您的位置： 专家智库 > >

孙庆标

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：北京科技大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇激光
  • 2篇损伤阈值
  • 2篇梯度涂层
  • 2篇涂层
  • 2篇镍钴
  • 2篇热腐蚀
  • 2篇热腐蚀性能
  • 2篇铝硅
  • 2篇抗热腐蚀
  • 2篇抗热腐蚀性能
  • 2篇激光损伤
  • 2篇激光损伤阈值
  • 2篇防潮
  • 2篇腐蚀性
  • 2篇钇
  • 1篇真空度
  • 1篇蒸发舟
  • 1篇氯化钾
  • 1篇膜系
  • 1篇金刚石膜

机构

  • 5篇北京科技大学
  • 1篇湖北汽车工业...

作者

  • 5篇孙庆标
  • 5篇于文秀
  • 5篇吕反修
  • 4篇叶锐曾
  • 2篇杨莲隐
  • 2篇杨让
  • 2篇吴显云
  • 2篇许庆芳
  • 2篇马跃发
  • 2篇龚杰
  • 2篇孙金贵
  • 2篇陈仁治
  • 2篇宋铂
  • 2篇曹士伟
  • 2篇袁建军
  • 2篇崔绍成

传媒

  • 1篇湖北汽车工业...

年份

  • 2篇1997
  • 1篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
共 5 条 记 录，以下是 1-5
全选 清除 导出
排序方式：
镍钴铬铝硅铪钇/铝梯度涂层及双靶溅射工艺
本发明提供了一种MCrAlX涂层新工艺，其特征在于采用磁控溅射MCrAlX梯度涂层。即用双靶MCrAlX/Al磁控溅射沉积法将MCrAlX及Al同时沉积在高温合金上，沉积时靶功率逐渐变化，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐...
叶锐曾于文秀陈仁治马跃发龚杰吴显云孙金贵孙庆标宋铂杨莲隐曹士伟崔绍成吕反修许庆芳袁建军
文献传递
高功率CO_2激光窗口和透镜材料KCL晶体阻反膜研究
1993年
设计和制备了反射率接近于零的KCl∥NaF,KCl∥NaF∥DLC和KCl∥ZnSe∥PbF_2等防潮阻反膜系统.KCl的单面膜吸收低达0.04％,达到万瓦级CO_2激光窗口所能接收的水平.试样的激光损伤阙值大于5KW/cm^2,是万瓦级激光窗口实际承受功率密度的6倍.
程德刚吕反修孙庆标于文秀
关键词：激光KCL
带有防潮阻反膜的氯化钾窗口和透镜材料及其制备方法
本发明提供了一种带有防潮阻反膜的氯化钾窗口和透镜材料及其制备方法，第一层为氟化钠膜，厚度为1.7～2.25μm，第二层为磁控溅射类金刚石碳膜，厚度为500～1000A，其中氟化钢膜用电子束蒸镀工艺进行沉积，背底真空度为1...
吕反修程德刚叶锐曾孙庆标于文秀杨让
文献传递
一种镍钴铬铝硅铪钇类梯度涂层的制备方法
本发明提供了一种镍钴铬铝硅铪钇类梯度涂层的制备方法，其特征在于采用双靶(分别为NiCoCrAlSiHfY靶和Al靶)磁控溅射沉积法将NiCoCrAlSiHfY及Al同时沉积在高温合金上，沉积时NiCoCrAlSiHfY靶...
叶锐曾于文秀陈仁治马跃发龚杰吴显云孙金贵孙庆标宋铂杨莲隐曹士伟崔绍成吕反修许庆芳袁建军
文献传递
氯化钾晶体的防潮阻反膜
本发明提供了一种氯化钾防潮阻反膜，其特征在于，第一层为氟化钠，厚度为1.7～2.25μm，第二层为磁控溅射类金刚石膜，厚度为500～1000，本发明的优点在于在10.6μm反射率小，吸收率低，抗连续CO<Sub>2</...
吕反修程德刚叶锐曾孙庆标于文秀杨让
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0