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陈熙

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院半导体研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇纳米
  • 2篇定影
  • 2篇窄线宽
  • 2篇全息
  • 2篇全息光栅
  • 2篇线宽
  • 2篇纳米级
  • 2篇刻蚀
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻胶
  • 2篇光栅
  • 1篇等离子体刻蚀
  • 1篇电池
  • 1篇旋涂
  • 1篇双光束
  • 1篇双光束干涉
  • 1篇太阳电池
  • 1篇外延片
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇面发射

机构

  • 4篇中国科学院

作者

  • 4篇陈熙
  • 3篇陈良惠
  • 2篇钟源
  • 1篇宋国峰
  • 1篇樊中朝
  • 1篇李宁
  • 1篇张宇
  • 1篇宋国锋
  • 1篇汪卫敏

年份

  • 2篇2011
  • 2篇2010
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
用于太阳电池表面抗反射的蛾眼结构的制备方法
一种用于太阳电池表面抗反射的蛾眼结构的制备方法，包括以下步骤：步骤1：取一太阳能电池所用的外延片，对外延片进行清洗；步骤2：在外延片上旋涂光刻胶；步骤3：对光刻胶进行前烘，形成样品；步骤4：采用双光束干涉曝光设备，对样品...
陈熙樊中朝李宁宋国锋陈良惠
文献传递
百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备方法
本发明公开了一种百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备方法，该方法包括：步骤1：将光刻胶按不同的配比进行稀释，在清洗干净的衬底上甩胶，得到厚度分别为80nm、120nm、160nm、200nm和260nm的光刻胶...
陈熙钟源陈良惠
百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备方法
本发明公开了一种百纳米级窄线宽多种形貌全息光栅光刻胶图样的制备方法，该方法包括：步骤1：将光刻胶按不同的配比进行稀释，在清洗干净的衬底上甩胶，得到厚度分别为70nm、110nm、160nm、240nm和290nm的光刻胶...
陈熙钟源陈良惠
文献传递
利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法
一种利用纳米压印技术制备面发射表面等离子体激光器的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤1：在激光器的出光面上制作一层金属薄膜；步骤2：在金属薄膜上涂敷一层液态阻蚀剂；步骤3：把压印模板上的纳米图案压在液态阻蚀剂上；...
宋国峰张宇汪卫敏陈熙
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