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常靖华

作品数:3 被引量:12H指数:3
供职机构:北京工业大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇气相沉积
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇
  • 1篇导电
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇温度
  • 1篇耐磨
  • 1篇化学气相沉积...
  • 1篇CVD
  • 1篇沉积层

机构

  • 3篇北京工业大学

作者

  • 3篇常靖华
  • 2篇马捷
  • 2篇王从曾
  • 1篇王芦燕
  • 1篇刘玮玮

传媒

  • 2篇中国表面工程

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
化学气相沉积钨锭工艺研究被引量:4
2007年
以WF6和H2为原料,粉末冶金钨板为基体,采用热丝开管气流化学气相沉积试验装置,成功地制备出可变形钨锭。试验分析表明:钨锭纯度可达99.9%以上,密度大于19.0g/cm3,硬度为400~500HV,具有良好的加工塑性。研究了钨锭在轧制变形后组织性能变化,以及影响其热轧性能的因素。
马捷常靖华王从曾王芦燕
关键词:化学气相沉积
CVD温度对钨沉积层组织性能的影响被引量:6
2008年
以WF6和H2为反应气体,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钨涂层。分析研究了沉积温度对沉积层组织、结构、表面形貌及涂层致密度、硬度、耐磨性能的影响。试验结果表明:随着温度升高,沉积速率加快,涂层组织逐渐由柱状晶转变为树枝晶,表面粗糙度显著增加,膜层致密度、硬度下降,耐磨性降低。化学气相沉积钨的最佳工艺温度范围为550~650℃。
马捷刘玮玮王从曾常靖华
关键词:化学气相沉积
化学气相沉积法制备钨耐磨导电涂层工艺及应用研究
难熔金属钨及其合金因具有良好的导热、导电性能,膨胀系数低、高温强度高、低蒸汽压和耐磨、耐腐蚀等特性而在冶金、电子、航空和宇航工业、核工业以及化学工业等领域有着广泛的应用。 本课题主要研究化学气相沉积工艺对沉积钨...
常靖华
关键词:气相沉积法
文献传递
共1页<1>
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