黄烽
- 作品数：8 被引量：8H指数：2
- 供职机构：中国科学技术大学信息科学技术学院合肥微尺度物质科学国家实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>
- 氢气气氛中后续退火处理对ZnO:Al薄膜光电性能的影响
- 2010年
- 利用自由基辅助磁控溅射法在载玻片衬底上制备了透明导电ZnO:Al薄膜(简称AZO薄膜).研究了氢气气氛中后续退火处理对Al掺杂效率以及AZO薄膜性能的影响.研究结果表明,退火处理提高Al的掺杂效率、降低中性杂质浓度,从而提高了AZO薄膜的导电性能.AZO薄膜550℃下在H2气氛中退火处理后,其电阻率为6.5×10-4Ω·cm,550nm波长的透射率为85.7%,载流子浓度为3.3×1020cm-3,迁移率为29.7cm2·V-1·s-1.
- 甘柳忠吴炳俊黄烽李明谢斌
- 关键词：AZO薄膜
- 一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法
- 本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为14-50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5-9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化...
- 黄烽王海千李明谢斌侯建国宋亦周姜友松
- 文献传递
- 新型功能光学薄膜的磁控溅工艺及物性研究
- 光学功能薄膜涉及到光电产业、国防、环境科学等众多领域,具有很强的应用背景。本文利用磁控溅射技术制备了几种新型光学功能薄膜,主要包括:SiO_x薄膜、YSZ耐高温光学薄膜、TiO_2光催化和自清洁功能薄膜。通过对材料的筛选...
- 黄烽
- 关键词：光学薄膜热稳定性光催化超亲水
- 文献传递
- 一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法
- 本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为10－50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5－9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化...
- 黄烽王海千李明谢斌侯建国宋亦周姜友松
- 文献传递
- 在反应磁控溅射过渡区制备高反射膜的工艺控制被引量：4
- 2009年
- 用反应磁控溅射法制备了Ta2O5和SiO2的单层膜和多层高反射薄膜,研究了在过渡区制备高质量光学薄膜的影响因素和机制,探讨了制备高质量光学薄膜的工艺,并引入了一种结合拟合方法的被动控制技术来实现在磁控溅射过渡区制备高质量的光学多层膜。结果表明,在反应磁控溅射过渡区制备的光学薄膜不仅具有比氧化区更高的沉积速率,而且具有更高的折射率和更低的光损耗。在过渡区镀制光学多层膜时速率的变化与溅射电压的漂移有关,并且可以通过监测溅射电压随时间的变化结合拟合算法加以修正。在表面均方根粗糙度为0.56 nm的石英基片上,采用过渡区镀膜和膜厚修正制备了40层的Ta2O5/SiO2高反膜,通过光腔衰荡光谱方法测得的反射率达到99.96%。
- 张盛武黄烽李明宋秋明谢斌王海千赵东锋陈旸姜友松宋亦周
- 关键词：反应磁控溅射过渡区高反膜
- 新型功能光学薄膜的磁控溅射工艺及物性研究
- 光学功能薄膜涉及到光电产业、国防、环境科学等众多领域，具有很强的应用背景。本文利用磁控溅射技术制备了几种新型光学功能薄膜，主要包括：SiOx薄膜、YSZ耐高温光学薄膜、TiO2光催化和自清洁功能薄膜。通过对材料的筛选，对...
- 黄烽
- 关键词：磁控溅射热稳定性TIO2光催化
- 文献传递
- 反应磁控溅射制备SiOx渐变折射率红外梳状滤光片被引量：4
- 2009年
- 梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件,其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺,改变沉积SiO_x(0≤x≤2)膜氧化程度,获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的SiO_x渐变折射率薄膜材料。通过调制膜层折射率振幅和引入膜层-外部介质折射率匹配层,成功地设计并制备了具有较好光学性能的SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片光学薄膜器件。使用单一的硅溅射靶材,通过改变氧化程度获得可变折射率材料的方法,为特殊光学薄膜器件的制备提供了一种经济实用的工艺路线。
- 宋秋明黄烽李明谢斌王海千姜友松宋亦周
- 关键词：渐变折射率反应磁控溅射SIOX
- 磁控溅射制备梯度折射率硅氧化物材料光学薄膜
- 硅氧化物SiOx（0≤X≤2）具有良好的电学和光学特性,特别是Si与SiO在红外光学波段有良好的光学透过率,所以它们又广泛应用于天文和军事等红外光学领域。梯度折射率材料对于设计制备特殊的光学多层膜器件rugate fil...
- 宋秋明黄烽李明谢斌王海千
- 文献传递
