您的位置: 专家智库 > >

陈第虎

作品数:5 被引量:12H指数:2
供职机构:中山大学物理科学与工程技术学院更多>>
发文基金:广东省科技计划工业攻关项目广东省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 2篇椭偏光谱
  • 2篇芯片
  • 2篇光谱
  • 2篇SOC芯片
  • 1篇单粒子
  • 1篇单粒子翻转
  • 1篇一致性
  • 1篇指令CACH...
  • 1篇数据CACH...
  • 1篇碳化硅
  • 1篇体系结构
  • 1篇吸收光谱
  • 1篇离子注入
  • 1篇脉冲
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光辐照
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇化学键
  • 1篇激光

机构

  • 5篇中山大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇香港中文大学

作者

  • 5篇陈第虎
  • 2篇莫党
  • 2篇黄琳
  • 2篇魏爱香
  • 1篇郭扬铭
  • 1篇范安辅
  • 1篇阳生红
  • 1篇李辉遒
  • 1篇黄世平
  • 1篇李芳
  • 1篇钟涛

传媒

  • 2篇中国集成电路
  • 1篇半导体技术
  • 1篇Journa...
  • 1篇功能材料

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2003
  • 1篇2000
  • 1篇1996
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
C^+注入Si形成SiC/Si异质结构的椭偏光谱被引量:2
2000年
用椭偏光谱法测量了 ( 35ke V,1 .0× 1 0 18cm- 2 )和 ( 65ke V,1 .0× 1 0 18cm- 2 ) C+ 注入 Si形成的 Si C/Si异质结构 .应用多层介质膜模型和有效介质近似 ,分析了这些样品的 Si C/Si异质结构的各层厚度及主要成份 .研究结果表明 :注 35ke V C+ 的样品在经 1 2 0 0℃、2 h退火后形成的 Si C/Si异质结构 ,其β- Si C埋层上存在一粗糙表面层 ,粗糙表面层主要由β- Si C、非晶 Si和 Si O2 组成 ,而且 β- Si C埋层与体硅界面不同于粗糙表面层与 β- Si C埋层界面 ;注 65ke V C+的样品在经1 2 50℃、1 0 h退火后形成的 Si C/Si异质结构 ,其表层 Si是较完整的单晶 Si,埋层β- Si C分成三层微结构 ,表层 Si与β- Si C埋层界面和β- Si C埋层与体硅界面亦不相同 .这些结果与 X射线光电子谱 ( XPS)和横截面透射电子显微镜 ( TEM)
阳生红李辉遒莫党陈第虎黄世平
关键词:碳化硅椭偏光谱离子注入
S698M SoC芯片中EDAC模块的设计与实现被引量:8
2008年
EDAC检错纠错模块在电子、通信以及航空航天等领域有着广泛的应用。本文主要介绍了利用[39,32]扩展海明码的EDAC模块的基本原理和用VHDL语言设计实现EDAC的设计实现,该模块在XIL-INXISE软件开发环境下通过设计、综合、仿真,验证了设计的正确性。
黄琳陈第虎梁宝玉颜军
关键词:VHDL
S698M SoC芯片中Cache控制器的设计与实现
2008年
高速缓冲存储器Cache在微处理器中已经成为至关重要的一部分,它的使用能有效地缓和CPU和主存之间速度匹配的问题。本文以32位S698M微处理器的高速缓冲存储器Cache为例,分析了Cache的体系结构和关键技术,阐述了S698M中Cache的基本访存过程。该芯片已采用新加坡特许半导体0.18微米CMOS工艺流片成功。
黄琳陈第虎梁宝玉蒋晓华颜军
关键词:哈佛体系结构CACHE一致性指令CACHE数据CACHE
大功率CO_2脉冲激光辐照掺锑、铝的研究
1996年
采用电子束放电控制的CO2脉冲激光辐照单晶硅片掺入杂质锑、铝获得成功,并制成大面积PN结(Φ20mm),发现了一种适合大功率CO2脉冲激光器应用于半导体掺杂新方法。通过卢瑟福背散射、阳极氧化等方法的研究,证明CO2脉冲激光辐照在硅中掺杂形成的PN结是浅突变结,结深约为0.2~0.7μm。对硅片预热温度、激光重复脉冲次数等工艺条件进行了研究,并从理论上进行了掺杂机理的分析。
陈第虎魏爱香范安辅钟涛
关键词:脉冲激光辐照PN结激光诱导
功能碳薄膜化学键成分的椭偏光谱研究被引量:2
2003年
 用磁过滤真空离子溅射系统,改变加在单晶Si(100)衬底上的衬底偏压,制备不同sp3C键与sp2C键比例的碳薄膜样品。测量了2.0~5.0eV光子能量范围内各个碳薄膜样品的椭偏光谱。发现该谱与碳薄膜中的sp键比例有明显的关系。我们提出一种较简便的分析解谱方法,分析所测得的各个椭偏光谱,半定量地确定各碳薄膜样品的sp3C键与sp2C键比例。所得结果还与同类样品的拉曼光谱与吸收光谱测量结果相比较,结果基本上是一致的。研究结果表明椭偏光谱方法可以发展成一种较简便的、对样品无损伤的测定功能碳薄膜中的sp3C键成分的新方法。
莫党李芳陈第虎郭扬铭魏爱香
关键词:化学键椭偏光谱拉曼光谱吸收光谱
共1页<1>
聚类工具0