由于不同的照明条件、复杂的大气环境等因素,相同端元的光谱特征在图像的不同位置呈现出可见的差异,这种现象被称为端元的光谱变异性。在相当大的场景中,端元的变异性可能很大,但在适度的局部同质区内,变异性往往很小。扰动线性混合模型(Perturbed Linear Mixing Model,PLMM)在解混的过程中可以减轻端元变异性造成的不利影响,但是对缩放效应造成的变异性的处理能力较弱。为此,本文改进了扰动线性混合模型,引入了尺度因子以处理缩放效应造成的变异性,并结合超像素分割算法划分局部同质区,然后设计出基于局部同质区共享端元变异性的解混算法(Shared Endmember Variability in Unmixing,SEVU)。与扰动线性混合模型,扩展线性混合模型(Extended Linear Mixing Model,ELMM)等算法相比,所提SEVU算法在合成数据集上平均端元光谱角距离(mean Spectral Angle Distance,mSAD)和丰度均方根误差(abundance Root Mean Square Error,aRMSE)最优,分别为0.0855和0.0562;在Jasper Ridge和Cuprite真实数据集上mSAD是最优的,分别为0.0603和0.1003。在合成数据集和两个实测数据集上的实验结果验证了SEVU算法的有效性。
