冉坐
- 作品数：5 被引量：6H指数：1
- 供职机构：广东工业大学物理与光电工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金广东省科技计划工业攻关项目广东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 一种新型投影曝光调焦方法被引量：1
- 2013年
- 为研究大面积激光投影光刻的调焦,利用Zemax光学设计软件模拟离焦对光程差(OPD)和调制传递函数(MTF)的影响,分析二者对投影曝光图形质量的影响,给出系统最大的离焦量值。提出一种利用显微镜的调焦方法,分析此方法的调焦误差主要来自于显微镜景深,根据景深表达式和系统最大离焦量值,选择一款景深不大于系统最大离焦量的显微镜来构建调焦系统,并基于该调焦系统进行光刻实验。实验结果表明:利用该方法对投影成像光刻进行调焦,无论是否离焦,边缘视场与中心视场的MTF均有差异,分辨率也有差异,但这种差异不影响光刻图形的质量。
- 冉坐周金运雷亮周亚梅邓亚飞
- 关键词：投影光刻调制传递函数调焦
- 应用于光刻领域中的固态紫外激光源的制作被引量：1
- 2012年
- 以半导体侧泵钇铝石榴石激光器为泵浦源,采用腔内泵浦两块三硼酸铯晶体,产生满足高功率与高光束质量要求的三倍频355nm紫外激光.通过使用法拉第旋转器谐振腔优化设计与热效应补偿提高输出光的光束质量,并且使用体光栅作为输出镜,在实现线宽窄化同时保持准相位匹配的高效性能.该光刻用紫外激光源成功地替代准分子激光器,使用在一套大面积亚纳米级投影式光刻系统上,工作时紫外光输出功率为4.37W,光束质量因子为2.27.
- 雷亮李凡林清华周金运冉坐
- 关键词：半导体工业光刻技术紫外激光
- 投影光刻调焦及DMD无掩模光刻成像研究
- 光刻工艺中，光刻物镜的焦深往往只有几微米到几十微米左右，寻找焦面并非一件轻而易举的事，若焦面未找准，会导致光刻图形模糊不清，严重影响曝光质量。因而，研究合理的调焦技术对于光刻工艺是十分重要的;另外，随着光刻图形特征尺寸越...
- 冉坐
- 关键词：光刻工艺投影物镜
- 文献传递
- 调制因子对拉曼-纳斯声光衍射的影响被引量：1
- 2013年
- 通过建立拉曼-纳斯衍射模型,运用数值模拟法,获得了拉曼-纳斯声光衍射的各级光强分布规律。表明调制因子对拉曼-纳斯衍射现象的产生有重大作用,且随着调制因子的增加,各衍射级的光强相对系数变化明显,且各级衍射光强变得匀滑。同时进行了相应的实验测试,实验结果与理论分析一致。
- 周亚梅周金运雷亮冉坐邓亚飞林清华
- 关键词：衍射光强声光器件
- 新型大面积PCB光刻投影物镜设计被引量：3
- 2013年
- 针对大面积且高密度PCB光刻,利用ZEMAX光学设计软件,设计了一种8片式光刻投影物镜。该物镜采用对称双高斯结构,放大倍率为-1,数值孔径NA=0.06,单次曝光面积Φ=80mm,具有优于7μm的分辨力和120μm的焦深。通过对该镜头进行公差分析,表明最紧公差为部分元件倾斜要小于0.017°。用MonteCarlo方法模拟了制造50组镜头的成像质量,得到在空间频率72line/mm处,90%的镜头的MTF>0.58,因此加工装配时能保证90%以上的成品率。
- 邓亚飞周金运雷亮冉坐周亚梅
- 关键词：光刻投影物镜
