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唐培新

作品数：24 被引量：8H指数：1
供职机构：安泰科技股份有限公司更多>>
相关领域：一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 22篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 13篇合金
  • 10篇靶材
  • 7篇偏析
  • 6篇等静压
  • 6篇合金粉
  • 6篇合金粉末
  • 5篇热等静压
  • 5篇溅射
  • 5篇粉末冶金
  • 5篇铬
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 4篇锻造
  • 4篇锻造温度
  • 4篇轧制温度
  • 4篇熔炼
  • 4篇熔炼过程
  • 4篇钛铝
  • 4篇脱气
  • 4篇浆料

机构

  • 24篇安泰科技股份...

作者

  • 24篇唐培新
  • 21篇张凤戈
  • 16篇姚伟
  • 16篇姜海
  • 15篇张路长
  • 11篇郝权
  • 11篇赵雷
  • 8篇穆健刚
  • 8篇高明
  • 7篇鲍学进
  • 7篇何向晖
  • 6篇李群
  • 6篇王铁军
  • 6篇于宏新
  • 6篇缪磊
  • 4篇单秉权
  • 4篇王勤
  • 4篇王江廷
  • 3篇周武平
  • 2篇姚惠龙

传媒

  • 1篇新材料产业

年份

  • 3篇2017
  • 6篇2016
  • 6篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2012
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 3篇2008
共 24 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
铬铝合金靶材及其制备方法
本发明提供了一种铬铝合金靶材及其制备方法。其制备方法包括：制备合金粉末、冷等静压处理、脱气处理、热等静压处理以及机加工步骤。本发明的铬铝合金靶材具有致密度高、无气孔和偏析，组织均匀，晶粒细小等优点，适用于多种刀具、模具涂...
唐培新张凤戈张路长姚伟姜海赵雷高明郝权孙继洲
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钛铝铬合金靶材及其制备方法
本发明提供了一种钛铝铬合金靶材及其制备方法。该合金靶材按原子百分比由以下成分组成：钛5-75%，铝10-90%，铬1-20%。其制备方法包括：制备合金粉末、冷等静压处理、脱气处理、热等静压处理以及机加工步骤。本发明的钛铝...
王铁军唐培新张路长孙继洲郝权赵雷何向晖
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铬铝硅合金靶材及其制备方法
本发明提供了一种铬铝硅合金靶材及其制备方法。该合金靶材按原子百分比由以下成分组成：铬5-75%，铝10-90%，硅1-20%。其制备方法包括：制备合金粉末、冷等静压处理、脱气处理、热等静压处理以及机加工步骤。本发明的铬铝...
张凤戈唐培新姚伟张路长姜海赵雷高明
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一种磁控溅射Co－Cr－Ta合金靶的制造方法
本发明属于冶金制备领域，特别涉及一种磁控溅射Co-Cr-Ta合金靶的制造方法。该方法以99.95%的电解钴，99.9%的电解铬，99.9%的钽为原料，经真空熔炼，铸锭、锻造，轧制，热处理(或经真空熔炼，铸锭，轧制，热处理...
于宏新周武平穆健刚李群姚伟唐培新鲍学进单秉权王勤
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一种磁控溅射Fe－Co合金靶的制造方法
本发明属于冶金制备领域，特别涉及一种磁控溅射Fe-Co合金靶的制造方法。该方法以99.97%的电解钴和99.95%的纯铁为原料，经真空熔炼、铸锭、锻造、轧制、矫直，然后机加工成成品。合金成分wt%范围为：Fe 25-75...
穆健刚张凤戈于宏新李群姚伟唐培新鲍学进单秉权王勤
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一种高致密铬钨合金靶材的制备方法
本发明属于粉末冶金材料制备技术领域，提供一种高致密铬钨合金靶材的制备方法。该铬钨合金靶材包括以下原子百分比的成分：铬80～99％，钨1～20％。该铬钨合金靶材的制备方法为：将钨粉还原后，和铬粉通过预合金粉末制备、装包套、...
张路长张凤戈郝权姜海唐培新何向晖赵雷缪磊
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计算机信息存储用钴基合金靶材的研制
周武平张凤戈穆建刚李建奎王铁军姚伟姜海唐培新常代展鲍学进王雷
21世纪是经济信息化、信息数字化的高科技时代。信息超高密度储存和高速传输的要求，推动信息高技术的进一步发展。计算机硬盘正是信息存储重要的介质之一，它是由众多膜层层叠而成，其中有软磁层、记录层、介质层、保护层等。每一层都是...
关键词：
关键词：计算机硬盘
高致密度氧化锌基靶材及其制备方法
本发明公开了一种高致密度氧化锌基靶材及其制备方法。该方法依次包括如下步骤：混料步骤：向原料中加入粘结剂和水，混合均匀，得到均匀浆料，然后将所述浆料进行干燥并制粉，得到粒度分布均匀的干燥粉末颗粒；脱粘结剂及除气步骤：将所述...
张凤戈高明唐培新张路长郝权缪磊王江廷姜海姚伟
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一种钛铝合金靶材的粉末冶金制备方法
本发明属于粉末冶金制备领域，特别涉及钛铝合金靶材的粉末冶金制备方法。该钛铝合金靶材成分(原子比)为：Ti∶Al＝80％∶20％～Ti∶Al＝20％∶80％。上述钛铝合金靶材的粉末冶金制备方法是采用雾化方法得到的钛铝合金粉...
张凤戈姚伟唐培新李群姜海张路长穆健刚于宏新鲍学进孙继洲
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溅射靶材的应用及发展前景被引量：8
2010年
溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域，不同领域需要的靶材各不相同。溅射靶材根据成分可以分为纯金属靶材、合金靶材、氧化物靶材、硅化物靶材等多个品种；
迟伟光张凤戈王铁军熊宁穆健刚唐培新易操
关键词：溅射靶材多弧离子镀太阳能电池磁控溅射溅射沉积
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