2
1990年
我们研制了用于薄膜工艺的宽束离子源.该源能提供20~3000cV,束流强度最大达100mA 的宽离子束,可根据不同工艺要求,产生均匀束、会聚束及球状发散束等不同束形,并按不同的引出束能量,采用三栅、双栅或单栅引出系统.其最大气耗量为1.2Pa·m^3/s,放电室工作气压1.33×10^(-2)Pa(10^(-4)Torr 量级),可用 N_2、O_2、Ar 及 CH_4等工质工作.它已在离子束溅射镀膜、离子束直接淀积成膜及离子束辅助镀膜工艺得到了应用.证明其性能良好,稳定可靠.本文论述源的工作原理、结构、工作特性及多功能引出系统,并讨论了放电稳定性及薄膜工艺对离子源的要求.
饶雨生唐敦乙刘效增沈伯礼
关键词:离子源离子束
共3页<123>
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