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佘辉

作品数:3 被引量:3H指数:1
供职机构:空军航空大学更多>>
发文基金:吉林省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇膜结构
  • 2篇SI3N4
  • 2篇CRN
  • 1篇电子结构
  • 1篇断裂韧性
  • 1篇韧性
  • 1篇偏压
  • 1篇子结构
  • 1篇微观结构
  • 1篇力学性能
  • 1篇模拟计算
  • 1篇SI
  • 1篇力学性

机构

  • 3篇空军航空大学
  • 2篇长春工业大学
  • 1篇上海理工大学

作者

  • 3篇佘辉
  • 3篇白晓明
  • 2篇濮春英
  • 2篇刘有军
  • 2篇张成顺
  • 1篇刘廷禹
  • 1篇刘长捷
  • 1篇李春萍

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇材料导报
  • 1篇纳米科技

年份

  • 2篇2013
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
偏压对CrN/Si_3N_4纳米多层膜结构、硬度和断裂韧性的影响被引量:2
2013年
利用磁控溅射法在不同基底偏压条件下制备了CrN/Si3N4纳米多层膜,分别用X射线衍射仪、原子力显微镜及纳米压痕仪表征多层膜的微观结构及力学性能,结果表明,衬底偏压对CrN/Si3N4纳米多层膜微观结构、界面结构、硬度和磨损性能有重要影响。漂浮电位时多层膜界面粗糙,CrN呈(200)、(111)共同生长,硬度和弹性模量低,有偏压且变化时界面宽度和粗糙度变化不大,硬度和模量变化的主要原因是不同衬底偏压下的晶格畸变导致两层材料弹性模量变化和晶粒尺寸变化。基底偏压的优化有助于改善涂层的屈服应力和断裂韧性。
白晓明张成顺佘辉刘有军濮春英
关键词:CRNSI3N4
衬底偏压对CrN/Si3N4纳米多层膜结构和力学性能的影响
2013年
采用磁控溅射法在不同基底偏压条件下制备了CrN/Si3N4纳米多层膜,用x射线衍射仪、原子力显微镜及纳米压痕仪表征,结果表明,衬底偏压对CrN/Si3N4纳米多层膜微观结构、界面结构、硬度和磨损性能有重要影响;漂浮电位时,导致多层膜界面粗糙,CrN呈(200)、(111)共同生长,硬度和弹性模量低;当偏压变化时,界面宽度和粗糙度变化不大,硬度和模量变化的主要原因是不同衬底偏压下的晶格畸变导致两层材料弹性模量变化和晶粒尺寸变化。与漂浮电位相比,涂层的屈服应力和断裂韧性有所增强。
白晓明张成顺佘辉刘有军
关键词:CRNSI3N4微观结构力学性能
碘化铯晶体中电子型色心的电子结构研究被引量:1
2010年
运用以密度泛函理论为基础的相对论性离散变分方法(DV-Xα)模拟计算了完整的和含有F心、F+心以及F2心的碘化铯(CsI)晶体的电子结构,得到了含F心和F+心以及F2心的CsI晶体电子态密度分布以及它们可能产生的光学跃迁模式.计算结果表明,含F心和F2心的CsI晶体的禁带宽度明显变窄,F心和F2心的能级都出现在禁带中并且作为施主能级位于导带底部,利用过渡态理论计算得到其能级向Cs的5d轨道发生光学跃迁,能量跃迁值分别为1.69eV和1.15eV,该结果与实验结果完全一致,F+心没有能级出现在禁带中.计算结果从理论上成功地解释了碘化铯晶体经过辐照后电子型色心所产生的吸收带起源问题.
濮春英刘廷禹刘长捷白晓明李春萍佘辉
关键词:电子结构模拟计算
共1页<1>
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