您的位置: 专家智库 > >

秦江

作品数:9 被引量:50H指数:5
供职机构:大连理工大学机械工程学院精密与特种加工教育部重点实验室更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺化学工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇化学工程

主题

  • 6篇光刻
  • 5篇电铸
  • 5篇微电铸
  • 4篇衍射
  • 4篇紫外光刻
  • 4篇菲涅耳
  • 4篇菲涅耳衍射
  • 4篇SU-8胶
  • 4篇尺寸
  • 3篇公差
  • 3篇尺寸公差
  • 2篇微结构
  • 2篇均匀性
  • 2篇背板
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇塑模
  • 1篇注塑
  • 1篇注塑模
  • 1篇注塑模具
  • 1篇理论与实验研...

机构

  • 9篇大连理工大学

作者

  • 9篇秦江
  • 8篇杜立群
  • 5篇刘冲
  • 5篇刘海军
  • 4篇朱神渺
  • 1篇李园园
  • 1篇肖日松
  • 1篇于同敏

传媒

  • 2篇光学精密工程
  • 2篇传感技术学报
  • 2篇第八届中国微...
  • 1篇高技术通讯
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 2篇2007
  • 7篇2006
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
基于UV-LIGA技术的微注塑金属模具的工艺研究被引量:7
2006年
介绍了一种新颖的微注塑模具的制作方法———无背板生长法,它是利用负性厚SU-8光刻胶,通过低成本的UV-LIGA表面微加工工艺,直接在金属基板上电铸镍图形而制作完成的。讨论了SU-8胶与基底的结合特性以及几种去除SU-8胶的有效方法,所制作的微注塑模具已用于微注塑加工中。无背板生长工艺的突出优点是微电铸时间短、模具质量高,而且还适合于制作其他微机械组件,是目前MEMS领域中比较有发展前途的加工方法。
杜立群秦江刘海军刘冲于同敏
关键词:微电铸SU-8光刻胶
SU-8胶紫外光刻的尺寸精度研究被引量:9
2007年
研究了衍射效应对SU-8胶紫外光刻尺寸精度的影响。根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型,预测微结构的尺寸,分析了光刻参数变化对尺寸的影响。为了更好地与数值模拟结果进行比较,以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究。实验分四组,实验中掩模的特征宽度分别取50μm、100μm、200μm和400μm,SU-8胶表面的曝光剂量取400 mJ/cm2。用扫描电镜测量了微结构的顶部线宽、底部线宽和SU-8胶的厚度,用MATLAB软件对紫外曝光过程中SU-8胶层内曝光剂量的分布情况进行了数值模拟,数值模拟结果与实验结果基本吻合。数值模拟结果为进一步的实验研究提供了光刻参数的参考值。
杜立群秦江刘冲朱神渺李园园
关键词:SU-8胶菲涅耳衍射紫外光刻尺寸精度MATLAB
SU-8胶微结构的尺寸公差研究
本文对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究.在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上,根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型和尺寸公差模型,对SU-8微结构的尺寸及其公差进行数值模拟....
秦江杜立群刘冲朱神渺
关键词:SU-8胶菲涅耳衍射尺寸公差紫外光刻
文献传递
微电铸器件铸层均匀性的研究被引量:20
2007年
理论分析了负脉冲电流对铸层的修饰作用,采用正负间断脉冲电流和正间断负连续脉冲电流进行了相应的微电铸的实验研究。实验采用的微电铸器件是特征宽度为90μm的微流控芯片的金属模具。微电铸实验主要包括三个步骤:制作SU-8胶胶模,微电铸和去除SU-8胶。为了对实验结果进行对比分析,两组实验的工作时间和电流强度均采用240min和2.5 A/dm2。将正负脉冲电流微电铸与正脉冲电流微电铸的实验结果进行了对比分析。研究结果表明,正负间断脉冲电流能够获得较好的器件铸层均匀性。由于在负向脉冲的间断时间内,铸层表面附近的浓度极差得以改变,因此正负间断脉冲电流微电铸的铸层均匀性优于正间断负连续脉冲电流微电铸。实验结果与理论分析结果相一致。
杜立群刘海军秦江朱神渺
关键词:FICK第二定律
SU-8胶紫外光刻理论与实验研究
随着微机电系统的迅速发展,基于SU-8胶的UV-LIGA技术得到更加广泛的应用。本课题研究了SU-8胶紫外光刻理论和工艺实验,并对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究。 通过对硅模...
秦江
关键词:SU-8胶紫外光刻菲涅耳衍射尺寸公差
文献传递
无背板生长工艺微电铸均匀性的实验研究被引量:7
2006年
针对基于无背板生长工艺的微电铸模具高度不均匀问题,本文首次采用两种不同的周期换向电流进行了实验研究.两种周期换向电流分别是正负脉冲换向电流和正向脉冲负向连续的换向电流,实验采用在大量正脉冲电流微电铸实验基础上总结出来的工艺参数.实验结果表明,由于负向电流腐蚀铸层表面的微观突起,脉冲间断时间消除微电铸阴极表面的浓差极化,正负脉冲电流获得了较好的微电铸均匀性.
刘海军杜立群秦江朱神渺
关键词:微电铸均匀性
基于MEMS技术的微型模具制作工艺研究被引量:8
2006年
针对微型模具的结构和精度要求,在研究硅模具和背板生长两种工艺路线的基础上,提出了无背板生长工艺路线,并介绍了工艺路线中所涉及的三种MEMS加工方法,即UV-LIGA技术中的光刻、微电铸以及硅MEMS加工技术中的湿法刻蚀.实验结果表明,硅模具和背板生长模具呈54.74°的斜面,且硅模具容易损坏,背板生长模具受应力影响易产生变形;而无背板生长工艺能够获得侧壁垂直、表面细致、使用寿命长的模具,满足结构和精度要求。
肖日松杜立群刘冲刘海军秦江
关键词:MEMSUV-LIGA光刻微电铸湿法刻蚀
无背板生长工艺微电铸均匀性的实验研究
本文针对基于无背板生长工艺的微电铸模具高度不均匀问题,本文首次采用两种不同的周期换向电流进行了实验研究.两种周期换向电流分别是正负脉冲换向电流和正向脉冲负向连续的换向电流,实验采用在大量正脉冲电流微电铸实验基础上总结出来...
刘海军杜立群秦江朱神渺
关键词:微电铸
文献传递
SU-8胶微结构的尺寸公差研究被引量:3
2006年
对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究.在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上,根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型和尺寸公差模型,对SU-8微结构的尺寸及其公差进行数值模拟.以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究.实验中掩模的特征宽度分别取50μm、100μm、200μm和400μm,SU-8胶表面的曝光剂量分别取400mJ/cm2和800mJ/cm2,测量了SU-8胶微结构的顶部线宽、底部线宽和SU-8胶的厚度,数值模拟结果与实验结果基本吻合.可以用本文的模型来预测SU-8微结构的尺寸及其公差.
秦江杜立群刘冲朱神渺
关键词:SU-8胶菲涅耳衍射尺寸公差紫外光刻
共1页<1>
聚类工具0