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龚路杰

作品数：12 被引量：0H指数：0
供职机构：北京航空航天大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 12篇中文专利

主题

  • 12篇坩埚
  • 8篇氧化钇
  • 8篇真空
  • 8篇真空熔炼
  • 8篇热压
  • 8篇热压烧结
  • 8篇纯净度
  • 4篇熔炼
  • 4篇石墨坩埚
  • 4篇碳涂层
  • 2篇等离子
  • 2篇等离子喷涂
  • 2篇氧化钕
  • 2篇氧化锆
  • 2篇氧化镧
  • 2篇熔炼过程
  • 2篇熔体
  • 2篇内涂层
  • 2篇喷涂
  • 2篇离子喷涂

机构

  • 12篇北京航空航天...

作者

  • 12篇龚路杰
  • 12篇徐惠彬
  • 12篇张虎
  • 10篇高明
  • 8篇唐晓霞
  • 2篇田洪超
  • 2篇周春根
  • 2篇宫声凯

年份

  • 4篇2010
  • 2篇2009
  • 6篇2008
共 12 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
氧化钇掺杂氧化镧坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
本发明公开了一种氧化钇掺杂氧化镧坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氧化镧坩埚的成分为每10g的氧化钇Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>中掺杂有0.2～1.2g的氧化镧。在用于热压烧结的氧化钇Y...
徐惠彬高明龚路杰唐晓霞张虎
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氧化钇掺杂氟化锂坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
本发明公开了一种氧化钇掺杂氟化锂坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氟化锂坩埚的成分为每100g的氧化钇Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>中掺杂有0.5～5g的氟化锂LiF。在用于热压烧结的氧化...
徐惠彬高明龚路杰唐晓霞张虎
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氧化钇掺杂氧化钕坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
本发明公开了一种氧化钇掺杂氧化钕坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氧化钕坩埚的成分为每10g的氧化钇Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>中掺杂有0.2～1.3g的氧化钕Nd<Sub>2</Sub...
徐惠彬高明龚路杰唐晓霞张虎
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一种复合阻碳涂层材料及其在基体上制备复合阻碳涂层的方法
本发明公开了一种复合阻碳涂层材料及其在基体上制备复合阻碳涂层的方法，该复合阻碳涂层材料由过渡层和阻碳层组成，所述过渡层为SiC或Mo材料，所述阻碳层为Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>材料。所述过渡层厚...
徐惠彬龚路杰周春根高明张虎宫声凯
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氧化镧掺杂氧化钇坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
本发明公开了一种氧化镧掺杂氧化钇坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化镧掺杂氧化钇坩埚的成分为每10g的氧化钇Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>中掺杂有0.2～1.2g的氧化镧。在用于热压烧结的氧化钇Y...
徐惠彬高明龚路杰唐晓霞张虎
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氧化钇掺杂氟化锂坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
本发明公开了一种氧化钇掺杂氟化锂坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氟化锂坩埚的成分为每100g的氧化钇Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>中掺杂有0.5～5g的氟化锂LiF。在用于热压烧结的氧化...
徐惠彬高明龚路杰唐晓霞张虎
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氧化钇掺杂氧化锆坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
本发明公开了一种氧化钇掺杂氧化锆坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氧化锆坩埚的成分为每10g的氧化钇Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>中掺杂有0.2～1.5g的氧化锆。在用于热压烧结的氧化钇Y...
徐惠彬高明龚路杰唐晓霞张虎
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氧化钇掺杂氧化锆坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法
本发明公开了一种氧化钇掺杂氧化锆坩埚及其采用热压烧结制坩埚的方法，氧化钇掺杂氧化锆坩埚的成分为每10g的氧化钇Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>中掺杂有0.2～1.5g的氧化锆。在用于热压烧结的氧化钇Y...
徐惠彬高明龚路杰唐晓霞张虎
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在分体石墨坩埚内制备氧化钇阻碳涂层的大气等离子喷涂方法
本发明公开了一种具有分体结构的，且在上、下埚体的内含有Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>阻碳涂层的分体石墨坩埚，所述分体石墨坩埚的上埚体(1)的凸台(12)安装在下埚体(12)的凹腔(23)内，且凸台(...
张虎龚路杰田洪超徐惠彬
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一种复合阻碳涂层材料及其在基体上制备复合阻碳涂层的方法
本发明公开了一种复合阻碳涂层材料及其在基体上制备复合阻碳涂层的方法，该复合阻碳涂层材料由过渡层和阻碳层组成，所述过渡层为SiC或Mo材料，所述阻碳层为Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>材料。所述过渡层厚...
徐惠彬龚路杰周春根高明张虎宫声凯
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