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陈杰峰

作品数：2 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院上海硅酸盐研究所更多>>
相关领域：航空宇航科学技术一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电子显微镜
  • 1篇原子氧
  • 1篇原子氧效应
  • 1篇碳化硅
  • 1篇碳化硅薄膜
  • 1篇热控
  • 1篇热控涂层
  • 1篇显微镜
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇模拟装置
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇粗糙度

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇中国空间技术...

作者

  • 2篇陈杰峰
  • 2篇胡行方
  • 1篇王振红
  • 1篇章俞之
  • 1篇宋力昕
  • 1篇王敬宜
  • 1篇彭晓峰
  • 1篇曹韫真
  • 1篇江经善
  • 1篇赵荣根

传媒

  • 1篇航天器工程
  • 1篇中国空间科学...

年份

  • 1篇2004
  • 1篇2002
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
热控涂层原子氧效应的试验研究被引量：3
2004年
采用同轴源型原子氧模拟装置,对11种热控涂层进行了原子氧效应的筛选试验研究。通过试验前后外观,质量、太阳吸收比,以及电子显微镜的观察比较,选出了5种耐原子氧性能较好的热控涂层。
江经善王敬宜王振红陈杰峰曹韫真赵荣根胡行方
关键词：原子氧效应热控涂层电子显微镜模拟装置
具有埃级表面粗糙度的碳化硅薄膜沉积
本文提出了一种直接沉积出具有埃级表面粗糙度的碳化硅薄膜的方法.溅射气氛中的少量氧气具有催化和刻蚀作用,能极大地降低表面粗糙度,并且这一作用随溅射功率的增加而更加明显.经工艺优化,最终沉积出表面粗糙度R<,a>仅为1.29...
彭晓峰章俞之陈杰峰宋力昕胡行方
关键词：碳化硅薄膜表面粗糙度溅射沉积
文献传递
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